Electrical and Optical Properties of Radio-Frequency-Sputtered Thin Films of (ZnO)5In2O3

Chemistry of Materials

Volumn 10, Issue 10, 1998, Pages 3033-3039

  Hiramatsu, Hidenori ^a   Seo, Won Seon ^a   Koumoto, Kunihito ^a  

^a NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000896153     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm980173b     Document Type: Article

References (31)

1. Nagatomo, T.; Maruta, Y.; Omoto, O. Thin Solid Films 1990, 192, 17.
2. Ray, S.; Banerjee, R.; Basu, A.; Batabyal, A. K.; Barua, A. K. J. Appl. Phys. 1983, 54, 3497.
3. Banerjee, R.; Das, D. Thin Solid Films 1987, 149, 291.
4. Minami, T.; Nanto, H.; Takata, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1984, 23, L280.
5. Minami, T.; Nanto, H.; Takata, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1985, 24, L605.
6. Orita, M.; Sakai, H.; Takeuchi, M.; Yamaguchi, Y.; Fujino, T.; Kojima, I. Trans. Mater. Res. Soc. Jpn. 1996, 20, 573.
7. Minami, T.; Sonohara, H.; Kakumu, T.; Tanaka, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, L971.
8. Minami, T.; Sonohara, H.; Takata, S.; Sato, H. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, L1693.
9. Kawazoe, H.; Ueda, N.; Un'no, H.; Omata, T.; Hosono, H.; Tanoue, T. J. Appl. Phys. 1994, 76, 7935.
10. Hosono, H.; Un'no, H.; Ueda, N.; Kawazoe, H.; Matsunami, N.; Tanoue, H. Nucl. Inst. Methods Phys. Res. 1995, B106, 517.
11. Orita, M.; Takeuchi, M.; Sakai, H.; Tanji, H. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, L1550.
12. Phillips, J. M.; Kwo, J.; Thomas, G. A.; Carter, S. A.; Cava, R. J.; Hou, S. Y.; Krajewski, J. J.; Marshall, J. H.; Peck, W. F.; Rapkine, D. H.; van Dover: R. B. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 115.
13. Kawazoe, H.; Yasukawa, M.; Hyodo, H.; Kurita, M.; Yanagi, H.; Hosono, H. Nature 1997, 389, 939.
14. Ohta, H.; Seo, W. S.; Koumoto, K. J. Am. Ceram. Soc. 1996, 79, 2193.
15. Kazeoka, M.; Hiramatsu, H.; Seo, W. S.; Koumoto, K. J. Mater. Res. 1998, 13, 523.
16. Kasper, H. Z. Anorg. Allg. Chem. 1967, 349, 113.
17. Cannard, P. J.; Tilley, R. J. D. J. Solid State Chem. 1988, 73, 73.
18. Nakamura, M.; Kimizuka, N.; Mohri, T. J. Solid State Chem. 1990, 86, 16.
19. Hiramatsu, H.; Ohta, H.; Seo, W. S.; Koumoto, K. J. Jpn. Soc. Powder Powder Metall. 1997, 44, 44.
20. van der Pauw, L. J. Philips Res. Rep. 1958, 13, 1.
21. JCPDS card No. 20-1440, 1967.
22. Patten, J. W.; McClanahan, E. D. J. Appl. Phys. 1972, 43, 4811.
23. Thornton, J. A. J. Vac. Sci. Technol. 1974, 11, 666.
24. Light, T. B.; Wagner, C. N. J. J. Vac. Sci. Technol. 1966, 3, 1.
25. Swanepoel, R. J. Phys. E: Sci. Instrum. 1983, 16, 1214.
26. Wu, W. F.; Chiou, B. S.; Hsieh, S. T. Semicond. Sci. Technol. 1994, 9, 1242.
27. Burstein, E. Phys. Rev. 1954, 93, 632.
28. Chopra, K. L.; Major, S.; Pandya, D. K. Thin Solid Films 1983, 102, 1.
29. Manifacier, J. C.; Filiard, J. P.; Bind J. M. Thin Solid Films 1981, 77, 67.
30. Weiher, R. L.; Ley, R. P. J. Appl. Phys. 1966, 37, 299.
31. Ohhata, Y.; Shinoki, F.; Yoshida, S. Thin Solid Films 1979, 59, 255.