-
2
-
-
20344391143
-
-
A. Nagai, G. Asano, J. Minamidate, C. J. Choi, C-R. Cho, Y. Park, and H. Funakubo, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 830, D2.2 (2005).
-
(2005)
Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
, vol.830
, pp. 22
-
-
Nagai, A.1
Asano, G.2
Minamidate, J.3
Choi, C.J.4
Cho, C.-R.5
Park, Y.6
Funakubo, H.7
-
3
-
-
0036805321
-
-
C. S. Hwang, S. Y. No, J. Park, H. J. Kim, H. J. Cho, Y. K. Han, and K. Y. Oh, J. Electrochem. Soc., 149, G585 (2002).
-
(2002)
J. Electrochem. Soc.
, vol.149
, pp. 585
-
-
Hwang, C.S.1
No, S.Y.2
Park, J.3
Kim, H.J.4
Cho, H.J.5
Han, Y.K.6
Oh, K.Y.7
-
4
-
-
33846298500
-
-
T. Watanabe, S. Hoffmann-Eifert, S. Mi, C. Jia, R. Waser, and C. S. Hwang, J. Appl. Phys., 101, 014114 (2007).
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.101
, pp. 014114
-
-
Watanabe, T.1
Hoffmann-Eifert, S.2
Mi, S.3
Jia, C.4
Waser, R.5
Hwang, C.S.6
-
5
-
-
0035842769
-
-
S. R. Summerfelt, T. S. Moise, G. Xing, L. Colombo, T. Sakoda, S. R. Gilbert, A. L. S. Loke, S. Ma, L. A. Wills, R. Kavari, Appl. Phys. Lett., 79, 4004 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.79
, pp. 4004
-
-
Summerfelt, S.R.1
Moise, T.S.2
Xing, G.3
Colombo, L.4
Sakoda, T.5
Gilbert, S.R.6
Loke, A.L.S.7
Ma, S.8
Wills, L.A.9
Kavari, R.10
-
6
-
-
33846319057
-
-
T. Watanabe, S. Hoffmann-Eifert, C. S. Hwang, and R. Waser, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 902E, 0902-T04-07.1 (2006).
-
(2006)
Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
, vol.902
-
-
Watanabe, T.1
Hoffmann-Eifert, S.2
Hwang, C.S.3
Waser, R.4
-
7
-
-
33750111873
-
-
T. Watanabe, S. Hoffmann-Eifert, C. S. Hwang, and R. Waser, J. Electrochem. Soc., 153, F199 (2006).
-
(2006)
J. Electrochem. Soc.
, vol.153
, pp. 199
-
-
Watanabe, T.1
Hoffmann-Eifert, S.2
Hwang, C.S.3
Waser, R.4
-
8
-
-
35548935887
-
-
IEEE, New York
-
T. Watanabe, S. Hoffmann-Eifert, R. Waser, and C. S. Hwang, in Proceedings of 15th IEEE International Symposium on the Applications of Ferroelectrics, IEEE, New York (2006), In press.
-
(2006)
Proceedings of 15th IEEE International Symposium on the Applications of Ferroelectrics
-
-
Watanabe, T.1
Hoffmann-Eifert, S.2
Waser, R.3
Hwang, C.S.4
-
9
-
-
34547159401
-
-
T. Watanabe, S. Hoffmann-Eifert, L. Yang, A. Rüdiger, C. Kügeler, C. S. Hwang, and R. Waser, J. Electrochem. Soc., 154, G134 (2007).
-
(2007)
J. Electrochem. Soc.
, vol.154
, pp. 134
-
-
Watanabe, T.1
Hoffmann-Eifert, S.2
Yang, L.3
Rüdiger, A.4
Kügeler, C.5
Hwang, C.S.6
Waser, R.7
-
10
-
-
28144458577
-
-
J. Harjuoja, A. Kosola, M. Putkonen, and L. Niinistö, Thin Solid Films, 496, 346 (2006).
-
(2006)
Thin Solid Films
, vol.496
, pp. 346
-
-
Harjuoja, J.1
Kosola, A.2
Putkonen, M.3
Niinistö, L.4
-
11
-
-
0001074791
-
-
H. Seim, H. Mölsä, M. Nieminen, H. Fjellvg, and L. Niinistö, J. Mater. Chem., 7, 449 (1997).
-
(1997)
J. Mater. Chem.
, vol.7
, pp. 449
-
-
Seim, H.1
Mölsä, H.2
Nieminen, M.3
Fjellvg, H.4
Niinistö, L.5
-
12
-
-
0032594211
-
-
M. Vehkamäki, T. Hatanpää, T. Häanninen, M. Ritala, and M. Leskelä, Electrochem. Solid-State Lett., 2, 504 (1999).
-
(1999)
Electrochem. Solid-State Lett.
, vol.2
, pp. 504
-
-
Vehkamäki, M.1
Hatanpää, T.2
Häanninen, T.3
Ritala, M.4
Leskelä, M.5
-
13
-
-
0000303309
-
-
M. Schuisky, K. Kukli, M. Ritala, A. Hrsta, and M. Leskelä, Chem. Vap. Deposition, 6, 139 (2000).
-
(2000)
Chem. Vap. Deposition
, vol.6
, pp. 139
-
-
Schuisky, M.1
Kukli, K.2
Ritala, M.3
Hrsta, A.4
Leskelä, M.5
-
14
-
-
0034843809
-
-
M. Nieminen, T. Sajavaara, E. Rauhala, M. Putkonen, and L. Niinistö, J. Mater. Chem., 11, 2340 (2001).
-
(2001)
J. Mater. Chem.
, vol.11
, pp. 2340
-
-
Nieminen, M.1
Sajavaara, T.2
Rauhala, E.3
Putkonen, M.4
Niinistö, L.5
-
15
-
-
0035658676
-
-
M. Nieminen, S. Lehto, and L. Niinistö, J. Mater. Chem., 11, 3148 (2001).
-
(2001)
J. Mater. Chem.
, vol.11
, pp. 3148
-
-
Nieminen, M.1
Lehto, S.2
Niinistö, L.3
-
16
-
-
0002678712
-
-
M. Vehkamäki, T. Hänninen, M. Ritala, M. Leskelä, T. Sajavaara, E. Rauhala, and J. Keinonen, Chem. Vap. Deposition, 7, 75 (2001).
-
(2001)
Chem. Vap. Deposition
, vol.7
, pp. 75
-
-
Vehkamäki, M.1
Hänninen, T.2
Ritala, M.3
Leskelä, M.4
Sajavaara, T.5
Rauhala, E.6
Keinonen, J.7
-
17
-
-
0000646519
-
-
M. Ritala, M. Leskelä, L. Niinistö, and P. Haussalo, Chem. Mater., 5, 1174 (1993).
-
(1993)
Chem. Mater.
, vol.5
, pp. 1174
-
-
Ritala, M.1
Leskelä, M.2
Niinistö, L.3
Haussalo, P.4
-
18
-
-
33846954795
-
-
G. W. Hwang, H. J. Lee, K. Lee, and C. S. Hwang, J. Electrochem. Soc., 154, G69 (2007).
-
(2007)
J. Electrochem. Soc.
, vol.154
, pp. 69
-
-
Hwang, G.W.1
Lee, H.J.2
Lee, K.3
Hwang, C.S.4
|