Nanomixed TiO2-Ga2O3 thin films grown by plasma enhanced atomic layer deposition (peald) method

Integrated Ferroelectrics

Volumn 85, Issue 1, 2006, Pages 155-164

  Liu, G X ^a   Shan, F K ^a   Lee, W J ^a   Lee, G H ^a   Kim, I S ^a   Shin, B C ^a  

^a Dong Eui University   (South Korea)

Author keywords

Bandgap; Capacitance; Leakage current; Nanomixed thin films; PEALD; Transmittance

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CAPACITANCE; ENERGY GAP; FILM GROWTH; GALLIUM COMPOUNDS; LEAKAGE CURRENTS; SURFACE MORPHOLOGY; TITANIUM DIOXIDE;

NANOMIXED THIN FILMS; OXYGEN PLASMAS; PLASMA ENHANCED ATOMIC LAYER DEPOSITION; REACTANT SOURCES; TRANSMITTANCE;

THIN FILMS;

EID: 38849130160     PISSN: 10584587     EISSN: 16078489     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1080/10584580601085834     Document Type: Conference Paper

References (14)

1. P. A. Packan, Science 285, 2079 (1999).
2. M. Ritala, K. Kukli, A. Rahtu, P. I. Raisanen, M. Leskela, T. Sajavaara, and J. Keinonen, Science 288, 31 (2000).
3. T. Watanabe and H. Funakubo, Jpn. J. Appl. Phys. 39, 5211 (2000).
4. M. Leskela and L. Niinisto, Atomic Layer Epitaxy, edited by T. Suntola and M. Simpson (Blackie, London, 1990), p.1.
5. R. A. McKee, F. J. Walker, and M. F. Chisholm, Phys. Rev. Lett. 81, 3014 (1998).
6. W. J. Lee, W. C. Shin, B. G. Chae, S. O. Ryu, I. K. You, S. M. Cho, B. G. Yu, and B. C. Shin, Integr. Ferroelectr. 46, 275 (2002).
7. W. J. Lee, I. K. You, S. O. Ryu, B. G. Yu, K. I. Cho, S. G. Yoon, and C. Su. Lee, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 6941 (2001).
8. S. Yamamoto and S. Oda, Chem. Vap. Deposition 7, 7 (2001).
9. J. H. Kim, W. J. Lee, and S. G. Yoon, Integr. Ferroelectr. 68, 63 (2004).
10. W. S. Lau, K. K. Khaw, P. W. Qian N. P. Sandler, and P. K. Chu, J. Appl. Phys. 79, 8841 (1996).
11. J. J. Park, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim, B. C. Shin, and S. G. Yoon. Integr. Ferroelectri. 68, 129 (2004).
12. F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim, and B. C. Shin, Integr. Ferroelectr. 80, 197 (2006).
13. G. X. Liu, F. K. Shan, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim, B. C. Shin, H. S. Kim, and C. R. Cho, Integr. Ferroelectr. 81, 239 (2006).
14. F. K. Shan, G. X. Liu, W. J. Lee, G. H. Lee, I. S. Kim, and B. C. Shin, J. Appl. Phys. 98, 023504 (2005).