Direct Nanopatterning of Metal Surfaces Using Self-Assembled Molecular Films

Advanced Materials

Volumn 16, Issue 5, 2004, Pages 405-409

  Azzaroni, Omar ^a   Fonticelli, Mariano H ^a   Benitez, Guillermo ^a   Schilardi, Patricia L ^a   Gago, Raúl ^b   Caretti, Ignacio ^c   Vázquez, Luis ^c   Salvarezza, Roberto C ^a  

^a INSTITUTO DE INVESTIGACIONES FISICOQUÍMICAS TEÓRICAS Y APLICADAS INIFTA   (Argentina)

^b INSTITUTE OF ION BEAM PHYSICS AND MATERIALS RESEARCH   (Germany)

^c INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; CATALYSTS; CHEMICAL BONDS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ELECTRODEPOSITION; EVAPORATION; PH EFFECTS; PHOTOOXIDATION; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; REACTION KINETICS; SELF ASSEMBLY; SENSORS;

METAL SURFACES; NANOPATTERNING;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 1842535531     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200306190     Document Type: Article

References (41)

1. G. Timp, in Nanotechnology (Ed: G. Timp), Springer-Verlag, New York 1999.
2. S. Y. Chou, P. Krauss, W. Zhang, L. Guo, L. Zhuang, J. Vac. Sci. Technol., B 1999, 17, 2897.
3. L. Vattuone, U. Burghaus, L. Savio, M. Rocca, G. Constantini, E Bautier de Mongeot, C. Boragno, S. Rusponi, U. Valbusa, J. Chem. Phys. 2001, 115, 3346.
4. H. Sasaki, in Nanotechnology (Ed: G. Timp), Springer-Verlag, New York 1999, Ch. 5, pp. 207-256.
5. J. Zhang, M. Grubb, A. G. Hansen, A. M. Kuznetsov, A. Biosen, H. Wackerbarth, J. Ulstrup, J. Phys. C 2003, 15, S1873.
6. A. Thapa, D. C. Miller, T. J. Webster, K. M. Haberstroh, Biomaterials 2003, 24, 2915.
7. Y. Xia, J. A. Rogers, K. E. Paul, G. M. Whitesides, Chem. Rev. 1999, 99, 1823.
8. M. Colburn, S. Johnson, M. Stewart, S. Damle, T. Bailey, B. Choi, M. Wedlake, T. Michaelson, S. V. Sreenivasan, J. Ekerdt, C. G. Willson, in Emerging Lithographic Technologies III (Ed: Y. Vladimirsky), SPIE, Bellingham, WA 1999, p. 379.
9. R. Maboudian, W. R. Ashurst, C. Carraro, Sens. Actuators, A 2000, 82, 2193.
10. O. Azzaroni, P. L. Schilardi, R. C. Salvarezza, R. Gago, L. Vázquez, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 457.
11. P. L. Schilardi, O. Azzaroni, R. C. Salvarezza, Langmuir 2001, 17, 2748.
12. O. Azzaroni, P. L. Schilardi., R. C. Salvarezza, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 1061.
13. B. Brezger, T. H. Schulze, U. Drodofsky, J. Stuhler, S. Nowak, T. Pfau, J. Mlynek, J. Vac. Sci. Technol. B 1997, 15, 2905.
14. S. Rusponi, G. Constantini, F. Buatier de Mongeot, C. Boragno, U. Valbusa, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 3318.
15. J. J. McClelland, R. E. Scholten, E. C. Palm, R. J. Celotta, Science 1993, 262, 877.
16. R. Gago, L. Vázquez, R. Cuerno, M. Varela, C. Ballesteros, J. M. Albella, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 3316.
17. H. Ron, H. Cohen, S. Matlis, I. Rubinstein, J. Phys. Chem. B 1998, 102, 9861.
18. O. Azzaroni, M. E. Vela, M. Fonticelli, G. Benítez, B. Blum, P. Carro, R. C. Salvarezza, J. Phys. Chem. B, 2003, 107, 13 446.
19. H. Masuda, K. Fukuda, Science 1995, 268, 1466.
20. B. Michel, A. Bernard, A. Bietsch, E. Delamarche, M. Geissler, D. Juncker, H. Kind, J. P. Renault, H. E. Rothuizen, H. Schmid, P. Schmidt-Winkel, R. Stutz, H. Wolf, IBM J. Res. Dev. 2001, 45, 697.
21. M. J. Tarlov, Langmuir 1992, 8, 80.
22. F. Schreiber, Prog. Surf. Sci. 2000, 65, 151.
23. A. Ulman, Chem. Rev. 1996, 96, 1533.
24. O. Azzaroni, M. E. Vela, G. Andreasen, P. Carro, R. C. Salvarezza, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 12 267.
25. H. Hagenström, M. A. Schneeweiss, D. M. Kolb, Langmuir 1999, 15, 2435.
26. O. Azzaroni, P. L. Schilardi, R. C. Salvarezza, Electrochim. Acta 2003, 48, 3107.
27. M. Epple, A. M. Bittner, K. Kuhnke, K. Kern, W.-Q. Zheng, A. Tadjeddine, Langmuir 2002, 18, 773.
28. O. Cavalleri, H. Kind, A. M. Bittner, K. Kern, Langmuir 1998, 14, 7292.
29. A. Hooper, G. L. Fisher, K. Konstadinidis, D. Jung, H. Nguyen, R. Opila, R. W. Collins, N. Winograd, D. L. Allara, J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 8052.
30. A. M. Sondag-Huethorst, L. G. J. Fokkink, Langmuir 1995, 11, 4823.
31. S. Facsko, T. Dekorski, C. Koerdt, C. Trappe, H. Kurz, A. Vogt, H. L. Hartnagel, Science 1999, 285, 1551.
32. S. Aggarwal, A. P. Monga, S. R. Perusse, R. Ramesh, V. Ballarotto, E. D. Williams, B. R. Chalamala, Y. Wei, R. H. Reuss, Science 2000, 287, 2235.
33. L. E. Davis, N. C. MacDonald, P. W. Palmberg, G. E. Riachy, R. E. Weber, Handbook of Auger Electron Spectroscopy, 2nd ed., Physical Electronics, Eden Prairie, MN 1976.
34. Y. L. Loo, R. W. Willett, K. Baldwin, J. A. Rogers, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7654.
35. C. Kim, M. Shtein, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 4051.
36. J. Zaumseil, M. A. Meitl, J. W. P. Hsu, B. Acharya, K. W. Baldwin, Y.-L. Loo, J. A. Rogers, Nano Lett. 2003, 3, 1223.
37. H. Schmid, H. Wolf, R. Allenspach, H. Riel, S. Karg, B. Michel, E. Delamarche, Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 145.
38. Applications of Atomic Force Microscopy in Optical Disc Technology, Digital Instruments Applications Notes, http://www.di.com
39. D. M. Kolb, R. Ulman, T. Will, Science 1997, 275, 1097.
40. P. Vettiger, J. Brugger, M. Despont, U. Drechsler, U. Dürig, W. Häberle, M. Lutwyche, H. Rothuizen, R. Stutz, R. Widmer, G. Binnig, Microelectron. Eng. 1999, 46, 11.
41. D. K. Schwanz, Annu. Rev. Phys. Chem. 2001, 52, 107.