Identification of refractory-metal-free C40 TiSi2 for low temperature C54 TiSi2 formation

Applied Physics Letters

Volumn 78, Issue 25, 2001, Pages 3989-3991

  Li, K ^a   Chen, S Y ^b   Shen, Z X ^b  

^a System on Silicon Manufacturing Co Pte Ltd   (Singapore)

^b NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0038974569     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1378309     Document Type: Article

References (17)

1. S. M. Chang, H. Y. Huang, H. Y. Yang, and L. J. Chen, Appl. Phys. Lett. 74, 224 (1999).
2. M. Okihara, N. Hirashita, K. Tai, M. Kageyama, Y. Harada, and H. Onada, J. Appl. Phys. 85, 2988 (1999).
3. R. T. Tung. Appl. Phys. Lett. 68, 1933 (1996).
4. A. Quintero, M. Libera, C. Cabral, Jr., C. Lavoie, and J. M. E. Harper, J. Mater. Res. 14, 4690 (1999).
5. A. Mouroux, S. L. Zhang, W. Kaplan, S. Nygren, M. Ostling, and C. S. Petersson, Appl. Phys. Lett. 69, 975 (1996).
6. A. Mouroux, S. L. Zhang, and C. S. Petersson, Phys. Rev. B 56, 10 614 (1997).
7. C. Cabral, Jr., L. A. Clevenger, J. M. E. Harper, F. M. d'Heurle, R. A. Roy, K. L. Saenger, G. L. Miles, and R. W. Mann, J. Mater. Res. 12, 304 (1997).
8. C. Cabral, Jr., L. A. Clevenger, J. M. H. Harper, F. M. d'Heurle, R. A. Roy, C. Lavoie, K. L. Saenger, G. L. Miles, R. W. Mann, and J. S. Nakos, Appl. Phys. Lett. 71, 3531 (1997).
9. S. L. Cheng, J. J. Jou, L. J. Chen, and B. Y. Tsui, J. Mater. Res. 14, 2061 (1999).
10. S. Ohmi and R. T. Tung, J. Appl. Phys. 86, 3655 (1999).
11. R. W. Mann, G. L. Miles, T. A. Knotts, D. W. Rakowski, L. A. Clevenger, J. M. Harper, F. M. d'Heurle, and C. Cabral, Jr., Appl. Phys. Lett. 67, 3729 (1995).
12. J. A. Kittle, M. A. Gribelyuk, and S. B. Samavedam, Appl. Phys. Lett. 73, 900 (1998).
13. S. Y. Chen, Z. X. Shen, K. Li, A. K. See, and L. H. Chan, Appl. Phys. Lett. 77, 4395 (2000).
14. 1998 JCPDS-International Centre for Diffraction Data.
15. A. Mouroux, T. Epicier, S.-L. Zhang, and P. Pinard, Phys. Rev. B 60, 9165 (1999).
16. S. Motakef, J. M. E. Harper, F. M. d'Heurle, T. A. Gallo, and N. Herbots, J. Appl. Phys. 70, 2660 (1991).
17. J. S. Luo, J. C. Huang, W. T. Lin, C. Y. Yang, and P. S. Shih, Appl. Phys. Lett. 75, 3482 (1999).