Evaporation of femtoliter sessile droplets monitored with nanomechanical mass sensors

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 111, Issue 45, 2007, Pages 13020-13027

  Arcamone, Julien ^a   Dujardin, Erik ^b   Rius, Gemma ^a   Pérez Murano, Francesc ^a   Ondarçuhu, Thierry ^b  

^a INSTITUTO DE MICROELECTRÓNICA DE BARCELONA   (Spain)

^b CEMES CNRS   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EVAPORATION; NANOMECHANICS; RESONATORS; SENSITIVITY ANALYSIS;

FEMTOLITER SESSILE DROPLETS; MACROSCOPIC MODELS; NANODISPENSING TECHNIQUES; NANOMECHANICAL MASS SENSORS;

DROPS;

EID: 36649010948     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp075714b     Document Type: Article

References (44)

1. Maxwell, J. C. Collected Scientific Papers; 1890; Vol. 11.
2. Picknett, R. G.; Bexon, R. J. Colloid Interface Sci. 1977, 61, 336.
3. Birdi, K. S.; Vu, D. T.; Winter, A. J. Phys. Chem. 1989, 93, 3702.
4. Rowan, S. M.; Newton, M. I.; McHale, G. J. Phys. Chem. 1995, 99, 13268.
5. Erbil, H. Y.; McHale, G.; Newton, M. I. Langmuir 2002, 18, 2636.
6. Bourges-Monnier, C.; Shanahan, M. E. R. Langmuir 1995, 11, 2820.
7. Kim, J. H.; Ahn, S. I.; Zin, W. C. Langmuir 2007, 23, 6163.
8. Fang, X. H.; Li, B. Q.; Petersen, E.; Ji, Y.; Sokolov, J. C.; Rafailovich, M. H. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 20554.
9. Soolaman, D. M.; Yu, H. Z. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 17967.
10. Meric, R. A.; Erbil, H. Y. Langmuir 1998, 14, 1915.
11. Hu, H.; Larson, R. G. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 1334.
12. Poulard, C.; Guena, G.; Cazabat, A. M. J. Phys.: Condens. Matter 2005, 17, S4213.
13. Sirringhaus, H.; Kawase, T.; Friend, R. H.; Shimoda, T.; Inbasekaran, M.; Wu, W.; Woo, E. P. Science 2000, 290, 2123.
14. Meister, A.; Liley, M.; Brugger, J.; Pugin, R.; Heinzelmann, H. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 6260.
15. Fang, A. P.; Dujardin, E.; Ondarcuhu, T., Nano Lett. 2006, 6, 2368.
16. Zimmermann, M.; Bentley, S.; Schmid, H.; Hunziker, P.; Delamarche, E. Lab Chip 2005, 5, 1355.
17. Leng, J.; Lonetti, B.; Tabeling, P.; Joanicot, M.; Ajdari, A. Phys. Rev. Lett. 2006, 96.
18. Deegan, R. D.; Bakajin, O.; Dupont, T. F.; Huber, G.; Nagel, S. R.; Witten, T. A. Phys. Rev. E: Stat. Phys., Plasmas, Fluids, Relat. Interdiscip. Top. 2000, 62, 756.
19. Deegan, R. D. Phys. Rev. E: Stat. Phys., Plasmas, Fluids, Relat. Interdiscip. Top. 2000, 61, 475.
20. He, J. Z. Q.; Gupta, S.; Emrick, T.; Russell, T. P.; Thiyagarajan, P. Small 2007, 3, 1214.
21. Fang, X. H.; Li, B. Q.; Petersen, E.; Seo, Y. S.; Samuilov, V. A.; Chen, Y.; Sokolov, J. C.; Shew, C. Y.; Rafailovich, M. H. Langmuir 2006, 22, 6308.
22. Belaubre, P.; Guirardel, M.; Garcia, G.; Pourciel, J. B.; Leberre, V.; Dagkessamanskaia, A.; Trevisiol, E.; Francois, J. M.; Bergaud, C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3122.
23. Joyce, M. J.; Todaro, P.; Penfold, R.; Port, S. N.; May, J. A. W.; Barnes, C.; Peyton, A. J. Langmuir 2000, 16, 4024.
24. Pham, N. T.; McHale, G.; Newton, M. I.; Carroll, B. J.; Rowan, S. M. Langmuir 2004, 20, 841.
25. Haschke, T.; Bonaccurso, E.; Butt, H. J.; Lautenschlager, D.; Schonfeld, F.; Wiechert, W. J. Micromech. Microeng. 2006, 16, 2273.
26. Bonaccurso, E.; Butt, H. J. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 253.
27. Dohn, S.; Sandberg, R.; Svendsen, W.; Boisen, A. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 233501.
28. Bao, M. H. MicroMechanical Transducers; Elsevier; Amsterdam, 2000.
29. Tamayo, J.; Ramos, D.; Mertens, J.; Calleja, M. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 224104.
30. Chen, G. Y.; Thundat, T.; Wachter, E. A.; Warmack, R. J. J. Appl. Phys. 1995, 77, 3618.
31. Ramos, D.; Tamayo, J.; Mertens, J.; Calleja, M.; Zaballos, A. J. Appl. Phys. 2006, 100, 106105.
32. Arcamone, J. Integration of nanomechanical sensors on CMOS by nanopatterning methods; Ph.D. Thesis, UAB/INSA; Barcelona, 2007.
33. Arcamone, J.; van den Boogaart, M. A. F.; Serra-Graells, F.; Hansen, S.; Brugger, J.; Torres, F.; Abadal, G.; Barniol, N.; Perez-Murano, F. "Full-wafer integration of NEMS on CMOS by nanostencil lithography"; IEEE IEDM, 2006, San Francisco, CA.
34. Arcamone, J.; Misischi, B.; Serra-Graells, F.; van den Boogaart, M. A. F.; Brugger, J.; Torres, F.; Abadal, G.; Barniol, N.; Perez-Murano, F. IEEE Trans. Circuits Syst. II 2007, 54, 377.
35. Zhao, J. H.; Bridges, G. E.; Thomson, D. J. J. Vac. Sci. Technol. A 2006, 24, 732.
36. Tilmans, H. A. C.; Elwenspoek, M.; Fluitman, J. H. J. Sens. Actuators, A 1992, 30, 35.
37. Buks, E.; Yurke, B. Phys. Rev. E: Stat. Phys., Plasmas, Fluids, Relat. Interdiscip. Top. 2006, 74, 046619.
38. Li, M.; Tang, H. X.; Roukes, M. L. Nat. Nanotechnol. 2007, 2, 114.
39. Yang, Y. T.; Callegari, C.; Feng, X. L.; Ekinci, K. L.; Roukes, M. L. Nano Lett. 2006, 6, 583.
40. Ondarcuhu, T.; Nicu, L.; Cholet, S.; Bergaud, C.; Gerdes, S.; Joachim, C. Rev. Sci. Instrum. 2000, 71, 2087.
41. Bourges-Monnier, C.; Shanahan, M. E. R. C. R. Acad. Sci. Series II 1993, 316, 311.
42. Cammenga, H. K.; Schulze, F. W.; Theuerl, W. J. Chem. Eng. Data 1977, 22, 131.
43. Fuller, E. N.; Schettler, P. D.; Giddings, J. C. Ind. Eng. Chem. 1966, 58, 18.
44. Ray, A. K.; Lee, J.; Tilley, H. L. Langmuir 1988, 4, 631.