Atomic layer deposition of CuxS for solar energy conversion

Chemical Vapor Deposition

Volumn 9, Issue 1, 2003, Pages 15-20

  Reijnen, Liesbeth ^a   Meester, Ben ^a   Goossens, Albert ^a   Schoonman, Joop ^a  

^a DELFT UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

Atomic layer deposition; Copper; Solar cells; Sulfides; Titanium dioxide

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; COPPER COMPOUNDS; ELECTRIC POTENTIAL; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PHOTOVOLTAIC CELLS; SOLAR CELLS; SOLAR ENERGY; TITANIUM DIOXIDE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD); OPEN-CIRCUIT VOLTAGE; SURFACE AREA;

THIN FILMS;

EID: 0141980891     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200290001     Document Type: Article

References (32)

1. B O'Regan, M. Gratzel, Nature 1991, 353, 737.
2. U Bach, D Lupo, P. Comte, J. E. Moser, F. Weissortel, J. Salbeck, H. Spreitzer, M. Gratzel, Nature 1998, 395, 583.
3. K. Tennakone, G. R. R. A. Kumara, A. R. Kumarasinghe, K. G. U. Wijayantha, P. M. Sirimanne, Semicond Sci. Technol 1995, 10, 1689
4. B. O'Regan, D. T. Schwartz, S. M. Zakeeruddin, M. Grätzel, Adv. Mater. 2000, 12, 1263.
5. K. Tennakone, G. R. R. A. Kumara, K. G. U. Wijayantha, I. R. M. Kottegoda, V. P. S. Perera, G. M. L. P. Aponsu, Semicond. Sci. Technol. 1998, 13, 134.
6. C J. Brabec, N. S. Sariciftici, J. C. Hummelen, Adv. Funct Mater. 2001, 11, 15.
7. C. J. Brabee, S. E. Shaheen, T. Fromherz, F. Padinger, J. C. Hummelen, A. Dhanabalan, R. A. J. Janssen, Synth. Met. 2001, 121, 1517
8. K Ernst, I. Sieber, M. Neumann-Spallart, M. C. Lux-Steiner, R Konenkamp, Thin Solid Films 2000, 361-362, 213.
9. I Kaiser, K Ernst, C.-H. Fischer, R. Könenkamp, C. Rost, I. Sieber, M. C. Lux-Steiner, Sol. Energy Mater Sol. Cells 2001, 67, 89.
10. J. Möller, C.-H. Fischer, H-J. Muffler, R. Könenkamp, I. Kaiser, C Kelch, M. C. Lux-Steiner, Thin Solid Films 2000, 361-362, 113.
11. M. T. S. Nair, L Guerrero, P. K. Nair, Semicond. Sci. Technol. 1998, 75, 1164.
12. G. H. Hewig, F. Pfisterer, H. W. Schock, W. Arndt, W H. Bloss, in Proc. of the Conf. Rec. IEEE 16th Photovoltaic Spec. Conf. 1982, 713,
13. D. C. Reynolds, G. Leies, L. T. Antes, R. E. Marburger, Phys. Rev. 1954, 96, 533.
14. E. Vanhoecke, M. Burgelman, L. Anaf, Thin Solid Films 1986, 144, 223.
15. H. L. Hwang, J. J. Loferski, E. A. DeMco, R. Beaulieu, J. Cryst. Growth 1982, 59, 425
16. T Suntola, J. Antson, US Patent 4058 430, 1977.
17. M. Ritala, M. Leskelä, J.-P Dekker, P. J Soininen, J. Skarp. Chem. Vap Deposition 1999, 5, 7.
18. P Mårtenson, J.-O. Carlsson, J. Electrochem. Soc. 1998, 145, 2926.
19. P. Mårtenson, J.-O. Carlsson, Chem. Vap. Deposition 1997, 3, 45.
20. M. Utriainen, M. Kröger-Laukkanen, L S. Johansson, L. Niinisto, Appl. Surf. Sci. 2000, 157, 151.
21. S. Oda, H. Zama, S. Yamamoto, J. Cryst. Growth 1994, 145, 232.
22. J. Johansson, J. Kostamo, M. Karppinen, L Niinistoe, J. Mater. Chem. 2002, 12, 1022.
23. L Reijnen, B. Meester, A. Goossens, J. Schoonman, Mater, Sci. Eng. 2002, C19, 311.
24. K. Kukh, H. Heikkinen, E Nykanen, L. Niinistö, J. Alloys Compd. 1998, 276-277, 10.
25. J. Rautanen, M Leskela, L. Niinistö, E. Nykanen, P. Soininen, M. Utriainen, Appl. Surf. Sci. 1994, 82/83, 553.
26. C. Colominas, K H. Lau, D. L. Hildenbrand, S. Crouch-Baker, A. Sanjurjo, J. Chem. Eng Data 2001 46, 446.
27. K. Hanaoka, H. Ohnishi, H. Harima, K. Tachibana, Physica C 1991, 145.
28. A. E Turgambaeva, A. F. Bykov, I. K. Igumenov, J. Phys. IV 1995, C5-221.
29. P Tobaly, G. Lanchec, J. Chem. Thermodyn. 1993, 25, 503.
30. S. L. Cohen, M Liehr, S. Kasi, Appl. Phys. Lett 1992, 60, 50.
31. S. Haukka, M. Lindblad, T Suntola, Appl. Surf Sci. 1997, 112, 23.
32. R. Sekine, M. Kawai, Appl. Phys. Lett 1990, 56, 1466.