Nitride-based UV metal-insulator-semiconductor photodetector with liquid-phase-deposition oxide

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 44, Issue 11, 2005, Pages 7913-7915

  Hwang, J D ^a   Yang, Gwo Huei ^a   Yang, Yuan Yi ^a   Yao, Pin Cuan ^a  

^a DA YEH UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

GaN; Liquid phase deposition; Photodetector; Responsivity; SiO2

Indexed keywords

CONCENTRATION (PROCESS); DEPOSITION; GALLIUM NITRIDE; LOW TEMPERATURE EFFECTS; MIS DEVICES; PHOTODETECTORS; SILICA; SOLUTIONS;

GAN; LIQUID PHASE DEPOSITION; RESPONSIVITY;

NITRIDES;

EID: 31544438000     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.44.7913     Document Type: Article

References (14)

1. J. I. Pankove: Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 162 (1990) 515.
2. G. Parish, S. Keller, P. Kozodoy, J. A. Ibbetson, H. Marchand, P. T. Fini, S. B. Fleischer, S. P. DenBaars and U. K. Mishra: Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 247.
3. Q. Chen, J. W. Yang, A. Osinsky, S. Gangopadhyay, B. Lim, M. Z. Anwar, M. Asif Khan, D. Kuksenkov and H. Temkin: Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 2277.
4. P. Kung, X. Zhang, D. Walker, A. Saxler, J. Piotrowski, A. Rogalski and M. Razeghi: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3792.
5. H. C. Casey, Jr., G. G. Fountain, R. G. Alley, B. P. Keller and S. P. DenBaars: Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 1850.
6. K. Matocha, R. J. Gutmann and T. P. Chow: IEEE Trans. Electron Devices 50 (2003) 1200.
7. S. J. Chang, Y. K. Su, F. S. Juang, C. T. Lin, C. D. Chiang and Y. T. Cherng: IEEE J. Quantum Electron. 36 (2000) 583.
8. C. T. Lin, Y. K. Su, S. J. Chang, H. T. Huang, S. M. Chang and T. P. Sun: IEEE Photonics Technol. Lett. 9 (1997) 232.
9. J. D. Hwang, G. H. Yang, W. T. Chang, C. C. Lin, R. W. Chuang and S. J. Chang: Microelectron. Eng. 77 (2005) 71.
10. C. J. Huang, J. R. Chen and S. P. Huang: Mater. Chem. Phys. 70 (2001) 78.
11. H. R. Wu, K. W. Lee, T. B. Nian, D. W. Chou, J. J. Huang, Y. H. Wang, M. P. Houng, P. W. Sze, Y. K. Su, S. J. Chang, C. H. Ho, C. I. Chiang, Y. T. Chern, F. S. Juang, T. C. Wen, W. I. Lee and J. I. Chyi: Mater. Chem. Phys. 80 (2003) 329.
12. D. W. Chou, K. W. Lee, J. J. Huang, H. R. Wu, Y. H. Wang, M. P. Houng, S. J. Chang and Y. K. Su: Jpn. J. Appl. Phys. 41 (2002) L748.
13. M. L. Lee, J. K. Sheu, W. C. Lai, S. J. Chang, Y. K. Su, M. G. Chen, C. J. Kao, G. C. Chi and J. M. Tsai: J. Appl. Phys. 94 (2003) 1753.
14. B. C. Hsu, S. T. Chang, T. C. Chen, P. S. Kuo, P. S. Chen, Z. Pei and C. W. Liu: IEEE Electron Device Lett. 24 (2003) 318.