Evaluation of strain-dependent dielectric properties in BaTiO 3/LaNiO3 and (Ba, Sr)TiO3/LaNiO3 artificial superlattice films on LaNiO3-coated SrTiO3 substrates

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 152, Issue 9, 2005, Pages

  Liang, Yuan Chang ^a   Lee, Hsin Yi ^b   Liu, Heng Jui ^b   Wu, Kun Fu ^a   Wu, Tai Bor ^a   Lee, Chih Hao ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COATINGS; COMPRESSIVE STRESS; DIELECTRIC PROPERTIES; MAGNETRON SPUTTERING; STRAIN RATE; SUPERLATTICES; TENSILE STRESS; THIN FILMS; TITANIUM OXIDES;

ARTIFICIAL SUPERLATTICES; BIAXIAL TENSILE STRESS; DIELECTRIC ENHANCEMENT;

BARIUM;

EID: 25644448001     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1992387     Document Type: Article

References (30)

1. Q. X. Jia, Z. Q. Shi, and W. A. Anderson, Thin Solid Films, 209, 230 (1991).
2. Q. X. Jia, L. H. Chang, and W. A. Anderson, J. Mater. Res., 9, 2561 (1994).
3. C. S. Hsi, F.-Y. Hsiao, N.-C. Wu, and M. C. Wang, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 42, 544 (2003).
4. R. A. McKee, F. J. Walker, and M. F. Chisholm, Phys. Rev. Lett., 81, 3014 (1998).
5. B. H. Park, Y. Gim, Y. Fan, Q. X. Jia, and P. Lu, Appl. Phys. Lett., 77, 2587 (2000).
6. K. C. Li, W. Si, P. L. Wang, Y. Xuan, B. T. Liu, and X. X. Xi, Mater. Sci. Eng., B, 56, 218 (2002).
7. W. J. Kim, W. Chang, S. B. Qadri, J. M. Pond, S. W. Kirchefer, D. B. Chrisey, and J. S. Horwitz, Appl. Phys. Lett., 76, 1185 (2000).
8. J. Kim, Y. Kim, Y. S. Kim, J. Lee, L. Kim, and D. Jung, Appl. Phys. Lett., 80, 3581 (2002).
9. Z. Wang and S. Oda, J. Electrochem. Soc., 147, 4615 (2000).
10. Y. C. Liang, T. B. Wu, H. Y. Lee, and Y. W. Hsieh, J. Appl. Phys., 96, 584 (2004).
11. T. Shimuta, O. Nakagawara, T. Makino, S. Arai, H. Tabata, and T. Kawai, J. Appl. Phys., 91, 2290 (2002).
12. M. S. Chen, T. B. Wu, and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett., 68, 1430 (1996).
13. C. Guerrero, F. Sanchez, C. Ferrater, J. Rddan, M. V. Garcia, and M. Varela, Appl. Surf. Sci., 168, 219 (2000).
14. P. Chen, S. Y. Xu, W. Z. Zhou, C. K. Ong, and D. F. Cui, J. Appl. Phys., 85, 3000 (1995).
15. W. B. Wu, K. H. Wong, and P. W. Chan, Physica C, 297, 247 (1998).
16. N. Wakiya, T. Azuma, K. Shinozaki, and N. Mizutani, Thin Solid Films, 410, 114 (2002).
17. J. W. Matthews and A. E. Blakeslee, J. Cryst. Growth, 27, 118 (1974).
18. Y. C. Liang, T. B. Wu, H. Y. Lee, and H. J. Liu, Thin Solid Films, 469-470, 500 (2004).
19. E. D. Specht, H. M. Christen, D. P. Norton, and L. A. Boatner, Phys. Rev. Lett., 80, 4317 (1998).
20. U. Pietsch, H. Metzger, S. Rugel, B. Jenichen, and I. K. Robinson, J. Appl. Phys., 74, 2381 (1993).
21. Y. C. Liang, H. Y. Lee, H. J. Liu, and T. B. Wu, J. Cryst. Growth, 276, 534 (2005).
22. S. D. Wang, J. Appl. Phys., 88, 7089 (2000).
23. L. Kim, D. Jung, J. Kim, Y. S. Kim, and J. Lee, Appl. Phys. Lett., 82, 2118 (2003).
24. N. A. Pertsev, A. G. Zembilgotov, and A. K. Tagantsev, Phys. Rev. Lett., 80, 1988 (1988).
25. B. H. Park, E. J. Peterson, Q. X. Jia, J. Lee, X. Zeng, W. Si, and X. X. Xi, Appl. Phys. Lett., 78, 533 (2001).
26. S. Hyun and K. Char, Appl. Phys. Lett., 79, 254 (2001).
27. A. R. James and X. X. Xi, J. Appl. Phys., 92, 6149 (2002).
28. H. Tabata, H. Tanaka, and T. Kawai, Appl. Phys. Lett., 65, 1970 (1994).
29. H. Tabata, H. Tanaka, T. Kawai, and M. Okuyama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 34, 544 (1995).
30. H. Tabata and T. Kawai, Appl. Phys. Lett., 70, 321 (1997).