-
1
-
-
0000298224
-
-
0003-6951 10.1063/1.116085
-
S. Tiwari, F. Rona, K. Chan, L. Shi, and H. Hanafi, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.116085 68, 1377 (1996).
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 1377
-
-
Tiwari, S.1
Rona, F.2
Chan, K.3
Shi, L.4
Hanafi, H.5
-
2
-
-
17044366980
-
-
0003-6951 10.1063/1.1852078
-
T. Feng, H. B. Yu, M. Dicken, J. R. Heath, and H. A. Atwater, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1852078 86, 033103 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 033103
-
-
Feng, T.1
Yu, H.B.2
Dicken, M.3
Heath, J.R.4
Atwater, H.A.5
-
3
-
-
28344432005
-
-
0003-6951 10.1063/1.2115069
-
S. Huang and S. Oda, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2115069 87, 173107 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.87
, pp. 173107
-
-
Huang, S.1
Oda, S.2
-
4
-
-
33644921754
-
-
0040-6090 10.1016/j.tsf.2005.09.031
-
C. Y. Ng, T. P. Chen, D. Sreeduth, Q. Chen, L. Ding, and A. Du, Thin Solid Films 0040-6090 10.1016/j.tsf.2005.09.031 504, 25 (2006).
-
(2006)
Thin Solid Films
, vol.504
, pp. 25
-
-
Ng, C.Y.1
Chen, T.P.2
Sreeduth, D.3
Chen, Q.4
Ding, L.5
Du, A.6
-
5
-
-
33845741118
-
-
0003-6951 10.1063/1.2404586
-
D. Cha, J. H. Shin, S. Park, E. Lee, Y. Park, Y. Park, I. Yoo, K. S. Seol, and S. Choi, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2404586 89, 243513 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 243513
-
-
Cha, D.1
Shin, J.H.2
Park, S.3
Lee, E.4
Park, Y.5
Park, Y.6
Yoo, I.7
Seol, K.S.8
Choi, S.9
-
6
-
-
33751077473
-
-
0021-8979 10.1063/1.2374929
-
Y. Liu, T. P. Chen, L. Ding, S. Zhang, Y. Q. Fu, and S. Fung, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2374929 100, 096111 (2006).
-
(2006)
J. Appl. Phys.
, vol.100
, pp. 096111
-
-
Liu, Y.1
Chen, T.P.2
Ding, L.3
Zhang, S.4
Fu, Y.Q.5
Fung, S.6
-
7
-
-
27744603500
-
-
0003-6951 10.1063/1.2132083
-
T. Z. Lu, M. Alexe, R. Scholz, V. Talelaev, and M. Zacharias, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2132083 87, 202110 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.87
, pp. 202110
-
-
Lu, T.Z.1
Alexe, M.2
Scholz, R.3
Talelaev, V.4
Zacharias, M.5
-
8
-
-
33746214880
-
-
0021-8979 10.1063/1.2214300
-
T. Z. Lu, M. Alexe, R. Scholz, V. Talalaev, R. J. Zhang, and M. Zacharias, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2214300 100, 014310 (2006).
-
(2006)
J. Appl. Phys.
, vol.100
, pp. 014310
-
-
Lu, T.Z.1
Alexe, M.2
Scholz, R.3
Talalaev, V.4
Zhang, R.J.5
Zacharias, M.6
-
9
-
-
33748685259
-
-
0003-6951 10.1063/1.2352796
-
L. C. Wu, K. J. Chen, J. M. Wang, X. F. Huang, Z. T. Song, and W. L. Liu, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.2352796 89, 112118 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 112118
-
-
Wu, L.C.1
Chen, K.J.2
Wang, J.M.3
Huang, X.F.4
Song, Z.T.5
Liu, W.L.6
-
10
-
-
33846318165
-
-
0021-8979 10.1063/1.2409280
-
J. Wang, L. Wu, K. Chen, L. Yu, X. Wang, J. Song, and X. Huang, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.2409280 101, 014325 (2007).
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.101
, pp. 014325
-
-
Wang, J.1
Wu, L.2
Chen, K.3
Yu, L.4
Wang, X.5
Song, J.6
Huang, X.7
-
11
-
-
0036685431
-
-
0018-9383 10.1109/TED.2002.801296
-
R. Ohba, N. Sugiyama, K. Uchida, J. Koga, and A. Toriumi, IEEE Trans. Electron Devices 0018-9383 10.1109/TED.2002.801296 49, 1392 (2002).
-
(2002)
IEEE Trans. Electron Devices
, vol.49
, pp. 1392
-
-
Ohba, R.1
Sugiyama, N.2
Uchida, K.3
Koga, J.4
Toriumi, A.5
-
12
-
-
0000272055
-
-
0163-1829 10.1103/PhysRevB.45.13469
-
I. M. Ruzin, V. Chandrasekhar, E. I. Levin, and L. I. Glazman, Phys. Rev. B 0163-1829 10.1103/PhysRevB.45.13469 45, 13469 (1992).
-
(1992)
Phys. Rev. B
, vol.45
, pp. 13469
-
-
Ruzin, I.M.1
Chandrasekhar, V.2
Levin, E.I.3
Glazman, L.I.4
-
13
-
-
0037847452
-
-
0034-6861 10.1103/RevModPhys.75.1
-
W. G. van der Wiel, S. De Franceschi, J. M. Elzerman, T. Fujisawa, S. Tarucha, and L. P. Kouwenhoven, Rev. Mod. Phys. 0034-6861 10.1103/RevModPhys.75. 1 75, 1 (2002).
-
(2002)
Rev. Mod. Phys.
, vol.75
, pp. 1
-
-
Van Der Wiel, W.G.1
De Franceschi, S.2
Elzerman, J.M.3
Fujisawa, T.4
Tarucha, S.5
Kouwenhoven, L.P.6
|