Fabrication and electrical properties of strain-modulated epitaxial Ba 0.5 Sr 0.5 TiO 3 thin-film capacitors

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 154, Issue 9, 2007, Pages

  Liang, Yuan Chang ^a,c   Liang, Yung Ching ^b  

^a CHIENKUO TECHNOLOGY UNIVERSITY   (Taiwan)

^b UNIVERSITY OF SOUTHERN CALIFORNIA   (United States)

^c ELECTROCHEMICAL SOCIETY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

LATTICE DISTORTION; PEROVSKITE OXIDE ELECTRODES; STRAIN MANIPULATION; THIN FILM CAPACITORS;

BARIUM COMPOUNDS; ELECTRIC PROPERTIES; PEROVSKITE; THIN FILMS;

CAPACITORS;

EID: 34547541825     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2755636     Document Type: Article

References (31)

1. B. H. Park, Y. Gim, Y. Fan, Q. X. Jia, and P. Lu, Appl. Phys. Lett., 77, 2587 (2000).
2. R. A. Mckee, F. J. Walker, and M. F. Chisholm, Phys. Rev. Lett., 81, 3014 (1998).
3. M. S. Tsai, S. C. Sun, and T. Y. Tseng, IEEE Trans. Electron Devices, 46, 1829 (1999).
4. W. Chang, J. S. Horwitz, A. C. Carter, J. M. Pond, S. W. Kirchoefer, C. M. Gilmore, and D. B. Chrisey, Appl. Phys. Lett., 74, 1033 (1999).
5. A. A. Sirenko, C. Bernhard, A. Golink, A. M. Clark, J. Hao, W. Si, and X. X. Xi, Nature (London), 404, 373 (2000).
6. A. A. Sirenko, I. A. Akimov, J. R. Fox, A. M. Clark, H. C. Li, W. Si, and X. X. Xi, Phys. Rev. Lett., 82, 4500 (1999).
7. N. A. Pertsev, A. G. Zembilgotov, and A. K. Tagantsec, Phys. Rev. Lett., 80, 1988 (1998).
8. C. M. Carlson, P. A. Parilla, T. V. Rivkin, J. D. Perkins, and D. S. Ginley, Appl. Phys. Lett., 77, 3278 (2000).
9. L. Kim, D. Jung, J. Kim, Y. S. Kim, and J. Lee, Appl. Phys. Lett., 82, 2118 (2003).
10. V. Cracium and R. K. Singh, Appl. Phys. Lett., 76, 1932 (2000).
11. Y. C. Liang, H. Y. Lee, H. J. Liu, K. F. Wu, T. B. Wu, and C. H. Lee, J. Electrochem. Soc., 152, F129 (2005).
12. X. Zhu, D. Zheng, W. Peng, J. Miao, and J. Li, J. Cryst. Growth, 268, 192 (2004).
13. J. Miao, L. Cao, J. Yuan, W. Chen, H. Yang, B. Xu, X. Qiu, and B. Zhao, J. Cryst. Growth, 276, 498 (2005).
14. Y. C. Liang and Y. C. Liang, J. Cryst. Growth, 285, 345 (2005).
15. Y. C. Liang and Y. C. Liang, J. Cryst. Growth, 304, 275 (2007).
16. Y. C. Liang, T. B. Wu, H. Y. Lee, and Y. W. Hsieh, J. Appl. Phys., 96, 584 (2004).
17. S. Hyun and K. Char, Appl. Phys. Lett., 79, 254 (2001).
18. W. J. Kim, W. Chang, S. B. Qadri, J. M. Pond, S. W. Kirchoefer, D. B. Chrisey, and J. S. Horwitz, Appl. Phys. Lett., 76, 1185 (2000).
19. Y. C. Liang, H. Y. Lee, H. J. Liu, and T. B. Wu, J. Cryst. Growth, 276, 534 (2005).
20. W. Y. Park, K. H. Ahn, and C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett., 83, 4387 (2003).
21. B. H. Park, E. J. Peterson, Q. X. Jia, J. Lee, X. Zeng, W. Si, and X. X. Xi, Appl. Phys. Lett., 78, 533 (2001).
22. F. Tsui, M. C. Smoak, T. K. Nath, and C. B. Eom, Appl. Phys. Lett., 76, 2421 (2000).
23. Y. C. Liang, H. Y. Lee, H. J. Liu, C. K. Huang, and T. B. Wu, J. Cryst. Growth, 279, 114 (2005).
24. S. U. Adikary and H. L. W. Chan, Thin Solid Films, 424, 70 (2003).
25. Y. C. Liang, T. B. Wu, H. Y. Lee, and H. J. Liu, Thin Solid Films 469-470, 500 (2004).
26. X. Zhu, D. Zheng, W. Peng, J. Zhu, X. Yuan, J. Li, M. Zhang, Y. Chen, H. Tian, and X. Xu, Mater. Lett., 58, 3591 (2004).
27. L. Kim, D. Jung, J. Kim, Y. S. Kim, and J. Lee, Appl. Phys. Lett., 82, 2118 (2003).
28. C. L. Canedy, H. Li, S. P. Alpay, L. Salamanca-Riba, A. L. Royburd, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett., 77, 1695 (2000).
29. S. M. Zanetti, P. R. Bueno, E. Leite, E. Longo, and J. A. Varela, J. Appl. Phys., 89, 3416 (2001).
30. I. A. Akimov, A. A. Sirenko, A. M. Clark, J. H. Hao, and X. X. Xi, Phys. Rev. Lett., 84, 4625 (2000).
31. S. Hyun, J. H. Lee, S. S. Kim, K. Char, S. J. Park, J. Sok, and E. H. Lee, Appl. Phys. Lett., 77, 3084 (2000).