Compositional analysis based on electron holography and a chemically sensitive reflection

Ultramicroscopy

Volumn 88, Issue 1, 2001, Pages 51-61

  Rosenauer, A ^a   Van Dyck, D ^a   Arzberger, M ^b   Abstreiter, G ^b  

^a UNIVERSITY OF ANTWERP   (Belgium)

^b WALTER SCHOTTKY INSTITUT   (Germany)

Author keywords

Chemical sensitive reflection; Compositional analysis; Electron holography

Indexed keywords

ELECTRON HOLOGRAPHY; HETEROJUNCTIONS; IMAGING TECHNIQUES; MICROSCOPIC EXAMINATION; SUPERLATTICES;

DELOCALIZATION EFFECTS;

REFLECTION;

ARTICLE; CALCULATION; CONTROLLED STUDY; ELECTRON; ENERGY; HOLOGRAPHY; IMAGE ANALYSIS; LENS; NONHUMAN; SURFACE PROPERTY; THICKNESS; ULTRASTRUCTURE;

EID: 0035008698     PISSN: 03043991     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0304-3991(00)00115-7     Document Type: Article

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