Plasma etching and hydrogen blocking characteristics of PtOx thin films in ferroelectric capacitor fabrication

Applied Physics Letters

Volumn 83, Issue 15, 2003, Pages 3147-3149

  Huang, Chun Kai ^a   Wu, Tai Bor ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; CAPACITORS; FERROELECTRICITY; PLASMA ETCHING; PLATINUM COMPOUNDS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

HYDROGEN BLOCKING;

ELECTRODES;

EID: 0242304448     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1610250     Document Type: Article

References (19)

1. J. F. Scott and C. A. Paz de Araujo, Science 246, 1400 (1989).
2. P. C. Joshi and S. B. Krupanidhi, Appl. Phys. Lett. 61, 1525 (1992).
3. K. Takemura, T. Sakuma, and Y. Miyasaka, Appl. Phys. Lett. 64, 2967 (1994).
4. M. S. Chen, T. B. Wu, and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 68, 1430 (1996).
5. K. R. Milkove and C. X. Wang, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 596 (1997).
6. K. H. Kwon, S. Y. Kang, G. Y. Yeom, N. K. Hong, and J. H. Lee, J. Electrochem. Soc. 147, 1807 (2000).
7. S. Aggarwal, S. R. Perusse, C. W. Tipton, R. Ramesh, H. D. Drew, T. Venkatesan, D. B. Romero, V. B. Podobedov, and A. Weber, Appl. Phys. Lett. 73, 1973 (1998).
8. S. Seo, J. G. Yoon, T. K. Song, B. S. Kang, T. W. Noh, Y. K. Lee, C. J. Kim, and Y. S. Park, Appl. Phys. Lett. 81, 697 (2002).
9. M. H. Kim, T. S. Park, D. S. Lee, and E. Yoon, J. Mater. Res. 14, 634 (1999).
10. W. S. Kim, J. W. Kim, H. H. Park, and H. N. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 7097 (2000).
11. K. Lee, B. R. Rhee, and C. Lee, Appl. Phys. Lett. 79, 821 (2001).
12. C. L. Liu, Z. Y. Lee, T. B. Wu, S. L. Lung, and R. Liu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 6054 (2002).
13. T. P. Liu, W. P. Huang, and T. B. Wu, J. Vac. Sci. Technol. A 21, 502 (2003).
14. M. C. Chiang, F. M. Pan, H. C. Cheng, J. S. Liu, S. H. Chan, and T. C. Wei, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 181 (2000).
15. W. J. Yoo, J. H. Hwan, H. W. Kim, C. O. Jung, Y. B. Koh, and M. Y. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 2501 (1996).
16. T. Shibano, K. Nakamura, T. Takenaga, and K. Ono, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 799 (1999).
17. C. W. Chung and I. Chung, J. Vac. Sci. Technol. A 18, 835 (2000).
18. Y. Abe, H. Yanagisawa, and K. Sasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 4482 (1998).
19. T. Shibano, K. Nakamura, and T. Oomori, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 502 (1998).