Plasma ehnancement of metalorganic chemical vapor deposition and properties of Er2 O3 nanostructured thin films

Applied Physics Letters

Volumn 91, Issue 6, 2007, Pages

  Giangregorio, Maria M ^b   Losurdo, Maria ^b   Sacchetti, Alberto ^b   Capezzuto, Pio ^b   Bruno, Giovanni ^a   Malandrino, Graziella ^c   Fragal̀, Ignazio L ^c   Lo Nigro, Raffaella ^a   Armelao, Lidia ^d   Barreca, Davide ^d   Tondello, Eugenio ^d  

^a CNR   (Italy)

^b INSTM UdR Bari   (Italy)

^c UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^d UNIVERSITY OF PADOVA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ERBIUM COMPOUNDS; FILM GROWTH; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SILICON COMPOUNDS; THIN FILMS;

COLUMNAR STRUCTURE; TRIS(ISOPROPYLCYCLOPENTADIENYL);

METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 34547838742     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2768915     Document Type: Article

References (20)

1. K. Kakushima, K. Tsutsui, S. I. Ohmi, P. Ahmet, V. Ramgopal Rao, and H. Iwai, Top. Appl. Phys. 106, 345 (2007), and references therein.
2. M. Losurdo, M. M. Giangregorio, M. Luchena, P. Capezzuto, G. Bruno, R. G. Toro, G. Malandrino, I. L. Fragal̀, and R. Lo Nigro, Appl. Surf. Sci. 253, 322 (2006).
3. S. Chen, Y. Y. Zhu, R. Xu, Y. Q. Wu, X. J. Yang, Y. L. Fan, F. Lu, Z. M. Jiang, and J. Zou, Appl. Phys. Lett. 88, 222902 (2006).
4. V. Mikhelashvili, G. Eisenstein, F. Edelman, R. Brener, N. Zakharov, and P. Werner, J. Appl. Phys. 95, 613 (2004).
5. T.-M. Pan, C.-L. Chen, W. W. Yeh, and S.-J. Hou, Appl. Phys. Lett. 89, 222912 (2006).
6. K. M. Hubbard and B. F. Espinoza, Thin Solid Films 366, 175 (2000).
7. M. Miritello, R. Lo Savio, A. M. Piro, G. Franzó, F. Priolo, F. Iacona, and C. Buongiorno, J. Appl. Phys. 100, 013502 (2006).
8. V. A. Rozhkov and M. A. Rodionov, Tech. Phys. Lett. 31, 77 (2005).
9. J. Paivasaari, J. Niinisto, K. Arstila, K. Kukli, M. Putkonen, and L. Niinisto, Chem. Vap. Deposition 11, 425 (2005).
10. M. P. Singh, C. S. Thakur, K. Shalini, N. Bhat, and S. S. Shivashankar, Appl. Phys. Lett. 83, 2889 (2003).
11. A. Weber, H. Suhr, H. Schumann, and R. D. Kohn, Appl. Phys. A: Solids Surf. 51, 520 (1990).
12. C. D. Zuicker, D. M. Gruen, and A. R. Krauss, MRS Bull. 29, 35 (1995).
13. M. M. Frank, Y. J. Chabal, and G. D. Wilk, Appl. Phys. Lett. 82, 4758 (2003).
14. L. G. Gosset, J. F. Damlencourt, O. Renault, D. Rouchon, Ph. Holliger, A. Ermolieff, I. Trimaille, J. J. Ganem, F. Martin, and M. N. Śḿria, J. Non-Cryst. Solids 303, 17 (2002).
15. W. Cho, H. S. Jang, K. S. An, Y. K. Lee, T. M. Chung, C. G. Kim, Y. Kim, B. S. So, J. H. Hwang, and D. Jung, J. Vac. Sci. Technol. A 24, 1208 (2006).
16. A. Matsuda, Thin Solid Films 337, 1 (1999).
17. J. G. Yoon, H. K. Oh, and S. J. Lee, Phys. Rev. B 60, 2839 (1999).
18. O. Medenbach, D. Dettmar, R. D. Shannon, R. X. Fischer, and W. M. Yen, J. Opt. A, Pure Appl. Opt. 3, 174 (2001).
19. G. E. Jellison and F. A. Modine, Appl. Phys. Lett. 69, 371 (1996).
20. Y. J. Cho, N. V. Nguyen, C. A. Richter, J. R. Ehrstein, B. H. Lee, and J. C. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 1249 (2002).