Charge transport and optical properties of MOCVD-derived highly transparent and conductive Mg- and Sn-doped In2O3 thin films

Inorganic Chemistry

Volumn 44, Issue 17, 2005, Pages 6071-6076

  Ni, Jun ^a   Wang, Lian ^a   Yang, Yu ^a   Yan, He ^a   Jin, Shu ^a   Marks, Tobin J ^a   Ireland, John R ^b   Kannewurf, Carl R ^b  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

^b Northwestern University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 24044492211     PISSN: 00201669     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ic0501364     Document Type: Article

References (37)

1. Chopra, K. L.; Major, S.; Pandya, D. K. Thin Solid Films 1983, 102, 1.
2. (a) Ohta, H.; Hosono, H. Mater. Today 2004, June, 42.
3. (b) Ginley, D. S.; Bright, C. MRS Bulletin 2000, 8, 15.
4. (c) Granqvist, C. G. Appl. Phys. A 1991, 52, 83.
5. Prince, J. J.; Ramamurthy, S.; Subramanian, B.; Sanjeeviraja, C.; Jayachandran, M. J. Cryst. Growth 2002, 240, 142.
6. (a) Pan, C. A.; Ma, T. P. J. Electrochem. Soc. 1981, 128, 1953.
7. (b) Taga, N.; Maekawa, M.; Shigesato, Y.; Yasui, I.; Kakei, M.; Haynes, T. E. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1998, 37, 6524.
8. (a) Wang, A. C.; Dai, J. Y.; Cheng, J. Z.; Chudzik, M. P.; Marks, T. J.; Chang, R. P. H.; Kannewurf, C. R. Appl. Phys. Lett. 1998, 73 327.
9. (b) Moriga, T.; Edwards, D. D.; Mason, T. O.; Palmer, G. B. Poeppelmeier, K. R.; Schindler, J. L.; Kannewurf, C. R.; Nakabayashi I. J. Am. Ceram. Soc. 1998, 81, 1310.
10. (c) Phillips, J. M.; Cava, R. J. Thomas, G. A.; Carter, S. A.; Kwo, J.; Siegrist, T.; Krajewski, J. J. Marshall, J. H.; Peck, W. F.; Rapkine, D. H. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 2246.
11. Palmer, G. B.; Poeppelmeier, K. R.; Mason, T. O. Chem. Mater. 1997, 9, 3121.
12. (a) Wu, X.; Coutts, T. J.; Mulligan, W. P. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 1057.
13. (b) Shannon, R. D.; Gillson, J. L.; Bouchard, R. J. J. Phys. Chem. Solids 1977, 38, 877.
14. Wang, A.; Babcock, J. R.; Edleman, N. L.; Metz, A. W.; Lane, M. A.; Asahi, R.; Dravid, V. P.; Kannewurf, C. R.; Freeman, A. J.; Marks, T. J. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2001, 98, 7113.
15. Kanai, Y. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1985, 24, L361.
16. Ueda, N.; Omata, T.; Hikuma, N.; Ueda, K.; Mizoguchi, H.; Hashimoto, T.; Kawazoe, H. Appl. Phys. Lett. 1992, 61, 1954.
17. Hosono, H.; Unno, H.; Ueda, N.; Kawazoe, H.; Matsunami, N.; Tanoue, H. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 1995, 106, 517.
18. Minami, T.; Takata, S.; Kakumu, T.; Sonohara, H. Thin Solid Films 1995, 270, 22.
19. Minami, T.; Miyata, T.; Yamamoto, T. Surf. Coat. Technol. 1998, 109, 583.
20. Wakaki, M.; Yasuo, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1986, 25, 502.
21. Ni, J.; Yan, H.; Wang, A.; Yang, Y.; Stern, C. L.; Metz, A. W.; Jin, S.; Wang, L.; Marks, T. J.; Ireland, J.; Kannewurf, C. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 5613.
22. Babcock, J. R.; Benson, D. D.; Wang, A.; Edleman, N. L.; Belot, J. A.; Metz, A. W.; Marks, T. J. Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 180.
23. (a) Jablonski, Z.; Rychlowskahimmel, I.; Dyrek, M. Spectrochim. Acta, Part A 1979, 35, 1297.
24. (b) Utsunomi, K. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1971, 44, 2688.
25. (a) Ewings, P. F. R.; Harrison, P. G.; Fenton, D. E. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1975, 821.
26. (b) Bos, K. D.; Budding, H. A.; Bulten, E. J.; Noltes, J. G. Inorg. Nucl. Chem. Lett. 1973, 9, 961.
27. Hinds, B. J.; McNeely, R. J.; Studebaker, D. B.; Marks, T. J.; Hogan, T. P.; Schindler, J. L.; Kannewurf, C. R.; Zhang, X. F.; Miller, D. J. J. Mater. Res. 1997, 12, 1214.
28. Lyding, J. W.; Marcy, H. O.; Marks, T. J.; Kannewurf, C. R. IEEE Trans. Instrum. Meas. 1988, 37, 76.
29. (a) Shanthi, E.; Dutta, V.; Banerjee, A.; Chopra, K. L. J. Appl. Phys. 1980, 51, 6243.
30. (b) Demichelis, F.; Minetti-Mezzett, E.; Smurro, V.; Tagliaferro, A.; Tresso, E. J. Phys. D: Appl. Phys. 1985, 18, 1825.
31. Wickersham, C. E.; Greene, J. E. Phys. Status Solidi A 1978, 47, 329.
32. Metz, A. W.; Ireland, J. R.; Zheng, J. G.; Lobo, R. P. S. M.; Yang, Y.; Ni, J.; Stern, C. L.; Dravid, V. P.; Bontemps, N.; Kannewurf, C. R.; Poeppelmeier, K. R.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 8477.
33. Fukarek, W.; Kersten, H. J. Vac. Sci. Technol, A 1994, 12, 523.
34. Hamberg, I.; Granqvist, C. G. J. Appl. Phys. 1986, 60, R123.
35. (a) Kim, H.; Pique, A.; Horwitz, J. S.; Mattoussi, H.; Murata, H.; Kafafi, Z. H.; Chrisey, D. B. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 3444.
36. (b) Tahar, R. B. H.; Ban, T.; Ohya, Y.; Takahashi, Y. J. Appl. Phys. 1998, 83, 2631.
37. Hwang, J. H.; Edwards, D. D.; Kammler, D. R.; Mason, T. O. Solid State Ionics 2000, 129, 135.