Deprotecting thioacetyl-terminated terphenyldithiol for assembly on gallium arsenide

Langmuir

Volumn 24, Issue 3, 2008, Pages 851-856

  Krapchetov, Dmitry A ^a   Ma, Hong ^b   Jen, Alex K Y ^b   Fischer, Daniel A ^c   Loo, Yueh Lin ^a,d  

^a The University of Texas at Austin   (United States)

^b UNIVERSITY OF WASHINGTON   (United States)

^c NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

^d Princeton University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ASSEMBLY SOLVENT; DEPROTECTING; STRUCTURAL ORGANIZATIONS;

ADSORPTION; AMMONIUM COMPOUNDS; CHARACTERIZATION; ETHANOL; FUNCTIONAL GROUPS; SOLVENTS;

SEMICONDUCTING GALLIUM ARSENIDE;

EID: 39449133301     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la702430j     Document Type: Article

References (50)

1. Aviram, A.; Ratner, M. A. Chem. Phys. Lett. 1974, 29, 277.
2. Karpovich, D. S.; Blanchard, G. J. Langmuir 1994, 10, 3315.
3. Ulman, A. Chem. Rev. 1996, 96, 1533.
4. Fischer, D.; Marti, A.; Hahner, G. J. Vac Sci. Technol., A 1997, 15, 2173.
5. Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M.; Allara, D. L.; Tao, Y. T.; Parikh, A. N.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 7152.
6. Kondoh, H.; Nambu, A.; Ehara, Y.; Matsui, F.; Yokoyama, T.; Ohta, T. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 12946.
7. Bengio, S.; Fonticelli, M.; Benitez, G.; Creus, A. H.; Carro, P.; Ascolani, H.;Zampieri, G.; Blum, B.; Salvarezza, R. C. J. Phys. Chem. B2005, 109, 23450.
8. Geissler, M.; Chen, J.; Xia, Y. Langmuir 2004, 20, 6993.
9. Baum, T.; Ye, S.; Uosaki, K. Langmuir 1999, 15, 8577.
10. Ye, S.; Li, G.; Noda, H.; Uosaki, K.; Osawa,M. Surf. Sci. 2003, 529, 163.
11. Tiberio, R. C.; Craighead, H. G.; Lercel, M.; Lau, T.; Sheen, C. W.; Allara, D. L. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 476.
12. Shaporenko, A.; Adlkofer, K.; Johansson, L. S. O.; Ulman, A.; Grunze, M.; Tanaka, M.; Zhamikov, M. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 17964.
13. McGuiness, C. L.; Shaporenko, A.; Mars, C. K.; Uppili, S.; Zharnikov, M.; Allara, D. L. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 5231.
14. Tour, J. M.; Jones, L.; Pearson, D. L.; Lamba, J. J. S.; Burgin, T. P.; Whitesides, G. M.; Allara, D. L.; Parikh, A. N.; Atre, S. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 9529.
15. Chen, J.; Reed, M. A.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M. Science 1999, 286, 1550.
16. Metzger, R. M. Ace. Chem. Res. 1999, 32, 950.
17. Kushmerick, J. G.; Holt, D. B.; Yang, J. C.; Naciri, J.; Moore, M. H.; Shashidhar, R. Phys. Rev. Lett. 2002, 89, 086802/1.
18. Seitz, O.; Boecking, T.; Salomon, A.; Gooding, J. J.; Cahen, D. Langmuir 2006, 22, 6915.
19. Kim, Y.-H.; Jang, S. S.; Goddard, W. A., III. J. Chem. Phys. 2005, 122, 244703/1.
20. Krapchetov, D. A.; Ma, H.; Jen, A. K. Y.; Fischer, D. A.; Loo, Y.-L. Langmuir 2005, 21, 5887.
21. McGuiness, C. L.; Shaporenko, A.; Zhamikov, M.; Walker, A. V.; Allara, D. L. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 4226.
22. Loo, Y.-L.; Lang, D. V.; Rogers, J. A.; Hsu, J. W. P. Nano Lett. 2003, 5, 913.
23. Hsu, J. W. P.; Loo, Y. L.; Lang, D. V.; Rogers, J. A. J. Vac. Sci. Technol., B 2003, 27, 1928.
24. Jiang, W.; Zhitenev, N.; Bao, Z.; Meng, H.; Abusch-Magder, D.; Tennant, D.; Garfunkel, E. Langmuir 2005, 21, 8751.
25. Weckenmann, U.; Mittler, S.; Naumann, K.; Fischer, R. A. Langmuir 2002, 18, 5479.
26. Donhauser, Z. J.; Mantooth, B. A.; Kelly, K. F.; Bumm, L. A.; Monnell, J. D.; Stapleton, J. J.; Price, D. W., Jr.; Rawlett, A. M.; Allara, D. L.; Tour, J. M.; Weiss, P. S. Science 2001, 292, 2303.
27. Krapchetov, D. A.; Ma, H.; Jen, A. K. Y.; Fischer, D. A.; Loo, Y.-L. Langmuir 2006, 22, 9491.
28. Lebedev, M. V.; Mayer, T.; Jaegermann, W. Surf. Sci. 2003, 547, 171.
29. Detailed information on the NIST/Dow Soft X-Ray Materials Characterization Facility at NSLS BNL; see http://www.nsls.bnl.gov/newsroom/ publications/newsletters/1996/96-nov.pdf.
30. Stohr, J. NEXAFS Spectroscopy; Springer: Berlin, 1992.
31. Ke, Y.; Milano, S.; Wang, X. W.; Tao, N.; Darici, Y. Surf Sci. 1998, 415, 29.
32. Bain, C. D.; Troughton, E. B.; Tao, Y. T.; Evall, J.; Whitesides, G. M.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1989, 111, 321.
33. Liao, S.; Shnidman, Y.; Ulman, A. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 3688.
34. Cai, L.; Yao, Y.; Yang, J.; Price, D. W., Jr.; Tour, J. M. Chem. Mater. 2002, 14, 2905.
35. Cai, L.; Bahr, J. L.; Yao, Y.; Tour, J. M. Chem. Mater. 2002, 14, 4235.
36. de Boer, B.; Meng, H.; Perepichka, D. F.; Zheng, J.; Frank, M. M.; Chabal, Y. J.; Bao, Z. Langmuir 2003, 79, 4272.
37. Niklewski, A.; Azzam, W.; Strunskus, T.; Fischer, R. A.; Woell, C. Langmuir 2004, 20, 8620.
38. Lau, K. H. A.; Huang, C.; Yakovlev, N.; Chen, Z. K.; O'Shea, S. J. Langmuir 2006, 22, 2968.
39. Stohr, J.; Outka, D. A. Phys. Rev. B 1987, 36, 7891.
40. Banerjee, S.; Hemraj-Benny, T.; Sambasivan, S.; Fischer, D. A.; Misewich, J. A.; Wong, S. S. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 8489.
41. Kinzler, M.; Schertel, A.; Haehner, G.; Woell, C.; Grunze, M.; Albrecht, H.; Holzhueter, G.; Gerber, T. J. Chem. Phys. 1994, 100, 7722.
42. Outka, D. A.; Stoehr, J.; Rabe, J. P.; Swalen, J. D. J. Chem. Phys. 1988, 88, 4076.
43. Schienoff, J. B.; Li, M.; Ly, H. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 12528.
44. Lavrich, D. J.; Wetterer, S. M.; Bernasek, S. L.; Scoles, G. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 3456.
45. Camillone, N.; Khan, K. A.; Osgood, R. M. Surf. Sci. 2000, 453, 83.
46. Bessolov, V. N.; Lebedev, M. V.; Novikov, E. B.; Tsarenkov, B. V. J. Vac Sci. Technol., B 1993, 11, 10.
47. Bessolov, V. N.; Konenkova, E. V.; Lebedev, M. V. J. Vac. Sci. Technol., B 1996, 14, 2761.
48. Lebedev, M. V. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 5427.
49. Lebedev, M. V. Semiconductors 2001, 35, 1291.
50. Lebedev, M. V. Prog. Surf. Sci. 2002, 70, 153.