First-principles investigation of hydroxylated monoclinic HfO 2 surfaces

Chemistry of Materials

Volumn 18, Issue 15, 2006, Pages 3397-3403

  Mukhopadhyay, Atashi B ^a   Sanz, Javier Fdez ^a,b   Musgrave, Charles B ^a  

^a Stanford University   (United States)

^b Facultad de Química   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORPTION ENERGY; ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD); CONFORMAL FILMS; HYDROXYLATED MONOCLINIC HFO2 SURFACES;

ADSORPTION; CONFORMAL MAPPING; HYDROXYLATION; PROBABILITY DENSITY FUNCTION; STEREOCHEMISTRY; THERMODYNAMIC PROPERTIES;

SURFACE CHEMISTRY;

EID: 33746870728     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm060679r     Document Type: Article

References (28)

1. Kingon, A.; Maria, J.-P.; Streiffe, S. Nature (London) 2000, 406, 1032.
2. Packan, P. A. Science 1999, 285, 2079.
3. Ritala, M.; Leskela, M.; Niinisto, L.; Prohaska, T.; Friedbacher, G.; Grasserbauer, M. Thin Solid Films 1994, 250, 72.
4. Aarik, J.; Aidla, A.; Kiisler, A. A.; Uustare, T.; Sammelselg, V. Thin Solid Films 1999, 340, 110.
5. Sankur, H. O.; Gunning, W. Appl. Opt. 1989, 28, 2806.
6. Cho, M. H.; Roh, Y. S.; Whang, C. N.; Jeong, K.; Nahm, S. W.; Ko, D. H.; Lee, J. H.; Lee, N. I.; Fujihara, K. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 472.
7. Ho, M. Y.; Gong, H.; Wilk, G. D.; Busch, B. W.; Green, M. L.; Voyles, P. M.; Muller, D. A.; Bude, M.; Lin, W. H.; See, A.; Loomans, M. E.; Lahiri, S. K.; Räisänen, P. T. J. Appl. Phys. 2003, 93, 1477.
8. Triyoso, D.; Liu, R.; Roan, D.; Ramon, M.; Edwards, N. V.; Gregory, R.; Werho, D.; Kulik, J.; Tarn, G.; Irwin, E.; Wang, X. D.; La, L. B.; Hobbs, C.; Garcia, R.; Baker, J.; White, B. E.; Tobin, P. J. Electochem. Soc. 2004, 151 (10), F220.
9. Aarik, J.; Aidla, A.; Mändar, H.; Sammelselg, V.; Uustare, T. J. Cryst. Growth 2000, 220, 105.
10. Aarik, A.; Mändar, H.; Kirm, M.; Pung, L. Thin Solid Films 2004, 466, 41.
11. Kukli, K.; Aarik, J.; Ritala, M.; Uustare, T.; Sajavaara, T.; Lu, J.; Sundqvist, J.; Aidla, A.; Pung, L.; Harsta, A.; Lesela, M. J. Appl. Phys. 2004, 96, 5298.
12. Matero, R.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskelä, M.; Sajavaara, T. Thin Solid Films 2000, 368, 1.
13. Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2004, 95, 4774.
14. Alam, M. A.; Green, M. L. J. Appl. Phys. 2003, 94, 3403.
15. Puurunen, R. L. Chem, Vap. Deposition 2003, 9, 249.
16. Iskandarova, I. M.; Knizhnik, A. A.; Rykova, E. A.; Bagatur'yants, A. A.; Potapkin, B. V.; Korkin, A. A. Microelectron. Eng. 2003, 69, 587.
17. Mukhopadhyay, A. B.; Sanz, J. F.; Musgrave, C. B. Phys. Rev. B 2006, 73, 115330.
18. Arrouvel, C.; Digne, M.; Breysse, M.; Toulhoat, H.; Raybaud, P. J. Catal. 2004, 222, 152.
19. Raybaud, P.; Digne, M.; Iftmie, R.; Wellens, W.; Euzen, P.; Toulhoat, H. J. Catal. 2001, 207, 236.
20. Digne, M.; Sautet, P.; Raybaud, P.; Euzen, P.; Toulhoat, H. J. Catal. 2002, 211, 1.
21. Kresse, G.; Hafner, J. Phys. Rev. B 1993, 47, R558.
22. Kresse, G.; Furthmuller, J. Comput. Mater. Sci. 1996, 6, 15.
23. Perdew, J. P.; Chevary, J.; Vosko, S.; Jackson, K.; Pederson, M.; Singh, D.; Fiolhais, C. Phys. Rev. B 1992, 46, 6671.
24. Perdew, J. P. In Electronic Structure in Solids, Ziesche, P., Eschrig, H., Eds.; Akademie Verlag: Berlin, 1991.
25. Blöchl, P. E. Phys. Rev. B 1994, 50, 17953.
26. Harris, J. Phys. Rev. B 1985, 31, 1770.
27. Hausmann, D. M.; Kim, E.; Becker, J.; Gordon, R. G. Chem. Mater. 2002, 14, 4350.
28. Jung, K. T.; Bell, A. T. J. Mol. Catal. A: Chem. 2000, 163, 27.