Chemiresistive vapor sensing with microscale films of gold monolayer protected clusters

Analytical Chemistry

Volumn 78, Issue 3, 2006, Pages 753-761

  Ibañez, Francisco J ^a   Gowrishetty, Usha ^b   Crain, Mark M ^b   Walsh, Kevin M ^b   Zamborini, Francis P ^a  

^a UNIVERSITY OF LOUISVILLE   (United States)

^b University of Louisville   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALCOHOLS; ELECTRODES; MONOLAYERS; SEPARATION;

CHEMIRESISTIVE VAPOR-SENSING PROPERTIES; GOLD MONOLAYER PROTECTED CLUSTERS;

GOLD;

2 PROPANOL; GOLD; HEXANE; HEXANEDITHIOL; HEXANETHIOLATE; ORGANIC COMPOUND; TOLUENE; UNCLASSIFIED DRUG;

ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CONDUCTANCE; CROSS LINKING; DEVICE; ELECTRODE; FILM; INFRARED SPECTROSCOPY; MOLECULAR STABILITY; TEMPERATURE DEPENDENCE; THICKNESS; VAPOR;

EID: 32444439438     PISSN: 00032700     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ac051347t     Document Type: Article

References (51)

1. Albert, K. J.; Lewis, N. S.; Schauer, C. L.; Sotzing, G. A.; Stitzel, S. E.; Vaid, T. P.; Walt, D. R. Chem. Rev. 2000, 100, 2595-2626.
2. Lewis, N. S. Acc. Chem. Res. 2004, 37, 663-672.
3. Strike, D. J.; Meijerink, M. G. H.; Koudelka-Hep, M. Fresenius J. Anal. Chem. 1999, 364, 499-505.
4. Gopel, W. Sens. Actuators, B 1998, 52, 125-142.
5. Pavlou, A. K.; Turner, A. P. F. Clin. Chem. Lab. Med. 2000, 38, 99-112.
6. Yinon, J. Anal. Chem. 2003, 99A-105A.
7. Crooks, R. M.; Ricco, A. J. Acc. Chem. Res. 1998, 31, 219-227.
8. Grate, J. W. Chem. Rev. 2000, 100, 2627-2648.
9. Datskos, P. G.; Sepaniak, M. J.; Tipple, C. A.; Lavrik, N. Sens. Actuators, B 2001, 76, 393-402.
10. Sepaniak, M.; Datskos, P.; Lavrik, N.; Tipple, C. Anal. Chem. 2002, 568A-575A.
11. Yang, Y.; Ji, H.-F.; Thundat, T. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 1124-1125.
12. Rakow, N. A.; Suslick, K. S. Nature 2000, 406, 710-713.
13. Yang, J.-S.; Swager, T. M. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 5321-5322.
14. Drew, S. M.; Janzen, D. E.; Buss, C. E.; MacEwan, D. I.; Dublin, K. M.; Mann, K. R. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 8414-8415.
15. Dutta, R.; Hines, E. L.; Gardner, J. W.; Kashwan, K. R.; Bhuyan, M. Sens. Actuators, B 2003, 94, 228-237.
16. Walter, E. C.; Favier, F.; Penner, R. M. Anal. Chem. 2002, 74, 1546-1553.
17. Qi, P.; Vermesh, O.; Grecu, M.; Javey, A.; Wang, Q.; Dai, H.; Peng, S.; Cho, K. J. Nano Lett. 2003, 3, 347-351.
18. Wohltjen, H.; Snow, A. W. Anal. Chem. 1998, 70, 2856-2859.
19. Evans, S. D.; Johnson, S. R.; Cheng, Y. L.; Shen, T. J. Mater. Chem. 2000, 10, 183-188.
20. Zhang, H.-L.; Evans, S. D.; Henderson, J. R.; Miles, R. E.; Shen, T.-H. Nanotechnology 2002, 73, 439-444.
21. Ahn, H.; Chandekar, A.; Kang, B.; Sung, C.; Written, J. E. Chem. Mater. 2004, 16, 3274-3278.
22. Briglin, S. M.; Gao, T.; Lewis, N. S. Langmuir 2004, 20, 299-305.
23. Zamborini, F. P.; Leopold, M. C.; Hicks, J. F.; Kulesza, P. J.; Malik, M. A.; Murray, R. W. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 8958-8964.
24. Leopold, M. C.; Donkers, R. L.; Georganopoulou, D.; Fisher, M.; Zamborini, F. P.; Murray, R. W. Faraday Discuss. 2004, 125, 63-76.
25. Joseph, Y.; Guse, B.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Sens. Actuators, B 2004, 98, 188-195.
26. Joseph, Y.; Besnard, I.; Rosenberger, M.; Guse, B.; Nothofer, H.-G.; Wessels, J. M.; Wild, U.; Knop-Gericke, A.; Su, D.; Schlogl, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 7406-7413.
27. Joseph, Y.; Krasteva, N.; Besnard, I.; Guse, B.; Rosenberger, M.; Wild, U.; Knop-Gericke, A.; Schlogl, R.; Krustev, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Faraday Discuss. 2004, 125, 77-97.
28. Vossmeyer, T.; Guse, B.; Besnard, I.; Bauer, R. E.; Mullen, K.; Yasuda, A. Adv. Mater. 2002, 14, 238-242.
29. Krasteva, N.; Besnard, I.; Guse, B.; Bauer, R. E.; Mullen, K.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Nano Lett. 2002, 2, 551-555.
30. Krasteva, N.; Krustev, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Langmuir 2003, 19, 7754-7760.
31. Krasteva, N.; Guse, B.; Besnard, I.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Sens. Actuators, B 2003, 92, 137-143.
32. Cai, Q.-Y.; Zellers, E. T. Anal. Chem. 2002, 74, 3533-3539.
33. Han, L.; Daniel, D. R.; Maye, M. M.; Zhong, C.-J. Anal. Chem. 2001, 73, 4441-4449.
34. Han, L.; Shi, X.; Wu, W.; Kirk, F. L.; Luo, J.; Wang, L.; Mott, D.; Cousineau, L.; Lim, S. I.-I.; Lu, S.; Zhong, C.-J. Sens. Actuators, B 2005, 106, 431-441.
35. Pang, P.; Guo, Z.; Cai, Q. Talanta 2005, 65, 1343-1348.
36. Foos, E. E.; Snow, A. W.; Twigg, M. E.; Ancona, M. G. Chem. Mater. 2002, 14, 2401-2408.
37. Brust, M.; Walker, M.; Bethell, D.; Schiffrin, D. J.; Whyman, R. Chem. Commun. 1994, 7, 801-802.
38. Terrill, R. H.; Postlethwaite, T. A: Chen, C.-h.; Poon, C.-D.; Terzis, A.; Chen, A.; Hutchison, J. E.; Clark, M. R.; Wignall, G.; Londono, J. D.; Superfine, R.; Falvo, M.; Johnson Jr., C. S.; Samulski, E. T.; Murray, R. W. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 12537-12548.
39. Zamborini, F. P.; Smart, L. E.; Leopold, M. C.; Murray, R. W. Anal. Chim. Acta 2003, 496, 3-16.
40. Wuelfing, W. P.; Green, S. J.; Pietron, J. J.; Cliffel, D. E.; Murray, R. W. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 11465-11472.
41. Grate, J. W.; Nelson, D. A.; Skaggs, R. Anal. Chem. 2003, 75, 1868-1879.
42. Harnack, O.; Raible, I.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 034108-034101-034108-034103.
43. Block, B. P. Inorg. Synth. 1953, 4, 14-17.
44. Hosteller, M. J.; Wingate, J. E.; Zhong, C.-J.; Harris, J. E.; Vachet, R. W.; Clark, M. R.; Londono, J. D.; Green, S. J.; Stokes, J. J.; Wignall, G. D.; Glish, G. L.; Porter, M. D.; Evans, N. D.; Murray, R. W. Langmuir 1999, 14, 17-30.
45. Xia, Y.; Whitesides, G. M. Polym. Mater. Sci. Eng. 1997, 77, 596.
46. Santhanam, V.; Andres, R. P. Nano Lett. 2004, 4, 41-44.
47. Snow, A. W.; Ancona, M. G.; Kruppa, W.; Jernigan, G. G.; Foos, E. E.; Park, D. J. Mater. Chem. 2002, 12, 1222-1230.
48. Chailapakul, O.; Sun, L.; Xu, C.; Crooks, R. M. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12459-12467.
49. Shimizu, T.; Teranishi, T.; Hasegawa, S.; Miyake, M. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 2719-2724.
50. Lu, J.; Jones, V. W.; Maye, M. M.; Han, L.; Kariuki, N. N.; Zhong, C.-J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 13988-13989.
51. Lu, J.; Maye, M. M.; Han, L.; Kariuki, N. N.; Jones, V. W.; Lin, Y.; Engelhard, M. H.; Zhong, C.-J. Langmuir 2004, 20, 4254-4260.