-
1
-
-
0032166781
-
-
P. C. Andricacos, C. Uzoh, J. O. Dukovic, J. Horkans, and H. Delogianni, IBM J. Res. Dev., 42, 567 (1998).
-
(1998)
IBM J. Res. Dev.
, vol.42
, pp. 567
-
-
Andricacos, P.C.1
Uzoh, C.2
Dukovic, J.O.3
Horkans, J.4
Delogianni, H.5
-
3
-
-
0030130033
-
-
M. Desilva, Y. Shacham-Diamand, R. Soave, and H. Kim, J. Electrochem. Soc., 143, L78 (1996).
-
(1996)
J. Electrochem. Soc.
, vol.143
-
-
Desilva, M.1
Shacham-Diamand, Y.2
Soave, R.3
Kim, H.4
-
4
-
-
0031095713
-
-
V. M. Dubin, Y. Shacham-Diamand, B. Zhao, P. K. Vasudev, and C. H. Ting, J. Electrochem. Soc., 144, 898 (1997).
-
(1997)
J. Electrochem. Soc.
, vol.144
, pp. 898
-
-
Dubin, V.M.1
Shacham-Diamand, Y.2
Zhao, B.3
Vasudev, P.K.4
Ting, C.H.5
-
5
-
-
0032165230
-
-
H. T. Ng, S. F. Y. Li, L. Chan, F. C. Loh, and K. L. Tan, J. Electrochem. Soc., 145, 3301 (1998).
-
(1998)
J. Electrochem. Soc.
, vol.145
, pp. 3301
-
-
Ng, H.T.1
Li, S.F.Y.2
Chan, L.3
Loh, F.C.4
Tan, K.L.5
-
8
-
-
0002205755
-
-
J. C. Patterson, M. O'Reilly, G. M. Crean, and J. Barrett, Microelectron. Eng., 33, 65 (1997).
-
(1997)
Microelectron. Eng.
, vol.33
, pp. 65
-
-
Patterson, J.C.1
O'Reilly, M.2
Crean, G.M.3
Barrett, J.4
-
11
-
-
0035126848
-
-
H. H. Hsu, K. H. Lin, S. J. Lin, and J. W. Yeh, J. Electrochem. Soc., 148, C47 (2001).
-
(2001)
J. Electrochem. Soc.
, vol.148
-
-
Hsu, H.H.1
Lin, K.H.2
Lin, S.J.3
Yeh, J.W.4
-
12
-
-
0001593208
-
-
H. H. Hsu, C. C. Hsieh, M. H. Chen, S. J. Lin, and J. W. Yeh, J. Electrochem. Soc., 148, C590 (2001).
-
(2001)
J. Electrochem. Soc.
, vol.148
-
-
Hsu, H.H.1
Hsieh, C.C.2
Chen, M.H.3
Lin, S.J.4
Yeh, J.W.5
-
13
-
-
0036503764
-
-
H. H. Hsu, C. W. Teng, S. J. Lin, and J. W. Yeh, J. Electrochem. Soc., 149, C143 (2002).
-
(2002)
J. Electrochem. Soc.
, vol.149
-
-
Hsu, H.H.1
Teng, C.W.2
Lin, S.J.3
Yeh, J.W.4
-
14
-
-
0041779988
-
-
S. Y. Chang, C. J. Hsu, R. H. Fang, and S. J. Lin, J. Electrochem. Soc., 150, C603 (2003).
-
(2003)
J. Electrochem. Soc.
, vol.150
-
-
Chang, S.Y.1
Hsu, C.J.2
Fang, R.H.3
Lin, S.J.4
-
15
-
-
0842311656
-
-
S. Y. Chang, C. W. Lin, H. H. Hsu, J. H. Fang, and S. J. Lin, J. Electrochem. Soc., 151, C81 (2004).
-
(2004)
J. Electrochem. Soc.
, vol.151
-
-
Chang, S.Y.1
Lin, C.W.2
Hsu, H.H.3
Fang, J.H.4
Lin, S.J.5
-
18
-
-
84957232737
-
-
L. A. Nagahara, T. Ohmori, K. Hashimoto, and A. Fujishima, J. Vac. Sci. Technol. A, 11, 763 (1993).
-
(1993)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.11
, pp. 763
-
-
Nagahara, L.A.1
Ohmori, T.2
Hashimoto, K.3
Fujishima, A.4
-
19
-
-
58149211660
-
-
J. C. Patterson, C. N. Dheasuna, J. Barrett, T. R. Spalding, M. O'Reilly, X. Jiang, and G. M. Crean, Appl. Surf. Sci., 91, 124 (1995).
-
(1995)
Appl. Surf. Sci.
, vol.91
, pp. 124
-
-
Patterson, J.C.1
Dheasuna, C.N.2
Barrett, J.3
Spalding, T.R.4
O'Reilly, M.5
Jiang, X.6
Crean, G.M.7
-
20
-
-
0021529794
-
-
J. Kim, S. H. Wen, D. Y. Jung, and R. W. Johnson, IBM J. Res. Dev., 28, 697 (1984).
-
(1984)
IBM J. Res. Dev.
, vol.28
, pp. 697
-
-
Kim, J.1
Wen, S.H.2
Jung, D.Y.3
Johnson, R.W.4
-
22
-
-
0037255373
-
-
S. W. Hong, Y. S. Lee, K. C. Park, and J. W. Park, J. Electrochem. Soc., 150, C16 (2003).
-
(2003)
J. Electrochem. Soc.
, vol.150
-
-
Hong, S.W.1
Lee, Y.S.2
Park, K.C.3
Park, J.W.4
-
24
-
-
84975402954
-
-
R. L. Cohen, J. F. D. Amico, and K. W. West, J. Electrochem. Soc., 118, 2042 (1971).
-
(1971)
J. Electrochem. Soc.
, vol.118
, pp. 2042
-
-
Cohen, R.L.1
Amico, J.F.D.2
West, K.W.3
|