Photoinduced chemical vapor deposition of amorphous carbon films from chloromethane using a VUV laser (157 nm)

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 104, Issue 30, 2000, Pages 7115-7123

  Hukka, Terttu I ^a   Zhang, Jie ^b  

^a TAMPERE UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Finland)

^b UNIVERSITY OF TORONTO   (Canada)

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ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CARBON; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CHLORINE COMPOUNDS; ENERGY DISPERSIVE SPECTROSCOPY; ENERGY GAP; FLUORESCENCE; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; HYDROCARBONS; RAMAN SPECTROSCOPY;

CHLOROMETHANE; FLUORINE LASER;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 0034238129     PISSN: 10895647     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp994452d     Document Type: Article

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