Ozone- and thermally activated films of palladium monolayer-protected clusters for chemiresistive hydrogen sensing

Langmuir

Volumn 22, Issue 23, 2006, Pages 9789-9796

  Ibañez, Francisco J ^a   Zamborini, Francis P ^a  

^a UNIVERSITY OF LOUISVILLE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMIRESISTIVE HYDROGEN SENSING; GAS SENSING PROPERTIES; SENSING MECHANISM; THERMALLY ACTIVATED FILMS;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CONCENTRATION (PROCESS); ELECTRODES; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; HYDROGEN; MONOLAYERS; PALLADIUM; RAMAN SPECTROSCOPY;

THIN FILMS;

EID: 34548662777     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la0617309     Document Type: Article

References (65)

1. Christofides, C.; Mandelis, A. J. Appl. Phys. 1990, 68, 1-30.
2. Zhao, Z.; Sevryugina, Y.; Carpenter, M. A.; Welch, D.; Xia, H. Anal. Chem. 2004, 76, 6321-6326.
3. Zhao, Z.; Carpenter, M. A.; Xia, H.; Welch, D. Sens. Actuators B 2006, 113, 532-538.
4. Zhao, Z.; Carpenter, M. A. J. Appl. Phys. 2005, 97, 124301.
5. Sun, Y.; Tao, Z.; Chen, J.; Herricks, T.; Xia, Y. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 5940-5941.
6. Hughes, R. C.; Schubert, W. K.; Zipperian, T. E.; Rodriguez, J. L.; Plut, T. A. J. Appl. Phys. 1987, 62, 1074-1083.
7. Hughes, R. C.; Schubert, W. K. J. Appl. Phys. 1992, 71, 542-544.
8. Huang, L.; Gong, H.; Peng, D.; Meng, G. Thin Solid Films 1999, 345, 217-221.
9. Garcia, J. A.; Mandelis, A. Rev. Sci. Instrum. 1996, 67, 3981-3983.
10. Bévenot, X.; Trouillet, A.; Veillas, C.; Gagnaire, H.; Clément, M. Sens. Actuators B 2000, 67, 57-67.
11. Lin, H.; Gao, T.; Fantini, J.; Sailor, M. J. Langmuir 2004, 20, 5104-5108.
12. Kalli, K.; Othonos, A.; Christofides, C. Rev. Sci. Instrum. 1998, 69, 3331-3338.
13. Kalli, K.; Othonos, A.; Christofides, C. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3829-3840.
14. Smith, A. L.; Shirazi, H. M. Themochim. Acta 2005, 432, 202-211.
15. Favier, F.; Walter, E. C.; Zach, M. P.; Benter, T.; Penner, R. M. Science 2001, 293, 2227-2231.
16. Walter, E. C.; Favier, F.; Penner, R. M. Anal. Chem. 2002, 74, 1546-1553.
17. Kaltenpoth, G.; Schnabel, P.; Menke, E.; Walter, E. C.; Grunze, M.; Penner, R. M. Anal. Chem. 2003, 75, 4756-4765.
18. Yun, M.; Myung, N. V.; Vasquez, R. P.; Lee, C.; Menke, E.; Penner, R. M. Nano Lett. 2004, 4, 419-422.
19. Yu, S.; Welp, U.; Hua, L. Z.; Rydh, A.; Kwok, W. K.; Wang, H. H. Chem. Mater. 2005, 17, 3445-3450.
20. Xu, T.; Zach, M. P.; Xiao, Z. L.; Rosenmann, D.; Welp, U.; Kwok, W. K.; Crabtree, G. W. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 203104.
21. Danken, O.; Pundt, A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1618-1620.
22. Luongo, K.; Sine, A.; Bhansali, S. Sens. Actuators B 2005, 111-112, 125-129.
23. Morris, J. E.; Kiesow, A.; Hong, M.; Wu, F. Int. J. Electron. 1996, 81, 441-447.
24. Wolfe, D. B.; Love, J. C.; Paul, K. E.; Chabinyc, M. L.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2222-2224.
25. Sakamoto, Y.; Takai, K.; Takashima, I.; Imada, M. J. Phys.: Condens. Matter 1996, 8, 3399-3411.
26. Kong, J.; Chapline, M. G.; Dai, H. Adv. Mater. 2001, 13, 1384-1386.
27. Sayago, I.; Terrado, E.; Lafuente, E.; Horrillo, M. C.; Maser, W. K.; Benito, A. M.; Navarro, R.; Urriolabeitia, E. P.; Martinez, M. T.; Gutierrez, J. Synth. Met. 2005, 148, 15-19.
28. Mizsei, J.; Voutilainen, J.; Saukko, S.; Lantto, V. Thin Solid Films 2001, 391, 209-215.
29. Kolmakov, A.; Klenov, D. O.; Lilach, Y.; Stemmer, S.; Moskovits, M. Nano Lett. 2005, 5, 667-673.
30. Kang, W. P.; Gürbüz, Y. J. Appl. Phys. 1994, 75, 8175-8181.
31. Dwivedi, D.; Dwivedi, R.; Srivastava, S. K. Sens. Actuators B 2000, 71, 161-168.
32. Lutz, B. J.; Fan, Z. H. Anal. Chem. 2005, 77, 4969-4975.
33. Varghese, O. K.; Gong, D.; Paulose, M.; Ong, K. G.; Dickey, E. C.; Grimes, C. A. Adv. Mater. 2003, 15, 624-627.
34. Varghese, O. K.; Gong, D.; Paulose, M.; Ong, K. G.; Grimes, C. A. Sens. Actuators B 2003, 93, 338-344.
35. Lewis, F. A. The Palladium/Hydrogen System; Academic Press, Inc.: London, 1967.
36. Zamborini, F. P.; Gross, S. M.; Murray, R. W. Langmuir 2001, 17, 481-487.
37. Niu, Y.; Yeung, L. K.; Crooks, R. M. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 6840-6846.
38. Pundt, A.; Suleiman, M.; Bähtz, C.; Reetz, M. T.; Kirchheim, R.; Jisrawi, N. M. Mater. Sci. Eng. 2004, B108, 19-23.
39. Templeton, A.C.; Wuelfing, W.P.; Murray, R. W. Acc. Chem. Res. 2000, 33, 27.
40. Ahn, H.; Chandekar, A.; Kang, B.; Sung, C.; Whitten, J. E. Chem. Mater. 2004, 16, 3274-3278.
41. Evans, S. D.; Johnson, S. R.; Cheng, Y. L.; Shen, T. J. Muter. Chem. 2000, 10, 183-188.
42. Han, L.; Daniel, D. R.; Maye, M. M.; Zhong, C.-J. Anal. Chem. 2001, 73, 4441-4449.
43. Han, L.; Shi, X.; Wu, W.; Kirk, F. L.; Luo, J.; Wang, L.; Mott, D.; Cousineau, L.; Lim, S. I.-I.; Lu, S.; Zhong, C.-J. Sens. Actuators B 2005, 106, 431-441.
44. Joseph, Y.; Besnard, I.; Rosenberger, M.; Guse, B.; Nothofer, H.-G.; Wessels, J. M.; Wild, U.; Knop-Gericke, A.; Su, D.; Schlogl, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 7406-7413.
45. Joseph, Y.; Guse, B.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Sens. Actuators B 2004, 98, 188-195.
46. Joseph, Y.; Krasteva, N.; Besnard, I.; Guse, B.; Rosenberger, M.; Wild, U.; Knop-Gericke, A.; Schlögl, R.; Krustev, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Faraday Discuss. 2004, 125, 77-97.
47. Krasteva, N.; Besnard, I.; Guse, B.; Bauer, R. E.; Mullen, K.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Nano Lett. 2002, 2, 551-555.
48. Krasteva, N.; Guse, B.; Besnard, I.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Sens. Actuators B 2003, 92, 137-143.
49. Krasteva, N.; Krustev, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Langmuir 2003, 19, 7754-7760.
50. Leopold, M. C.; Donkers, R. L.; Georganopoulou, D.; Fisher, M.; Zamborini, F. P.; Murray, R. W. Faraday Discuss. 2004, 125, 63-76.
51. Vossmeyer, T.; Guse, B.; Besnard, I.; Bauer, R. E.; Mullen, K.; Yasuda, A. Adv. Mater. 2002, 14, 238-242.
52. Wohltjen, H.; Snow, A. W. Anal. Chem. 1998, 70, 2856-2859.
53. Zhang, H.-L.; Evans, S. D.; Henderson, J. R.; Miles, R. E.; Shen, T.-H. Nanotechnol. 2002, 13, 439-444.
54. Ibañez, F. J.; Growrishetty, U.; Crain, M. M.; Walsh, K. M.; Zamborini, F. P. Anal. Chem. 2006, 78, 753-761.
55. Zamborini, F. P.; Leopold, M. C.; Hicks, J. F.; Kulesza, P. J.; Malik, M. A.; Murray, R. W. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 8958-8964.
56. Brust, M.; Walker, M.; Bethell, D.; Schiffrin, D. J.; Whyman, R. Chem. Commun. 1994, 7, 801-802.
57. Terrill, R. H.; Postlethwaite, T. A.; Chen, C.-h.; Poon, C.-D.; Terzis, A.; Chen, A.; Hutchison, J. E.; Clark, M. R.; Wignall, G.; Londono, J. D.; Superfine, R.; Falvo, M.; Johnson Jr., C. S.; Samulski, E. T.; Murray, R. W. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 12537-12548.
58. Wuelfing, W. P.; Green, S. J.; Pietron, J. J.; Cliflel, D. E.; Murray, R. W. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122. 11465-11472.
59. Zamborini, F. P.; Smart, L. E.; Leopold, M. C.; Murray, R. W. Anal. Chim. Acta 2003, 496, 3-16.
60. Norrod, K. L.; Rowlen, K. L. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 2656-2657.
61. Poirier, G. E.; Herne, T. M.; Miller, C. C.; Tarlov, M. J. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 9703-9711.
62. Schoenfisch, M. H.; Pemberton, J. E. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 4502-4513.
63. Zhang, Y.; Terril, R. H.; Tanzer, T. A.; Bohn, P. W. J. Am, Chem. Soc. 1998, 120, 2654-2655.
64. Zhang, Y.; Terrill. R. H.; Bohn, P. W. Chem. Mater. 1999, 11, 2191-2198.
65. Su, C. S.; Carstens, J. N.; Bell, A. J. Catal. 1998, 176, 125-135.