Spectroscopic ellipsometry and electrical studies of as-grown and rapid thermal oxidized Si1-x-yGexCy films

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 11, 2001, Pages 5819-5824

  Choi, W K ^a   Feng, W ^a   Bera, L K ^a   Yang, C Y ^b   Mi, J ^b  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

^b SANTA CLARA UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035575894     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1413715     Document Type: Article

References (22)

1. G. L. Patton et al., IEEE Electron Device Lett. 11, 171 (1990).
2. R. Karunasiri, J. S. Park, and K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 59, 2588 (1991).
3. Y. Rajakarumamayake and T. McGill, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 929 (1990).
4. Y. Mii, Y. Xie, E. Fitzgerald, D. Monroe, F. Thiel, B. Weir, and L. Feldman, Appl. Phys. Lett. 59, 1611 (1991).
5. W. K. Choi, L. K. Bera, J. H. Chen, W. Feng, K. L. Pey, H. Yoong, J. Mi, F. Zhang, and C. Y. Yang, Mater. Sci. Eng., B 75, 184 (2000).
6. W. K. Choi, J. H. Chen, L. K. Bera, W. Feng, K. L. Pey, J. Mi, C. Y. Yang, A. Ramam, S. J. Chua, J. S. Pan, A. T. S. Wee, and R. Liu, J. Appl. Phys. 87, 192 (2000).
7. L. K. Bera, W. K. Choi, W. Feng, C. Y. Yang, and J. Mi, Appl. Phys. Lett. 77, 256 (2000).
8. J. Mi, P. Warren, P. Letourneau, M. Judelewicz, M. Gaihanou, M. Dutoit, C. Dubois, and J. C. Dupuy, Appl. Phys. Lett. 67, 259 (1995).
9. P. Warren, J. Mi, F. Overney, and M. Dutoit, J. Cryst. Growth 157, 414 (1995).
10. A. Cuadras, B. Carrido, C. Bonafos, J. R. Morante, L. Fonseca, and K. Pressel, Microelectron. Reliab. 40, 829 (2000).
11. J. W. Strane, H. J. Stein, S. R. Lee, S. T. Picraux, J. K. Watanabe, and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 76, 3656 (1994).
12. H. Lee, Thin Solid Films 313-314, 167 (1998).
13. D. E. Aspnes, in Handbook on Semiconductors (North-Holland, Amsterdam, 1980), Vol. 2, p. 109.
14. B. Dietrich, H. J. Osten, H. Rucker, M. Methfessel, and P. Zaumseil, Phys. Rev. B 49, 17185 (1994).
15. J. H. Chen, MEng thesis, National University of Singapore (1999).
16. J. Humlicek, M. Garriga, M. I. Alonso, and M. Cardona, J. Appl. Phys. 65, 2827 (1989).
17. C. Pickering, R. T. Carline, D. J. Robbins, W. Y. Leong, S. J. Barnett, A. D. Pitt, and A. G. Cullis, J. Appl. Phys. 73, 239 (1993).
18. J. Bonan, F. Meyer, E. Finkman, P. Warren, and P. Boher, Thin Solid Films 364, 53 (2000).
19. H. J. Osten and P. Gaworzewski, J. Appl. Phys. 82, 4977 (1997).
20. B. Carrido, J. Morante, M. Franz, K. Pressel, D. Krüger, P. Zaumseil, and H. J. Osten J. Appl. Phys. 85, 833 (1999).
21. W. A. Hill and C. C. Coleman, Solid-State Electron. 23, 987 (1980).
22. C. G. Ahn, H. S. Kang, Y. K. Kwon, S. M. Lee, B. R. Ryum, and B. K. Kang, J. Appl. Phys. 86, 1542 (1999).