Atomic structure of (111) SrTiO 3/Pt interfaces

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 13, 2006, Pages

  Schmidt, Steffen ^a   Klenov, Dmitri O ^a   Keane, Sean P ^a   Lu, Jiwei ^a   Mates, Thomas E ^a   Stemmer, Susanne ^a  

^a University of California   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADHESION LAYER; HIGH-ANGLE ANNULAR DARK FIELD (HAADF); SRTI O3;

DIELECTRIC PROPERTIES; ELECTRODES; INTERFACES (MATERIALS); PLATINUM; SAPPHIRE; STRONTIUM COMPOUNDS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

THIN FILMS;

EID: 33645519760     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2191410     Document Type: Article

References (28)

1. O. Auciello, J. F. Scott, and R. Ramesh, Phys. Today 5, 22 (1998).
2. A. K. Tagantsev, V. O. Sherman, K. F. Astafiev, J. Venkatesh, and N. Setter, J. Electroceram. 11, 5 (2003).
3. M. Y. Zhuravlev, R. F. Sabirianov, S. S. Jaswal, and E. Y. Tsymbal, Phys. Rev. Lett. 94, 246802 (2005).
4. G. W. Dietz, M. Schumacher, R. Waser, S. K. Streiffer, C. Basceri, and A. I. Kingon, J. Appl. Phys. 82, 2359 (1997).
5. H. N. Al-Shareef, K. R. Bellur, A. I. Kingon, and O. Auciello, Appl. Phys. Lett. 66, 239 (1995).
6. C. Zhou and D. M. Newns, J. Appl. Phys. 82, 3081 (1997).
7. J. D. Baniecki, R. B. Laibowitz, T. M. Shaw, P. R. Duncombe, D. A. Neumayer, D. E. Kotecki, H. Shen, and Q. Y. Ma, Appl. Phys. Lett. 72, 498 (1998).
8. K. Ikuta, Y. Umeda, and Y. Ishii, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L1211 (1995).
9. D. C. Dube, J. Baborowski, P. Muralt, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 74, 3546 (1999).
10. A. Asthagiri and D. S. Sholl, Surf. Sci. 581, 66 (2005).
11. A. D. Polli, T. Wagner, T. Gemming, and M. Rühle, Surf. Sci. 448, 279 (2000).
12. S. Schmidt, J. W. Lu, S. P. Keane, L. D. Bregante, D. O. Klenov, and S. Stemmer, J. Am. Ceram. Soc. 88, 789 (2005).
13. S. Schmidt, Y.-W. Ok, D. O. Klenov, J. W. Lu, S. P. Keane, and S. Stemmer, J. Mater. Res. 20, 2261 (2005).
14. T. Tani, Z. Xu, and D. A. Payne, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 310, 269 (1993).
15. K. Aoki, Y. Fukuda, K. Numata, and A. Nishimura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 192 (1995).
16. C. S. Hwang, M. D. Vaudin, and P. K. Schenck, J. Mater. Res. 13, 368 (1998).
17. P. Muralt, T. Maeder, L. Sagalowicz, S. Hiboux, S. Scalese, D. Naumovic, R. G. Agostino, N. Xanthopoulos, H. J. Mathieu, L. Patthey, and E. L. Bullock, J. Appl. Phys. 83, 3835 (1998).
18. T. C. Tisone and J. Drobek, J. Vac. Sci. Technol. 9, 271 (1971).
19. G. R. Fox, S. Trolier-McKinstry, S. B. Krupanidhi, and L. M. Casas, J. Mater. Res. 10, 1508 (1995).
20. M. DiBattista and J. W. Schwenk, J. Appl. Phys. 86, 4902 (1999).
21. K. Sreenivas, I. Reaney, T. Maeder, N. Setter, C. Jagadish, and R. G. Elliman, J. Appl. Phys. 75, 232 (1994).
22. S. P. Keane, S. Schmidt, J. W. Lu, and S. Stemmer, J. Appl. Phys. 99, 033521 (2006).
23. C. Basceri, S. K. Streiffer, A. I. Kingon, and R. Waser, J. Appl. Phys. 82, 2497 (1997).
24. J. W. Lu, S. Schmidt, Y.-W. Ok, S. P. Keane, and S. Stemmer, J. Appl. Phys. 98, 054101 (2005).
25. P. D. Nellist and S. J. Pennycook, Adv. Imaging Electron Phys. 113, 147 (2000).
26. D. O. Klenov, J. M. Zide, J. D. Zimmerman, A. C. Gossard, and S. Stemmer, Appl. Phys. Lett. 86, 241901 (2005).
27. A. G. Evans, J. W. Hutchinson, and Y. Wei, Acta Mater. 47, 4093 (1999).
28. M. M. Saad, P. Baxter, R. M. Bowman, J. M. Gregg, F. D. Morrison, and J. F. Scott, J. Phys.: Condens. Matter 16, L451 (2004).