Probing carbon nanoparticles in CNx thin films using Raman spectroscopy

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 70, Issue 3, 2004, Pages

  Roy, Debdulal ^a   Chhowalla, Manish ^a   Hellgren, Niklas ^b   Clyne, T W ^a   Amaratunga, G A J ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

^b University of Illinois at Urbana Champaign   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON; NITRIC ACID DERIVATIVE;

ARTICLE; CORRELATION ANALYSIS; FILM; MICROWAVE OVEN; NANOPARTICLE; RAMAN SPECTROMETRY; SPECTRAL SENSITIVITY; TEMPERATURE; WAVEFORM;

EID: 37649029742     PISSN: 01631829     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.70.035406     Document Type: Article

References (30)

1. S. Aisenberg and R. Chabot, J. Appl. Phys. 42, 2953 (1971).
2. M. Chhowalla, Y. Yin, G. A. J. Amaratunga, and D. R. McKenzie, Appl. Phys. Lett. 69, 2344 (1996).
3. X. L. Peng and T. W. Clyne, Thin Solid Films 312, 207 (1998).
4. N. Hellgren, M. P. Johansson, E. Broitman, P. Sandstrom, L. Hultman, and J. E. Sundgren, Phys. Rev. B 59, 5162 (1999).
5. N. Hellgren, M. P. Johansson, E. Broitman, P. Sandstrom, L. Hultman, and J. E. Sundgren, Thin Solid Films 382, 146 (2001).
6. N. Hellgren, M. P. Johansson, B. Hjorvarsson, E. Broitman, M. Ostblom, B. Liedberg, L. Hultman, and J. E. Sundgren, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2349 (2000).
7. S. R. P. Silva, J. Robertson, G. A. J. Amaratunga, B. Rafferty, L. M. Brown, J. Schwan, D. F. Franceschini, and G. Mariotto, J. Appl. Phys. 81, 2626 (1997).
8. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Science 245, 841 (1989).
9. L. Hultman, S. Stafström, Z. Czigány, J. Neidhardt, N. Hellgren, I. F. Brunell, K. Suenaga, and C. Colliex, Phys. Rev. Lett. 87, 225503 (2001).
10. G. A. J. Amaratunga, M. Chhowalla, C. J. Kiely, I. Alexandrou, R. Aharonov, and M. Devenish, Nature (London) 383, 321 (1996).
11. I. Alexandrou, H. J. Scheibe, C. J. Kiely, A. J. Papworth, G. A. J. Amaratunga, and B. Schultrich, Phys. Rev. B 60, 10903 (1999).
12. M. Neuhaeuser, H. Hilgers, H. Joeris, R. White, and J. Windeln, Diam. Relativ. Mater. 9, 1500 (2000).
13. F. Li, and J. S. Lannin, Appl. Phys. Lett. 61, 2116 (1992).
14. M. Y. Chen, D. L. X. Lin, V. P. Dravid, Y. Chung, M. Wong, and W. D. Sproul, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 521 (1993).
15. S. E. Rodil, A. C. Ferrari, J. Robertson, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 89, 5425 (2001).
16. F. Parmigiani, E. Kay, and H. Seki, J. Appl. Phys. 64, 3031 (1988).
17. H. Sjöström, L. Hultman, J.-E. Sundgren, S. V. Hainsworth, T. F. Page, and G. S. A. M. Theunissen, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 56 (1996).
18. M. A. Tamor and W. C. Vassel, J. Appl. Phys. 76, 3823 (1994).
19. F. Tuinstra and J. L. Koenig, J. Chem. Phys. 53, 1126 (1970).
20. A. K. M. S. Chowdhury, D. C. Cameron, and M. S. J. Hashmi, Thin Solid Films 332, 62 (1998).
21. S. Kumar and T. L. Tansley, Thin Solid Films 256, 44 (1995).
22. D. Roy, M. Chhowalla, H. Wang, N. Sano, I. Alexandrou, T. W. Clyne, and G. A. J. Amaratunga, Chem. Phys. Lett. 373, 52 (2003).
23. R. Al-Jishi and G. Dresselhaus, Phys. Rev. B 26, 4514 (1982).
24. E. D. Obraztsova, M. Fujii, S. Hayashi, V. L. Kuzentsov, V. Butenko, and A. L. Chuvilin, Carbon 36, 821 (1998).
25. C. Thomsen and S. Reich, Phys. Rev. Lett. 85, 5214 (2000).
26. R. Saito, A. Jorio, A. G. Filho, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, and M. A. Pimenta, Phys. Rev. Lett. 88, 027401 (2002).
27. A. C. Ferrari and J. Robertson, Phys. Rev. B 61, 14095 (2000).
28. D. G. McCulloch and S. Prawer, J. Appl. Phys. 78, 3040 (1995).
29. D. G. McCulloch, S. Prawer, and A. Hoffman, Phys. Rev. B 50, 5905 (1994).
30. C. J. Torng, J. M. Sivertsenl, J. H. Judy, and C. Chang, J. Mater. Res. 5, 2490 (1990).