Colloidal Au/linker molecule multilayer films: Low-temperature thermal coalescence and resistance changes

Chemistry of Materials

Volumn 17, Issue 17, 2005, Pages 4325-4334

  Supriya, Lakshmi ^a   Claus, Richard O ^a  

^a VIRGINIA POLYTECHNIC INSTITUTE AND STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

1,10-DECANEDITHIOL (DD); 1,6-HEXANEDITHIOL (HD); 2-MERCAPTOETHANOL (ME); LINKER MOLECULE MULTILAYER FILMS;

COALESCENCE; ETHANOL; GOLD; HEATING; LOW TEMPERATURE PHENOMENA; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; ULTRAVIOLET RADIATION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

COLLOIDS;

EID: 24944530531     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm050583h     Document Type: Article

References (54)

1. Colvin, V. L.; Schlamp, M. C.; Alivisatos, A. P. Nature 1994, 370, 354.
2. Schmid, G.; Talapin, D. V.; Shevchenko, E. V. Nanoparticles 2004, 251.
3. Weller, H. Philos. Trans. R. Soc. London, Ser. A 2003, 361, 229.
4. Hu, K.; Brust, M.; Bard, A. J. Chem. Mater. 1998, 10, 1160.
5. Giersig, M.; Mulvaney, P. Langmuir 1993, 9, 3408.
6. Brust, M.; Bethell, D.; Schiffrin, D. J.; Kiely, C. J. Adv. Mater. 1995, 7, 795.
7. Andres, R. P.; Bielefeld, J. D.; Henderson, J. I.; Janes, D. B.; Kolagunta, V. R.; Kubiak, C. P.; Mahoney, W. J.; Osifchin, R. G. Science 1996, 273, 1690.
8. Kumar, A.; Pattarkine, M.; Bhadbhade, M.; Mandale, A. B.; Ganesh, K. N.; Datar, S. S.; Dharmadhikari, C. V.; Sastry, M. Adv. Mater. 2001, 13, 341.
9. Fendler, J. H. Chem. Mater. 1996, 8, 1616.
10. Freeman, R. G.; Grabar, K. C.; Allison, K. J.; Bright, R. M.; Davis, J. A.; Guthrie, A. P.; Hommer, M. B.; Jackson, M. A.; Smith, P. C.; Walter, D. J.; Natan, M. J. Science 1995, 267, 1629.
11. Koglin, E.; Kreisig, S. M.; Copitzky, T. Prog. Colloid Polym. Sci. 1831, 109, 232.
12. Grabar, K. C.; Freeman, R. G.; Hommer, M. B.; Natan, M. J. Anal. Chem. 1995, 67, 735.
13. Leopold, N.; Lendl, B. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 5723.
14. Hutter, E.; Fendler, J. H.; Roy, D. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 11159.
15. Jin, Y.; Kang, X.; Song, Y.; Zhang, B.; Cheng, G.; Dong, S. Anal. Chem. 2001, 73, 2843.
16. Doron, A.; Katz, E.; Willner, I. Langmuir 1995, 11, 1313.
17. Richardson, J. N.; Osisek, A. J.; Dyer, A. L. Electroanalysis 2003, 15, 1567.
18. Joseph, Y.; Krasteva, N.; Besnard, I.; Guse, B.; Rosenberger, M.; Wild, U.; Knop-Gericke, A.; Schloegl, R.; Krustev, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. Faraday Discuss. 2003, 125, 77.
19. Joseph, Y.; Besnard, I.; Rosenberger, M.; Guse, B.; Nothofer, H.-G.; Wessels, J. M.; Wild, U.; Knop-Gericke, A.; Su, D.; Schloegl, R.; Yasuda, A.; Vossmeyer, T. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 7406.
20. (a) Bethell, D.; Brust, M.; Schiffrin, D. J.; Kiely, C. J. Electroanal. Chem. 1996, 409, 137.
21. (b) Brust, M.; Bethell, D.; Kiely, C. J.; Schiffrin, D. J. Langmuir 1998, 14, 5425.
22. (a) Grabar, K. C.; Allison, K. J.; Baker, B. E.; Bright, R. M.; Brown, K. R.; Freeman, R. G.; Fox, A. P.; Keating, C. D.; Musick, M. D.; Natan, M. J. Langmuir 1996, 12, 2353.
23. (b) Musick, M. D.; Keating, C. D.; Lyon, L. A.; Botsko, S. L.; Pena, D. J.; Holliway, W. D.; McEvoy, T. M.; Richardson, J. N.; Natan, M. J. Chem. Mater. 2000, 12, 2869.
24. (a) Wuelfing, W. P.; Zamborini, F. P.; Templeton, A. C.; Wen, X.; Yoon, H.; Murray, R. W. Chem. Mater. 2001, 13, 87.
25. (b) Zamborini, F. P.; Leopold, M. C.; Hicks, J. F.; Kulesza, P. J.; Malik, M. A.; Murray, R. W. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 8958.
26. Goss, C. A.; Charych, D. H.; Majda, M. Anal. Chem. 1991, 63, 85.
27. Park, S.-H.; Im, J.-H.; Im, J.-W.; Chun, B.-H.; Kim, J.-H. Microchem. J. 1999, 63, 71.
28. Brown, K. R.; Natan, M. J. Langmuir 1998, 14, 726.
29. Brown, K. R.; Lyon, L. A.; Fox, A. P.; Reiss, B. D.; Natan, M. J. Chem. Mater. 2000, 12, 314.
30. Fishelson, N.; Shkrob, I.; Lev, O.; Gun, J.; Modestov, A. D. Langmuir 2001, 17, 403.
31. Foos, E. E.; Snow, A. W.; Twigg, M. E.; Ancona, M. G. Chem. Mater. 2002, 14, 2401.
32. Musick, M. D.; Keating, C. D.; Keefe, M. H.; Natan, M. J. Chem. Mater. 1997, 9, 1499.
33. Liu, Y.; Wang, Y.; Claus, R. O. Chem. Phys. Lett. 1998, 298, 315.
34. Musick, M. D.; Pena, D. J.; Botsko, S. L.; McEvoy, T. M.; Richardson, J. N.; Natan, M. J. Langmuir 1999, 15, 844.
35. Lu, M.; Li, X. H.; Yu, B. Z.; Li, H. L. J. Colloid Interface Sci. 2002, 248, 376.
36. Zhang, H.-L.; Evans, S. D.; Henderson, J. R. Adv. Mater. 2003, 15, 531.
37. Hicks, J. F.; Young, S.-S.; Murray, R. W. Langmuir 2002, 18, 2288.
38. Supriya, L.; Claus, R. O. Langmuir 2004, 20, 8870.
39. Prevo, B. G.; Fuller, J. C., III.; Velev, O. D. Chem. Mater. 2005, 17, 28.
40. 2, and at 90° takeoff angles the depth probed is about 5 nm. Hence the volume probed is 1 mm × 3 mm × 5 nm.
41. Clerc, J. P.; Giraud, G.; Laugier, J. M.; Luck, J. M. Adv. Phys. 1990, 39, 191.
42. Xu, B.; Tao, N. J. Science 2003, 301, 1221.
43. By use of the value of resistance R and the area A of the film = 0.5 cm (width) × 108 nm (thickness) (e.g., for Au-HD) and length L = 1 cm, the resistivity (ρ) was computed using the formula, ρ = RA/L.
44. Supriya, L.; Claus, R. O. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3715.
45. Castner, D. G.; Hinds, K.; Grainger, D. W. Langmuir 1996, 12, 5083.
46. Ishida, T.; Choi, N.; Mizutani, W.; Tokumoto, H.; Kojima, I.; Azehara, H.; Hokari, H.; Akiba, U.; Fujihira, M. Langmuir 1999, 15, 6799.
47. Lee, M.-T.; Hsueh, C.-C.; Freund, M. S.; Ferguson, G. S. Langmuir 1998, 14, 6419.
48. Kodama, C.; Hayashi, T.; Nozoye, H. Appl. Surf. Sci. 2001, 169-170, 264.
49. Schienoff, J. B.; Li, M.; Ly, H. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 12528.
50. Lavrich, D. J.; Wetterer, S. M.; Bernasek, S. L.; Scoles, G. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 3456.
51. Leung, T. Y. B.; Gerstenberg, M. C.; Lavrich, D. J.; Scoles, G.; Schreiber, F.; Poirier, G. E. Langmuir 2000, 16, 549.
52. Lala, N.; Lalbegi, S. P.; Adyanthaya, S. D.; Sastry, M. Langmuir 2001, 17, 3766.
53. Mulvaney, P. Langmuir 1996, 12, 788.
54. Kunz, M. S.; Shull, K. R.; Kellock, A. J. J. Colloid Interface Sc. 1993, 156, 240.