MOCYD of Sr-containing oxides: Transport properties and deposition mechanisms of the Sr(tmhd)2·pmdeta precursor

Chemical Vapor Deposition

Volumn 11, Issue 5, 2005, Pages 269-275

  Bedoya, Cedric ^a   Condorelli, Guglielmo G ^a   Motto, Alessandro ^a   Di Mauro, Alessandro ^a   Anastasi, Giuseppe ^a   Fragalà, Ignazio L ^a   Lisoni, Judit G ^b   Wouters, Dirk ^b  

^a UNIVERSITY OF CATANIA   (Italy)

^b IMEC   (Belgium)

Author keywords

diketonates; Liquid delivery system; MOCVD; Strontium

Indexed keywords

DECOMPOSITION; EVAPORATION; FILM GROWTH; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; OXIDES; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; STRONTIUM; SUBLIMATION; TRANSPORT PROPERTIES; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

Β-DIKETONATES; CHEMICAL STABILITY; LIQUID DELIVERY SYSTEMS; PRECURSOR DECOMPOSITION;

METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 20544438628     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200406356     Document Type: Article

References (44)

1. S. Saha, D. Y. Kaufman, S. K. Streiffer, O. Auciello, Appl. Physics Lett. 2003, 83, 1414.
2. T. Nakamura, K. Tachibana, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2001, 40, 338.
3. M. Yamamuka, S. Momose, T. Nakamura, K. Tachibana, H. Takada, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2002, 41, 2231.
4. S. Momose, T. Nakamura, K. Tachibana, Jpn. J. Apply. Phys., Part 1 2000, 39, 5384.
5. F. Weiss,J. Lindner,J. P. Senateur, C. Dubourdieu, V. Galindo, M. Audier, A. Abrutis, M. Rosina, K. Frohlich, W. Haessler, S. Oswald, A. Figueras Santiso, J. Surf. Coat. Technol. 2000, 133-134, 191.
6. T. Kimora, H. Yamauchi, H. Machida, H. Kokubun, M. Yamada, Jpn. J. Appl. Phys., Part 11994, 33, 5119.
7. A. N. Golubenko, L. V. Yakovkina, T. P. Smirnova, Yu. V. Shubin, N. B. Morozova, V. S. Danilovich, Inorg. Mater. 2004, 40, 516.
8. C. A. Araujo, J. D. Cuchiaro, L. D. McMillan, M. C. Scott, J. F. Scott, Nature 2002, 374, 627.
9. H. Funakubo, Topics Appl. Phys. 2004, 93, 95.
10. R. Ramesh, S. Aggarwal, O. Auciello, Mater. Sci. Eng. R. 2001, 32.
11. R. Zambrano, Mater. Sci. Semicond. Proc. 2002, 5, 305.
12. A. C. Jones, P. R. Chalker, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 80.
13. R. Gardiner, D. W. Brown, P. S. Kirlin, A. L. Rheingold, Chem. Mater. 1991, 3, 1053.
14. J. Brooks, H. O. Davies, T. J. Leedham, A. C. Jones, A. Steiner, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 66.
15. A. D. Berry, R. T. Holm, D. K.Gaskill, J. Mater. Res. 1990, 5, 1169.
16. A. C. Jones, J. Mater. Chem. 2002, 12, 2576.
17. J. F. Roeder, B. C. Hendrix, F. Hintermaier, D. A. Desrochers, T. H. Baum, G. Bhandari, M. Chappuis, P. C. Van Buskirk, C. Dehm, E. Fritsch, N. Nagel, H. Wendt, H. Cerva, W. Honlein, C. Mature, J. Eur. Ceram. Soc. 1999, 19, 1463.
18. J. W. Park, J. T. Kim, S. M. Koo, C. G. Kim, Y. S. Kim, Polyhedron 2000, 19, 2547.
19. S. R. Drake, M. B. Hursthouse, K. M. Abdul Malik, D. J. Otway, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1993, 19, 2883.
20. S. R. Drake, S. A. S. Miller, M. B. Hursthouse, K. M. A. Malik, Polyhedron 1993, 12, 1621.
21. H. K. Ryu, J. S. Heo, S. I. Cho, C. Chung, S. H. Moon, J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 1130.
22. N. B. Colthup, L. H. Daly, S. E. Wibiberley, Introduction to Infrared and Raman Spectroscopy, Academic Press, New York 1964, p. 319.
23. K. Nakamoto, Infrared and Raman Spectra of Inorganic and Coordination Compounds, John Wiley and Sons, New York 1978, p.249.
24. Y. S. Cho, S. I. Cho, H. K. Ryu, J. S. Heo, D. H. Lee, S. H. Moon, J. Electrochem. Soc. 2003, 150, 11.
25. C. Bedoya, G. G. Condorelli, A. Di Mauro, G. Anastasi, I. L. Fragalà, J. Lisoni, D. Wouters, Mat. Sci. Eng. B 2005, 118, 265.
26. G. G. Condorelli, M. L. Hitchman, A. Y. Kovalgin, S. H. Shamlian, Proc. Electrochem. Soc. 1998, 98-23, 141.
27. G. G. Condorelli, M. L. Hitchman, A. Y. Kovalgin, S. H. Shamlian, in Chemical Vapor Deposition - Proc. 14th Int. Conf. and EUROCVD-11, Electrochem. Soc. Proc. (Eds: M. D. Allendorf, C. Bernard), Vol. 97-25,The Electrochemical Society, Pennington, NJ1997, p. 901.
28. V. V. Krisyuk, A. E. Turgambaeva, I. K. Igumenov, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 43.
29. A. E. Turgambaeva, A. F. Bykov, Igor K. Igumenov, J. Phys. IV 1995, 5, 221.
30. Joint Committee on Powder Diffraction Standards JCPDS card No. 05-418.
31. D. S. Kil, J. M. Lee, J. S. Roh, Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 195.
32. H. Van Doveren, J. A. Th. Verhoeven, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 1980, 21, 265.
33. R. P. Vasquez, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 1991, 56, 217.
34. M. I. Sosulnikiv, Yu. A. Teterin, J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom. 1992, 59, 111.
35. Z. Liu, K. Xie, N. Wu, D. Shen, Z. Lin, Chin. Phys. Lett. 1989, 6, 261.
36. S. Momose, R. Sahara, T. Nakamura, K. Tachibana, Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 5501.
37. G. G. Condorelli, A. Baeri, G. Anastasi, I. L. Fragalà, Mater. Sci. Semicond. Proc. 2003, 5, 167.
38. G. G. Condorelli, S. Gennaro, I. L. Fragalà, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 1851.
39. Yu. A. Teterin, M. I. Sosulnikiv, Phys. C (Amsterdam, Neth.) 1993, 212, 306.
40. P. Swift, Surf Inter. Anal. 1982, 4, 47.
41. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, P. M. W. Gill, B. G. Johnson, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, T. A. Keith, G. A. Petersson, J. A. Montgomery, K. Raghavachari, M. A. Al-Laham, V. G. Zakrzewski, J. V. Ortiz, J. B. Foresman, J. Cioslowski, B. B. Stefanov, A. Nanayakkara, M. Challcombe, C. J. Peng, P. Y. Ayala, W. Chen, M. W. Wong, J. L. Andres, E. E. S. Replogle, R. Gomperts, R. L. Martin, D. J. Fox, J. S. Binkley, D. J. Defrees, J. Baker, J. P. Stewart, M. Head-Gordon, C. Gonzalez, J. A. Pople, CAUSSIAN-98, Gaussian Inc., Pittsburgh, PA, 1995.
42. P. J. Hay, W. R. Wadt, J. Chem. Phys. 1985, 82, 299.
43. W. J. Hehre, R. Ditchfield, J. A. Pople, J. Chem. Phys. 1972, 56, 2257.
44. M. M. Franel, W. J. Pietro, W. J. Hehre, J. S. Binkley, M. S. Gordon, D. J. DeFrees, J. A. Pople, J. Chem. Phys. 1982, 77, 3654.