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Volumn 90, Issue 7, 2001, Pages 3396-3404

Physical model for trap-assisted inelastic tunneling in metal-oxide-semiconductor structures

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EID: 0035477056     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1398603     Document Type: Article
Times cited : (106)

References (23)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.