Effect of CaRuO3 interlayer on the dielectric properties of Ba (Zr,Ti)O3 thin films prepared by pulsed laser deposition

Applied Physics Letters

Volumn 89, Issue 14, 2006, Pages

  Tang, X G ^a,b   Tian, H Y ^b   Wang, J ^b   Wong, K H ^b   Chan, H L W ^b  

^a GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

^b HONG KONG POLYTECHNIC UNIVERSITY   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BUFFER LAYERS; DC BIAS FIELDS; NANOSIZED GRAINS; SURFACE IMAGES;

BARIUM COMPOUNDS; CALCIUM COMPOUNDS; DIELECTRIC PROPERTIES; ENERGY DISSIPATION; PERMITTIVITY; PULSED LASER DEPOSITION;

THIN FILMS;

EID: 33749582631     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2360177     Document Type: Article

References (22)

1. J. S. Scott, Annu. Rev. Mater. Sci. 28, 79 (1998).
2. X. X. Xi, H. C. Li, W. D. Si, A. A. Sirenko, I. A. Akimov, J. R. Fox, A. M. Clark, and J. H. Hao, J. Electroceram. 4, 390 (2000).
3. D. Hennings, A. Schnell, and G. Simon, J. Am. Ceram. Soc. 65, 539 (1982).
4. X. G. Tang, K. H. Chew, and H. L. W. Chan, Solid State Commun. 131, 163 (2004).
5. Z. Yu, C. Ang, R. Guo, and A. S. Bhalla, Appl. Phys. Lett. 81, 1285 (2002).
6. X. G. Tang, K. H. Chew, and H. L. W. Chan, Acta Mater. 52, 5177 (2004).
7. W. S. Choi, B. S. Jang, D. G. Lim, J. Yi, and B. Hong, J. Cryst. Growth 237-239, 438 (2002).
8. A. Dixit, S. B. Majumder, R. S. Katiyar, and A. S. Bhalla, Appl. Phys. Lett. 82, 2679 (2003).
9. A. R. James and C. Prakash, Appl. Phys. Lett. 84, 1165 (2004).
10. Y. A. Jeou, E. S. Choi, T. S. Seo, and S. G. Yoon, Appl. Phys. Lett. 79, 1012 (2001).
11. S. G. Lu, X. H. Zhu, C. L. Mak, K. H. Wong, H. L. W. Chan, and C. L. Choy, Appl. Phys. Lett. 82, 2788 (2003).
12. K. H. Yoon, J. H. Sohn, and B. D. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 5012 (2002).
13. D. Galt, J. C. Price, J. A. Beall, and R. H. Ono, Appl. Phys. Lett. 63, 3078 (1993).
14. X. G. Tang, H. L. W. Chan, and A. L. Ding, Thin Solid Films 460, 227 (2004).
15. S. Halder, S. Bhattacharyya, and S. B. Krupanidhi, Mater. Sci. Eng., B 95, 124 (2002).
16. J. Zhai, X. Yao, L. Zhang, and B. Shen, Appl. Phys. Lett. 84, 3136 (2004).
17. P. Padmini, T. R. Taylor, M. J. Lefevre, A. S. Nagra, R. A. York, and J. S. Speck, Appl. Phys. Lett. 75, 3186 (1999).
18. T. M. Shaw, Z. Suo, M. Huang, E. Liniger, R. B. Laibowitz, and J. D. Baniecki, Appl. Phys. Lett. 75, 2129 (1999).
19. C. Zhou and D. M. Newns, J. Appl. Phys. 82, 3081 (1997).
20. C. Basceri, S. K. Streiffer, A. I. Kingon, and R. Waser, J. Appl. Phys. 82, 2497 (1997).
21. C. Hofer, U. Ellerkamnn, S. Halder, R. Meyer, and R. Waser, J. Electroceram. 13, 101 (2004).
22. B. Chen, H. Yang, J. Miao, L. Zhao, L. X. Cao, B. Xu, X. G. Qiu, and B. R. Zhao, J. Appl. Phys. 97, 024106 (2005).