Enhancement in ferroelectric properties of Pb (Zr0.4 Ti 0.6) O3 thin-film capacitors with Pt Ox electrodes

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 153, Issue 6, 2006, Pages

  Huang, Chun Kai ^a   Chiou, Yan Kai ^a   Chu, Yan Chang ^a   Wu, Tai Bor ^a   Tsai, Cho Jen ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CAPACITORS; DURABILITY; ELECTROCHEMICAL ELECTRODES; FATIGUE OF MATERIALS; FERROELECTRICITY; LEAD COMPOUNDS; RAPID THERMAL ANNEALING;

FATIGUE ENDURANCE; POLARIZATION-SWITCHING CHARACTERISTICS; REMNANT POLARIZATION; THIN-FILM CAPACITORS;

THIN FILM DEVICES;

EID: 33646417336     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2192747     Document Type: Article

References (34)

1. K. Kushida-Abdelghafar, H. Miki, K. Torii, and Y. Fujisaki, Appl. Phys. Lett., 69, 3188 (1996).
2. J. J. Lee, C. L. Thio, and S. B. Desu, J. Appl. Phys., 78, 5073 (1995).
3. T. D. Hadnagy and D. J. Sheldon, Integr. Ferroelectr., 4, 217 (1994).
4. S. Thakoor, J. Appl. Phys., 75, 5409 (1994).
5. M. S. Chen, T. B. Wu, and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett., 68, 1432 (1996).
6. S. Aggarwal, T. K. Song, A. M. Dhote, A. S. Prakash, R. Ramesh, N. Velasquez, L. Boyer, and J. T. Evans, J. Appl. Phys., 83, 1617 (1998).
7. C. B. Eom, R. B. Van Dover, J. M. Phillips, D. J. Werder, J. H. Marshall, C. H. Chen, R. J. Cava, R. M. Fleming, and D. K. Fork, Appl. Phys. Lett., 63, 2570 (1993).
8. T. Nakamura, Y. Nakao, A. Kamisawa, and H. Takasu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 33, 5207 (1994).
9. S. D. Bernstein, T. Y. Wong, Y. Kisler, and R. W. Tustison, J. Mater. Res., 8, 12 (1993).
10. H. N. Al-Shareef, K. R. Bellur, A. I. Kingon, and O. Auciello, Appl. Phys. Lett., 66, 239 (1995).
11. T. Nakamura, Y. Nakao, A. Kamisawa, and H. Takasu, Appl. Phys. Lett., 65, 1522 (1994).
12. Y. Abe, M. Kawamura, and K. Sasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 38, 2092 (1999).
13. K. L. Saenger, C. Cabral, Jr., C. Lavoie, and S. M. Rossnagel, J. Appl. Phys., 86, 6084 (1999).
14. C.-K. Huang and T.-B. Wu, Appl. Phys. Lett., 83, 3147 (2003).
15. Y.-C. Chen, Y.-M. Sun, and J.-Y. Gan, Thin Solid Films, 460, 25 (2004).
16. B. S. Lee and J. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 38, L870 (1999).
17. K. Lee, B. R. Rhee, and C. Lee, Appl. Phys. Lett., 79, 821 (2001).
18. C.-L. Liu, Z.-Y. Lee, T.-B. Wu, S.-L. Lung, and R. Liu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 41, 6054 (2002).
19. K. Kushida-Abdelghafar, K. Torii, T. Mine, T. Kachi, and Y. Fujisaki, J. Vac. Sci. Technol. B, 18, 231 (2000).
20. J. Hong, H. W. Song, H. C. Lee, W. J. Lee, and K. No, J. Appl. Phys., 90, 1962 (2001).
21. W. L. Warren, G. E. Pike, K. Vanheusden, D. Dimos, B. A. Tuttle, and J. Robertson, J. Appl. Phys., 79, 9250 (1996).
22. T. Friessnegg, S. Aggarwal, R. Ramesh, B. Nielsen, E. H. Poindexter, and D. J. Keeble, Appl. Phys. Lett., 77, 127 (2000).
23. I. Chung, I. K. Yoo, W. Lee, C. W. Chung, J. K. Lee, and S. B. Desu, ISAF '94, Proceedings 527 (1994).
24. T. Kumazawa, Y. Kumagai, H. Miura, M. Kitano, and K. Kushida, Appl. Phys. Lett., 72, 608 (1998).
25. J. Lappalainen, J. Frantti, and V. Lantto, J. Appl. Phys., 82, 3469 (1997).
26. G. A. C. M. Spierings, G. J. M. Dormans, W. G. J. Moors, M. J. E. Ulenaers, and P. K. Larsen, J. Appl. Phys., 78, 1926 (1995).
27. M. H. Kim, T.-S. Park, E. Yoon, D.-S. Lee, D.-Y. Park, H.-J. Woo, D.-I. Chun, and J. Ha, J. Mater. Res., 14, 1255 (1999).
28. S. Hyun, R. P. Vinci, K. P. Fahey, and B. M. Clemens, Appl. Phys. Lett., 83, 2769 (2003).
29. P. M. Alexander and R. W. Hoffman, J. Vac. Sci. Technol., 13, 96 (1976).
30. C. U. Pinnow, I. Kasko, N. Nagel, S. Poppa, T. Mikolajick, W. Hösler, F. Bleyl, F. Jahnel, M. Seibt, U. Geyer, and K. Samwer, J. Appl. Phys., 91, 9591 (2002).
31. W. Gong, J.-F. Li, X. Chu, Z. Gui, and L. Li, J. Appl. Phys., 96, 590 (2004).
32. M. H. Lente, A. Picinin, J. P. Rino, and J. A. Eiras, J. Appl. Phys., 95, 2646 (2004).
33. A. K. Tagantsev, I. Stolichnov, E. L. Colla, and N. Setter, J. Appl. Phys., 90, 1387 (2001).
34. S. Pöykkö and D. J. Chadi, Phys. Rev. Lett., 83, 1231 (1999).