Single component chemically amplified resist based on dehalogenation of polymer

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

Volumn 6519, Issue PART 2, 2007, Pages

  Yamamoto, Hiroki ^a   Kozawa, Takahiro ^a   Tagawa, Seiichi ^a   Ohmori, Katsumi ^b   Sato, Mitsuru ^b   Komano, Hiroji ^b  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b TOKYO OHKA KOGYO CO LTD   (Japan)

Author keywords

Chemically amplified resist; Dehalogenation; Electron beam; Single component

Indexed keywords

COVALENT BONDS; DEHALOGENATION; ELECTRON BEAMS; LITHOGRAPHY; POLYMERS;

ACID GENERATORS; CHEMICALLY AMPLIFIED RESISTS; HYDROXYL GROUP;

PHOTORESISTS;

EID: 35148871351     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.711656     Document Type: Conference Paper

References (23)

1. H. Ito and C. G Willson, Polym. Eng. Sci. 23, 1012 (1983).
2. A. R. Neureuther, R. F. W. Pease, L. Yuan, K. Baghbani Parizi, H. Esfandyarpour, W. J. Poppe, J. A. Liddle, and E. H. Anderson, J. Vac. Sci. Technol. B 24, 1902 (2006).
3. P. Kruit and S. Steenbrink, J. Vac. Sci. Technol. B 23, 3033 (2005).
4. T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B 23, 2716 (2005).
5. A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, and H. B. Cao, Nanotechnology 17, 1543 (2006).
6. D. R. McKean, R. D. Allen, P. H. Kasai, U. P. Schaedeli and S. A. MacDonald, Proc. SPIE 1672, 94 (1992).
7. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 44, 5836 (2005).
8. J. L. Lenhart, D. A. Fischer, S. Sambasivan, E. K. Lin, R. L. Jones, C. L. Soles, W. Wu, D. L. Goldfarb, and M. Angelopoulos, Langmuir 21, 4007 (2005).
9. J. E. Hanson, E. Reichmanis, F. M. Houlihan, and T. X. Neenan, Chem. Mater. 4, 837 (1992).
10. H. Wu and K. E. Gonsalves, Adv. Mater. 13, 670 (2001).
11. T. Shinozuka, M Shirai, and M Tsunooka, Eur. Polym. J. 37, 1625 (2001).
12. M. D. Stewart, H. V Tran, G M. Schmid, T. B. Stachowiak, D. J. Becker, and C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2946 (2002).
13. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 31, 4301 (1992).
14. T. Kozawa and S. Tagawa, J. Appl. Phys. 99, 054509 (2006).
15. J. L. Dektar and N. P. Hacker, J. Am. Chem. Soc. 112, 6004 (1990).
16. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 3489 (2004).
17. H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano, J. Vac. Sci. Technol. B 24, 1833 (2006).
18. K. M. Bansal, L. K. Patterson, E. J. Fendler, and J. H. Fendler, Int. J. Radiat. Phys. Chem. 3, 321 (1971).
19. M. Anbar and E. J. Hart, J. Am. Chem. Soc. 86, 5633 (1964).
20. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano, Jpn. J. Appl. Phys. Part 2 44, L842 (2005).
21. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, and H. Komano, J. Vac. Sci. Technol. B 23, 2728 (2005).
22. T. Kozawa, S. Nagahara, Y. Yoshida, S. Tagawa, T. Watanabe, and Y. Yamashita, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2582 (1997).
23. H. Yamamoto, A. Nakano, K. Okamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 43, 3971 (2004).