Thermally induced changes in the optical properties of SiNx:H films deposited by the electron cyclotron resonance plasma method

Journal of Applied Physics

Volumn 86, Issue 4, 1999, Pages 2055-2061

  Martinez F L ^a   Del Prado, A ^a   Martil I ^a   Gonzalez Diaz G ^a   Selle, B ^b   Sieber, I ^b  

^a UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID   (Spain)

^b HAHN MEITNER INSTITUT   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0042123033     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.371008     Document Type: Article

References (36)

1. E. A. Davis, N. Piggins, and S. C. Bayliss, J. Phys. C 20, 4415 (1987).
2. S. Hasegawa, M. Matsuda, and Y. Kurata, Appl. Phys. Lett. 58, 741 (1991).
3. S. Garcia, J. M. Martín, M. Fernández, I. Mártil, and G. González-Díaz, Philos. Mag. B 73, 487 (1996).
4. J. Robertson, Philos. Mag. B 63, 47 (1991).
5. W. L. Warren, J. Kanicki, F. C. Rong, and E. H. Poindexter, J. Electrochem. Soc. 139, 880 (1992).
6. S. S. He, M. J. Williams, D. J. Stephens, and G. Lucovsky, J. Non-Cryst. Solids 164-166, 731 (1993).
7. D. G. Park, Z. Chen, A. E. Botchkarev, S. N. Mohammad, and H. Morkoç, Philos. Mag. B 74, 219 (1996).
8. C. G. Parker, G. Lucovsky, and J. R. Hauser, IEEE Electron Device Lett. 19, 106 (1998).
9. H. J. Stein, S. M. Myers, and D. M. Follstaedt, J. Appl. Phys. 73, 2755 (1993).
10. R. E. Norberg, D. J. Leopold, and P. A. Fedders, J. Non-Cryst. Solids 227-230, 124 (1998).
11. G. Lucovsky and J. C. Phillips, J. Non-Cryst. Solids 227-230, 1221 (1998).
12. Z. Lu, P. Santos-Filho, G. Stevens, M. J. Williams, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 607 (1995).
13. Z. Jing, G. Lucovsky, and J. L. Whitten, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1613 (1995).
14. Z. Lu, S. S. He, Y. Ma, and G. Lucovsky, J. Non-Cryst. Solids 187, 340 (1995).
15. D. G. Park, Z. Chen, D. M. Diatezua, Z. Wang, A. Rockett, H. Morkoç, and S. A. Alterovitz, Appl. Phys. Lett. 70, 1263 (1997).
16. Y. Ma, T. Yasuda, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 952 (1993).
17. K. C. Lin and S. C. Lee, J. Appl. Phys. 72, 5474 (1992).
18. L. Cai, A. Rohatgi, D. Yang, and M. A. El-Sayed, J. Appl. Phys. 80, 5384 (1996).
19. A. Witzman, RUBSODY Users Guide, Friedrich-Schiller-Universität, Jena, 1992.
20. G. F. Bastin and H. J. M. Heijligers, Scanning 12, 225 (1990).
21. I. Sieber, A. Schoepke, and B. Selle, Fresenius J. Anal. Chem. 353, 639 (1995).
22. F. L. Martínez, I. Mártil, G. González-Díaz, B. Selle, and I. Sieber, J. Non-Cryst. Solids 227-230, 523 (1998).
23. D. V. Tsu, G. Lucovsky, and N. J. Mantini, Phys. Rev. B 33, 7069, (1986).
24. S. G. Tomlin, J. Phys. D 1, 1667 (1968).
25. J. L. Hernández-Rojas, M. L. Lucía, I. Mártil, G. González-Díaz, J. Santamaría, and F. Sánchez-Quesada, Appl. Opt. 31, 1606 (1992).
26. J. Taue, R. Grigorovici, and A. Vancu, Phys. Status Solidi 15, 627 (1966).
27. R. Urbach, Phys. Rev. 92, 1324 (1953).
28. J. Robertson, Philos. Mag. B 69, 307 (1994).
29. Z. Yin and F. W. Smith, Phys. Rev. B 43, 4507 (1991).
30. F. L. Martínez, A. del Prado, D. Bravo, F. López, I. Mártil, and G. González-Díaz, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 1280 (1999).
31. S. A. Almeida and S. R. P. Silva, Thin Solid Films 311, 133 (1997).
32. W. R. Knolle, Thin Solid Films 168, 123 (1989).
33. T. Makino, J. Electrochem. Soc. 130, 450 (1983).
34. F. L. Martínez, I. Mártil, G. González-Díaz, A. M. Bernal-Oliva, J. M. González-Leal, and E. Márquez, Thin Solid Films 343-344, 428 (1999).
35. S. Hasegawa, Y. Amano, T. Inokuma, and Y. Kurata, J. Appl. Phys. 72, 5676 (1992).
36. M. Stutzmann, Philos. Mag. B 60, 531 (1989).