Photochemical grafting and activation of organic layers on glassy carbon and pyrolyzed photoresist films

Langmuir

Volumn 23, Issue 8, 2007, Pages 4662-4668

  Yu, Samuel S C ^a   Downard, Alison J ^a  

^a UNIVERSITY OF CANTERBURY   (New Zealand)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DEPTH PROFILING; GRAFTING (CHEMICAL); OLEFINS; PHOTOLYSIS; PHOTORESISTS; PYROLYSIS; SPIN COATING; SURFACE ROUGHNESS;

AMINE-REACTIVE TETHERS; DROP COATING; GLASSY CARBON; OXALYL CHLORIDE TREATED FILM;

THIN FILMS;

EID: 34247362113     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la063532n     Document Type: Article

References (42)

1. McCreery, R. L. In Electroanalytical Chemistry; Bard, A. J., Ed.; Dekker: New York, 1991; Vol. 17, pp 221-374.
2. Ranganathan, S.; McCreery, R. L. Anal. Chem. 2001, 73, 893-900.
3. Jiang, D. E.; Sumpter, B. G.; Dai, S. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 23628-23632.
4. Barbier, B.; Pinson, J.; Desarmot, G.; Sanehez, M. J. Electrochem. Soc. 1990, 137, 1757-1764.
5. Downard, A. J. Electroanalysis 2000, 12, 1085-1096.
6. Pinson, J.; Podvorica, F. Chem. Soc. Rev. 2005, 34, 429-439.
7. Adenier, A.; Cabet-Deliry, E.; Chausse, A.; Griveau, S.; Mercier, F.; Pinson. J.; Vautrin-Ul, C. Chem. Mater. 2005, 17, 491-501.
8. Adenier, A.; Barre, N.; Cabet-Deliry, E.; Chausse, A.; Griveau, S.; Mercier. F.; Pinson, J.; Vautrin-Ul, C. Surf. Sci. 2006, 600, 4801-4812.
9. Gallardo, I.; Pinson, J.; Vila, N. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 19521-19529.
10. Dontha, N.; Nowall, W. B.; Ruhr, W. G. Anal. Chem. 1997, 69, 2619-2625.
11. Ssenyange, S.; Anariba, F.; Bocian, D. F.; McCreery, R. L. Lungmuir 2005, 21, 11105-11112.
12. Strother, T.; Cai, W.; Zhao, X.; Hamers, R. J.; Smith, L. M. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 1205-1209.
13. Cicero, R. L.; Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. Langmuir 2000, 16, 5688-5695.
14. Sun, Q. Y.; de Smet, L.; van Lagen, B.; Wright, A.; Zuilhof, H.; Sudholter, E. J. R. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 1352-1355.
15. Sun, Q.-Y.; deSmet, L. C. P. M.; vanLagen, B.; Giesbers, M.; Thune, P. C.; vanEngelenburg, J.; deWolf, F. A.; Zuilhof, H.; Sudholter, E. J. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 2514-2523.
16. Strother, T.; Knickerbocker, T.; Russell, J. N.; Butler, J. E.; Smith, L. M.; Hamers, R. J. Langmuir 2002, 18, 968-971.
17. Tian, R. H.; Rao, T. N.; Einaga, Y.; Zhi, J. F. Chem. Mater. 2006, 18, 939-945.
18. Nebel, C. E.; Shin, D.; Takeuchi, D.; Yamamoto, T.; Watanabe, H.; Nakamura, T. Diamond Relat. Mater. 2006, 15, 1107-1112.
19. Nichols, B. M.; Metz, K. M.; Tse, K. Y.; Butler, J. E.; Russell, J. N.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 16535-16543.
20. Sun, B.; Colavita, P. E.; Kim, H.; Lockett, M.; Marcus, M. S.; Smith, L. M.; Hamers, R. J. Langmuir 2006, 22, 9598-9605.
21. Lasseter, T. L.; Cai, W.; Hamers, R. J. Analyst 2004, 129, 3-8.
22. Liu, G. Z.; Liu, J. Q.; Bocking, T.; Eggers, P. K.; Gooding, J. J. Chem. Phys. 2005, 319, 136-146.
23. Husseini, G. A.; Niederhauser, T. L.; Peacock, J. G.; Vernon, M. R.; Lua, Y.-Y.; Asplund, M. C.; Sevy, E. T.; Linford, M. R. Langmuir 2003, 19, 4856-4858.
24. Saunders, K. H.; Allen, R. L. M. Aromatic Diazo Compounds, 3rd ed.; Edward Arnold: London, 1985.
25. Brooksby, P. A.; Downard, A. J. Langmuir 2004, 20, 5038-5045.
26. Grabar, K. C.; Freeman, R. G.; Hommer, M. B.; Natan, M. J. Anal. Chem. 1995, 67, 735-743.
27. Liu, Y.-J.; Navasero, N. M.; Yu, H.-Z. Langmuir 2004, 20, 4039-4050.
28. Amatore, C.; Saveant, J. M.; Tessier, D. J. Electroanal Chem. 1983, 147, 39-51.
29. Honeychurch, M. J. Langmuir 1998, 14, 6291-6296.
30. Rowe, G. K.; Carter, M. T.; Richardson, J. N.; Murray, R. W. Langmuir 1995, 11, 1797-1806.
31. Fabre, B.; Hauquier, F. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 6848-6855.
32. Perring, M.; Dutta, S.; Arafat, S.; Mitchell, M.; Kenis, P. J. A.; Bowden, N. B. Langmuir 2005, 21, 10537-10544.
33. Chidsey, C. E. D.; Bertozzi, C. R.; Putvinski, T. M.; Mujsce, A. M. J. Am. Chem. Soc. 1990, 112, 4301-4306.
34. Bashir-Hashemi, A.; Li, J. C.; Gelber, N.; Ammon, H. J. Org. Chem. 1995, 60, 698-702.
35. Downard, A. J.; Cruickshank, A. C. Unpublished work.
36. Downard, A. J.; Tan, E. S. Q.; Yu, S. S. C. New J. Chem. 2006, 30, 1283-1288.
37. Ortiz, B.; Saby, C.; Champagne, G. Y.; Belanger, D. J. Electroanal. Chem. 1998, 455, 75-81.
38. Delamar, M.; Desarmot, G.; Pagebaume, O.; Hitmi, R.; Pinson, J.; Saveant, J. M. Carbon 1997, 33, 801-807.
39. Liu, Y.-C.; McCreery, R. L. J. Am. Chcm. Soc. 1995, 117, 11254-11259.
40. Nichols, B. M.; Butler, J. E.; Russell, J. N.; Hamers, R. J. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 20938-20947.
41. Palacin, S.; Bureau, C.; Charlier, J.; Deniau, G.; Mouanda, B.; Viel, P. ChemPhysChem 2004, 5, 1469-1481.
42. Allongue, P.; de Villeneuve, C. H.; Pinson, J. Electmchim. Acta 2000, 45, 3241-3248.