Enhanced ferroelectric properties of Mn-doped BiFeO3 thin films prepared by chemical solution deposition

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 49, Issue SUPPL. 2, 2006, Pages

  Kim, Jong Kuk ^a   Kim, Sang Su ^a   Choi, Eun Jin ^a   Kim, Won Jeong ^a   Bhalla, Amar S ^b   Song, Tae Kwon ^a  

^a Changwon National University   (South Korea)

^b PENNSYLVANIA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

BiFeO3 thin film; Chemical solution deposition; Hysteresis loop; Leakage current density

Indexed keywords

EID: 33846361777     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (21)

1. Y. W. Li, J. L. Sun, J. Chen, X. J. Meng and J. H. Chu, Appl. Phys. Lett. 87, 182902 (2005).
2. Y.-H. Lee, J.-M Wu, Y.-L. Chueh and L.-J. Chou, Appl. Phys. Lett. 87, 172901 (2005).
3. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig and R. Ramesh, Science 299, 1719 (2003).
4. K. Y. Yun, D. Ricinschi, M. Noda, M. Okuyama and S. Nasu, J. Korean Phys. Soc. 46, 281 (2005).
5. K. Y. Yun, M. Noda and M. Okuyama, Appl. Phys. Lett. 83, 3981 (2003).
6. K. Y. Yun, M. Noda and M. Okuyama, J. Korean Phys. Soc. 42, S1153 (2003).
7. S. Lakovlev, C.-H. Solterbeck, M. Kuhnke and M. Es-Souni, J. Appl. Phys. 97, 094901 (2005).
8. X. Qi, J. Dho, R. Tomov, M. G. Blamire and J. L. MacManus-Driscoll, Appl. Phys. Lett. 86, 062903 (2005).
9. J. C. Shin, C. S. Hwang and H. J. Kim, Appl. Phys. Lett. 75, 3411 (1999).
10. M. M. Kumar, A. Srinivas and S. V. Suryanarayana, J. Appl. Phys. 87, 855 (2000).
11. S. Iakovlev, C.-H. Solterbeck, M. Kuhnke and M. Es-Souni, J. Appl. Phys. 97, 094901 (2005).
12. J. K. Kim, S. S. Kim, W. J. Kim, A. S. Bhalla and R. Quo, Appl. Phys. Lett., in press.
13. K. Y. Yun, M. Noda, M. Okuyama, H. Saeki, H. Tabata and K. Saito, J. Appl. Phys. 96, 3399 (2004).
14. Y.-H. Lee, J.-M. Wu, Y.-L. Chueh and L.-J. Chou, Appl. Phys. Lett. 87, 172901 (2005).
15. S. Yakovlev, J. Zekonyte, D.-H. Solterbeck and M. Es-Souni, Thin Solid Films, 493, 24 (2005).
16. Y. K. Wang and T. Y. Tseng, Appl. Phys. Lett. 80, 3790 (2002).
17. W. M. Zhu and Z.-G. Ye, Ceram. Int. 30, 1435 (2004).
18. M. Copel, J. D. Baniecki, P. R. Duncombe, D. Kotecki, R. Laibowitz, D. A. Neumayer and T. M. Shaw, Appl. Phys. Lett. 73, 1832 (1998).
19. S. C. Purandare, V. R. Palkar, J. John, M. S. Multani and R. Pinto, Appl. Phys. Lett. 72, 1179 (1998).
20. J. Wang, H. Zheng, Z. Ma, S. Prasertchoung, M. Wittig, R. Droopad, J. Yu, K. Eisenbeiser and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 85, 2574 (2004).
21. M.-W. Chu, M. Ganne, M. T. Caldes, E. Gautier and L. Brohan, Phys. Rev. B 68, 014102 (2003).