-
1
-
-
0011504527
-
-
No. 50067
-
F. M. d'Heurle, P. Gas, I. Engström, S. Nygren, M. Östling, and C. S. Peterson, IBM Res. Rep. RC 11151, No. 50067 (1985).
-
(1985)
IBM Res. Rep. RC 11151
-
-
D'Heurle, F.M.1
Gas, P.2
Engström, I.3
Nygren, S.4
Östling, M.5
Peterson, C.S.6
-
3
-
-
0026105523
-
-
J. B. Lasky, J. S. Nakos, O. J. Cain, and P. J. Geiss, IEEE Trans. Electron Devices, ED-38, 262 (1991).
-
(1991)
IEEE Trans. Electron Devices
, vol.ED-38
, pp. 262
-
-
Lasky, J.B.1
Nakos, J.S.2
Cain, O.J.3
Geiss, P.J.4
-
4
-
-
36449003528
-
-
J. A. Kittl, D. A. Prinslow, P. P. Apte, and M. F. Pas, Appl. Phys. Lett., 67, 2308 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.67
, pp. 2308
-
-
Kittl, J.A.1
Prinslow, D.A.2
Apte, P.P.3
Pas, M.F.4
-
5
-
-
36449009080
-
-
K. L. Saenger, C. Cabral, L. A. Clevenger, R. A. Roy, and S. Wind, J. Appl. Phys., 78, 7040 (1995).
-
(1995)
J. Appl. Phys.
, vol.78
, pp. 7040
-
-
Saenger, K.L.1
Cabral, C.2
Clevenger, L.A.3
Roy, R.A.4
Wind, S.5
-
6
-
-
0033279704
-
-
R. A. Roy, C. Cabral, Jr., and C. Lavoie, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 564, 35 (1999).
-
(1999)
Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
, vol.564
, pp. 35
-
-
Roy, R.A.1
Cabral Jr., C.2
Lavoie, C.3
-
7
-
-
36449000435
-
-
T. P. Nolan, R. Sinclair, and R. Beyers, J. Appl. Phys., 71, 720 (1992).
-
(1992)
J. Appl. Phys.
, vol.71
, pp. 720
-
-
Nolan, T.P.1
Sinclair, R.2
Beyers, R.3
-
8
-
-
0028436587
-
-
G. E. Georgiou, H. Abiko, F. A. Baiocchi, N. T. Ha, and S. Nakahara, J. Electrochem. Soc., 141, 1351 (1994).
-
(1994)
J. Electrochem. Soc.
, vol.141
, pp. 1351
-
-
Georgiou, G.E.1
Abiko, H.2
Baiocchi, F.A.3
Ha, N.T.4
Nakahara, S.5
-
9
-
-
36448998909
-
-
R. W. Mann, G. L. Miles, T. A. Knotts, D. W. Rakowski, L. A. Clevenger, J. M. E. Harper, F. M. D'Heurle, and C. Cabral, Jr., Appl. Phys. Lett., 67, 3729 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.67
, pp. 3729
-
-
Mann, R.W.1
Miles, G.L.2
Knotts, T.A.3
Rakowski, D.W.4
Clevenger, L.A.5
Harper, J.M.E.6
D'Heurle, F.M.7
Cabral Jr., C.8
-
10
-
-
21544465619
-
-
J. A. Kittl, M. A. Gribelyuk, and S. B. Samavedam, Appl. Phys. Lett., 73, 900 (1998).
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.73
, pp. 900
-
-
Kittl, J.A.1
Gribelyuk, M.A.2
Samavedam, S.B.3
-
11
-
-
0000065299
-
-
A. Mouroux, S.-L. Zhang, W. Kaplan, S. Nygren, M. Östling, and C. S. Peterson, Appl. Phys. Lett., 69, 975 (1996).
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.69
, pp. 975
-
-
Mouroux, A.1
Zhang, S.-L.2
Kaplan, W.3
Nygren, S.4
Östling, M.5
Peterson, C.S.6
-
12
-
-
0037080509
-
-
F. La Via, F. Mammoliti, and M. G. Grimaldi, J. Appl. Phys., 91, 633 (2002).
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.91
, pp. 633
-
-
La Via, F.1
Mammoliti, F.2
Grimaldi, M.G.3
-
13
-
-
0001764970
-
-
S. Y. Chen, Z. X. Shen, K. Li, A. K. See, and L. H. Chan, Appl. Phys. Lett., 77, 4395 (2000).
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.77
, pp. 4395
-
-
Chen, S.Y.1
Shen, Z.X.2
Li, K.3
See, A.K.4
Chan, L.H.5
-
14
-
-
0038974569
-
-
K. Li, S. Y. Chen, and Z. X. Shen, Appl. Phys. Lett., 78, 3989 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 3989
-
-
Li, K.1
Chen, S.Y.2
Shen, Z.X.3
-
15
-
-
79956040896
-
-
T. Yu, S. C. Tan, Z. X. Shen, L. W. Chen, and J. Y. Lin, Appl. Phys. Lett., 80, 2266 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.80
, pp. 2266
-
-
Yu, T.1
Tan, S.C.2
Shen, Z.X.3
Chen, L.W.4
Lin, J.Y.5
-
16
-
-
0000009850
-
-
S. Y. Chen, Z. X. Shen, A. K. See, and L. H. Chan, J. Electrochem. Soc., 148, G734 (2001).
-
(2001)
J. Electrochem. Soc.
, vol.148
-
-
Chen, S.Y.1
Shen, Z.X.2
See, A.K.3
Chan, L.H.4
-
18
-
-
0035894290
-
-
F. M. d'Heurle, S. -L. Zhang, C. Lavoie, P. Gas, C. Cabral, Jr., and J. M. E. Harper, J. Appl. Phys., 90, 6409 (2001)
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.90
, pp. 6409
-
-
D'Heurle, F.M.1
Zhang, S.L.2
Lavoie, C.3
Gas, P.4
Cabral Jr., C.5
Harper, J.M.E.6
-
19
-
-
0000460777
-
-
L. A. Clevenger, R. W. Mann, R. A. Roy, K. L. Saenger, C. Cabral, Jr., and J. Picirillo, J. Appl. Phys., 76, 7874 (1994).
-
(1994)
J. Appl. Phys.
, vol.76
, pp. 7874
-
-
Clevenger, L.A.1
Mann, R.W.2
Roy, R.A.3
Saenger, K.L.4
Cabral Jr., C.5
Picirillo, J.6
-
20
-
-
0003191762
-
-
E. G. Colgan, L. A. Clevenger, and C. Cabral, Appl. Phys. Lett., 65, 2009 (1994).
-
(1994)
Appl. Phys. Lett.
, vol.65
, pp. 2009
-
-
Colgan, E.G.1
Clevenger, L.A.2
Cabral, C.3
-
22
-
-
0000010144
-
-
Z. Ma, Y. Xu, L. H. Allen, and S. See, J. Appl. Phys., 74, 2954 (1993).
-
(1993)
J. Appl. Phys.
, vol.74
, pp. 2954
-
-
Ma, Z.1
Xu, Y.2
Allen, L.H.3
See, S.4
-
23
-
-
36448999839
-
-
Z. Ma, L. H. Allen, and D. D. J. Allman, J. Appl. Phys., 77, 4384 (1995).
-
(1995)
J. Appl. Phys.
, vol.77
, pp. 4384
-
-
Ma, Z.1
Allen, L.H.2
Allman, D.D.J.3
-
24
-
-
0002673393
-
-
C. Dell'Oca and W. M. Bullis, Editors, PV 82-7, The Electrochemical Society, Pennington, NJ
-
F. M. d'Heurle, in VLSI Science and Technology,C. Dell'Oca and W. M. Bullis, Editors, p. 194, PV 82-7, The Electrochemical Society, Pennington, NJ (1982).
-
(1982)
VLSI Science and Technology
, pp. 194
-
-
D'Heurle, F.M.1
-
26
-
-
0034246215
-
-
M. S. Chen, Z. X. Shen, S. H. Tang, W. S. Shi, D. F. Cui, and Z. H. Chen, J. Phys.: Condens. Matter, 12, 7013 (2000).
-
(2000)
J. Phys.: Condens. Matter
, vol.12
, pp. 7013
-
-
Chen, M.S.1
Shen, Z.X.2
Tang, S.H.3
Shi, W.S.4
Cui, D.F.5
Chen, Z.H.6
-
32
-
-
0000586374
-
-
P. Ravindran, Lars Fast, P. A. Korzhavyi, B. Johansson, J. Wills, and O. Eriksson, J. Appl. Phys., 84, 4891 (1998).
-
(1998)
J. Appl. Phys.
, vol.84
, pp. 4891
-
-
Ravindran, P.1
Fast, L.2
Korzhavyi, P.A.3
Johansson, B.4
Wills, J.5
Eriksson, O.6
|