Field emission from MoO3 nanobelts

Applied Physics Letters

Volumn 81, Issue 26, 2002, Pages 5048-5050

  Li, Y B ^a   Bando, Y ^a   Golberg, D ^a   Kurashima, K ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANODES; CURRENT DENSITY; MOLYBDENUM COMPOUNDS; SILICON WAFERS; SINGLE CRYSTALS;

FIELD EMISSIONS;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 0037164781     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1532104     Document Type: Article

References (18)

1. J. M. Bonard, J. P. Salvetat, T. Stockli, W. A. de Heer, L. Forro, and A. Chatelain, Appl. Phys. Lett. 73, 918 (1998).
2. J. T. L. Thong, C. H. Oon, W. K. Eng, W. D. Zhang, and L. M. Gan, Appl. Phys. Lett. 79, 2811 (2001).
3. Q. H. Wang, M. Yan, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 78, 1294 (2001).
4. C. H. Poa, S. R. P. Silva, R. C. P. Watts, W. K. Hsu, H. W. Kroto, and D. R. M. Walton, Appl. Phys. Lett. 80, 3189 (2002).
5. Z. W. Pan, H. L. Lai, F. C. K. Au, X. F. Duan, W. Y. Zhou, W. Shi, N. Wang, C. S. Lee, W. B. Wong, S. T. Lee, and S. S. Xie, Adv. Mater. 12, 1186 (2000).
6. Z. S. Wu, S. Z. Deng, N. S. Xu, J. Chen, J. Zhou, and J. Chen, Appl. Phys. Lett. 80, 3829 (2002).
7. K. W. Wong, X. T. Zhou, Frederick C. K. Au, H. L. Lai, C. S. Lee, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 75, 2918 (1999).
8. F. G. Tarntair, C. Y. Wen, L. C. Chen, J. J. Wu, K. H. Chen, P. F. Kuo, S. W. Chang, Y. F. Chen, W. K. Hong, and H. C. Chang, Appl. Phys. Lett. 76, 2630 (2000).
9. J. Chen, S. Z. Deng, N. S. Xu, S. Wang, X. Wen, S. Yang, C. Yang, J. Wang, and W. Ge, Appl. Phys. Lett. 80, 3620 (2002).
10. Y. Lee, C. Choi, Y. Jang, E. Kim, B. Ju, N. Min, and J. Ahn, Appl. Phys. Lett. 81, 745 (2002).
11. Z. W. Pan, Z. R. Dai, and Z. L. Wang, Science 291, 1947 (2001).
12. J. N. Yao, K. Hashimoto, and A. Fujishima, Nature (London) 355, 624 (1992).
13. Y. A. Yang, Y. W. Cao, B. H. Loo, J. N. Yao, J. Phys. Chem. B 102, 9392 (1998).
14. H. C. Zeng, F. Xie, K. C. Wong, and K. A. R. Mitchell, Chem. Mater. 14, 1788 (2002).
15. Y. B. Li, Y. Bando, T. Sato, and K. Kurashima, Appl. Phys. Lett. 81, 144 (2002).
16. N. Koenigsfeld, R. Kalish, A. Cimmino, D. Hoxley, S. Prawer, and I. Yamada, Appl. Phys. Lett. 79, 1288 (2001).
17. Frederick C. K. Au, K. W. Wong, Y. H. Tang, Y. F. Zhang, I. Bello, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 75, 1700 (1999).
18. J. Yu, E. G. Wang, and X. D. Bai, Appl. Phys. Lett. 78, 2226 (2001).