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Volumn 17, Issue 6, 1999, Pages 3267-3272

Outlook for 157 nm resist design

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EID: 0033269286     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.590993     Document Type: Article
Times cited : (70)

References (20)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.