Predictive model for scanned probe oxidation kinetics

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 19, 2000, Pages 2710-2712

  Dagata, J A ^a   Perez Murano, F ^b   Abadal, G ^b   Morimoto, K ^c   Inoue, T ^d   Itoh, J ^d   Yokoyama, H ^d  

^a NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

^b UNIVERSITAT AUTÒNOMA DE BARCELONA   (Spain)

^c PANASONIC CORPORATION   (Japan)

^d ELECTROTECHNICAL LABORATORY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0346985485     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.126451     Document Type: Article

References (28)

1. J. A. Dagata, J. Schneir, H. H. Harary, C. J. Evans, M. T. Postek, and J. Bennett, Appl. Phys. Lett. 56, 2001 (1990); J. A. Dagata, Science 270, 1625 (1995), and references therein.
2. J. A. Dagata, J. Schneir, H. H. Harary, C. J. Evans, M. T. Postek, and J. Bennett, Appl. Phys. Lett. 56, 2001 (1990); J. A. Dagata, Science 270, 1625 (1995), and references therein.
3. K. Matsumoto, Y. Gotoh, T. Maeda, J. A. Dagata, and J. S. Harris, Appl. Phys. Lett. 76, 239 (1999).
4. R. W. Cohn, S. F. Lyuksyutov, K. M. Walsh, and M. M. Crain, Opt. Rev. 6, 345 (1999); G. Abadal, A. Boisen, Z. J. Davis, O. Hansen, and F. Grey, Appl. Phys. Lett. 74, 3206 (1999).
5. R. W. Cohn, S. F. Lyuksyutov, K. M. Walsh, and M. M. Crain, Opt. Rev. 6, 345 (1999); G. Abadal, A. Boisen, Z. J. Davis, O. Hansen, and F. Grey, Appl. Phys. Lett. 74, 3206 (1999).
6. E. S. Snow and P. M. Campbell, Appl. Phys. Lett. 64, 1932 (1994).
7. T. Hattori, Y. Ejiri, K. Saito, and M. Yasutake, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 2586 (1994).
8. T. Teuschler, K. Mahr, S. Miyazaki, M. Hundhausen, and L. Ley, Appl. Phys. Lett. 67, 3144 (1995).
9. A. E. Gordon, R. T. Fayfield, D. D. Lilfin, and T. K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2805 (1995).
10. D. Stievenard, P. A. Fontaine, and E. Dubois, Appl. Phys. Lett. 70, 3272 (1997).
11. P. Avouris, T. Hertel, and R. Martel, Appl. Phys. Lett. 71, 285 (1997).
12. J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh, and H. Yokoyama, Appl. Phys. Lett. 73, 271 (1998); J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh. K. Matsumoto, and H. Yokoyama, J. Appl. Phys. 84, 6891 (1998); F. Pérez-Murano, K. Morimoto, and J. A. Dagata, Appl. Phys. Lett. 75, 199 (1999); K. Morimoto, F. Perez-Murano, and J. A. Dagata, Appl. Surf. Sci. (in press).
13. J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh, and H. Yokoyama, Appl. Phys. Lett. 73, 271 (1998); J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh. K. Matsumoto, and H. Yokoyama, J. Appl. Phys. 84, 6891 (1998); F. Pérez-Murano, K. Morimoto, and J. A. Dagata, Appl. Phys. Lett. 75, 199 (1999); K. Morimoto, F. Perez-Murano, and J. A. Dagata, Appl. Surf. Sci. (in press).
14. J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh, and H. Yokoyama, Appl. Phys. Lett. 73, 271 (1998); J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh. K. Matsumoto, and H. Yokoyama, J. Appl. Phys. 84, 6891 (1998); F. Pérez-Murano, K. Morimoto, and J. A. Dagata, Appl. Phys. Lett. 75, 199 (1999); K. Morimoto, F. Perez-Murano, and J. A. Dagata, Appl. Surf. Sci. (in press).
15. J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh, and H. Yokoyama, Appl. Phys. Lett. 73, 271 (1998); J. A. Dagata, T. Inoue, J. Itoh. K. Matsumoto, and H. Yokoyama, J. Appl. Phys. 84, 6891 (1998); F. Pérez-Murano, K. Morimoto, and J. A. Dagata, Appl. Phys. Lett. 75, 199 (1999); K. Morimoto, F. Perez-Murano, and J. A. Dagata, Appl. Surf. Sci. (in press).
16. R. Garcia, M. Calleja, and H. Rohrer, J. Appl. Phys. 86, 1898 (1999).
17. Y. Y. Wei and G. Eres, Appl. Phys. Lett. 76, 194 (2000).
18. N. Cabrera and N. F. Mott, Rep. Prog. Phys. 12, 163 (1948).
19. F. P. Fehlner and N. F. Mott, Oxid. Met. 2, 59 (1970); F. P. Fehlner, Philos. Mag. B 55, 633 (1987).
20. F. P. Fehlner and N. F. Mott, Oxid. Met. 2, 59 (1970); F. P. Fehlner, Philos. Mag. B 55, 633 (1987).
21. H. H. Uhlig, Acta Metall. 4, 541 (1956).
22. E. H. Poindexter, C. F. Young, and G. J. Gerardi, in Fundamental Aspects of Ultrathin Dielectrics on Si-based Devices, edited by E. Garfunkel, E. Gusev, and A. Vul' (Kluwer, Dordrecht, 1998), p. 300.
23. A. K. Jonscher, Universal Relaxation Law (Chelsea Dielectrics Pr., London, 1996).
24. D. R. Wolters and A. T. A. Zegers-van Duynhoven, J. Appl. Phys. 65, 5126 (1989).
25. V. A. Mashkov, Wm. P. Austin, L. Zhang, and R. G. Leisure, Phys. Rev. Lett. 76, 2926 (1996).
26. R. A. Alberty and W. G. Miller, J. Chem. Phys. 26, 1231 (1957); see also, S. W. Benson, The Foundations of Chemical Kinetics (McGraw-Hill, New York, 1960).
27. R. A. Alberty and W. G. Miller, J. Chem. Phys. 26, 1231 (1957); see also, S. W. Benson, The Foundations of Chemical Kinetics (McGraw-Hill, New York, 1960).
28. T. Fromhold, Jr., in Oxides and Oxide Films, edited by J. W. Diggle and A. K. Vijh (Marcel Dekker, New York, 1976), Vol. 3, p. 1.