Effects of rf power and substrate temperature during rf magnetron sputtering on crystal quality of ZnO thin films

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 44, Issue 12, 2005, Pages 8501-8503

  Kim, Choongmo ^a   Kim, Sookjoo ^a   Lee, Chongmu ^a  

^a Inha University   (South Korea)

Author keywords

Photoluminescence; rf magnetron sputtering; rf power; Substrate temperature; X ray diffraction; ZnO thin films

Indexed keywords

ANNEALING; CRYSTALLOGRAPHY; MAGNETRON SPUTTERING; PHOTOLUMINESCENCE; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; THIN FILMS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

CRYSTALLOGRAPHIC DEFECTS; RF POWER; SUBSTRATE TEMPERATURE; ZNO THIN FILMS;

ZINC OXIDE;

EID: 31544433965     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.44.8501     Document Type: Article

References (18)

1. Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma and Y. Segawa: Appl. Phys. Lett. 72 (1998) 3270.
2. H. J. Ko, Y. F. Chen, S. K. Hong, H. Wemisch, T. Yao and D. C. Look: Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 3761.
3. A. Yamamoto, T. Kido, T. Goto, Y. F. Chen and T. Yao: Appl. Phys. Lett. 75 (1999) 469.
4. H. J. Ko, T. Yao, Y. Chen and S. K. Hong: J. Appl. Phys. 92 (2002) 4354.
5. T. Ohgaki, N. Ohashi, H. Kakemoto, S. Wada, Y. Adachi, H. Haneda and T. Tsurumi: J. Appl. Phys. 93 (2002) 1961.
6. Y. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Zhu and T. Yao: J. Appl. Phys. 84 (1998) 3912.
7. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu and T. Yao: Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 2230.
8. J. F. Muth, R. M. Kolbas, A. K. Sharama, S. Oktyabrsky and J. Narayan: J. Appl. Phys. 85 (1999) 7884.
9. R. D. Vispute, V. Talyansky, Z. Trajanovic, S. Choopun, M. Downes, R. P. Shrama and T. Venkatesan: Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 2735.
10. C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback and H. Shen: J. Appl. Phys. 85 (1999) 2595.
11. K. Ogata, T. Kawanishi, K. Maejima, K. Sakurai, Sz. Fujita and Sg. Fugita: J. Cryst. Growth 237 (2002) 553.
12. T. Minami, H. Nanto and S. Takata: Jpn. J. Appl. Phys. 23 (1984) L280.
13. K. H. Kim, K. C. Park and D. Y. Ma: J. Appl. Phys. 81 (1997) 7764.
14. S. H. Jeong, B. S. Kim and B. T. Lee: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 2625.
15. K. K. Kim, J. H. Song, H. J. Jung, W. K. Choi, S. J. Park, J. H. Song and J. Y. Lee: J. Vac. Sci. Technol. A 18 (2000) 2864.
16. K. K. Kim, J. H. Song, H. J. Jung, W. K. Choi, S. J. Park and J. H. Song: J. Appl. Phys. 87 (2000) 3573.
17. G. Xiong, J. Wilkinson, B. Mischuck, S. Tuzemen, K. B. Ucer and R. T. Williams: Appl. Phys. Lett. 80 (2002) 1195.
18. A. Yamada, B. Sang and M. Konagai: Appl. Surf. Sci. 112 (1997) 216.