Patterning 100 nm features using deep-ultraviolet contact photolithography

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 6, 2000, Pages 667-669

  Goodberlet, James G ^a  

^a MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001672855     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.125856     Document Type: Article

References (19)

1. H. I. Smith, Rev. Sci. Instrum. 40, 729 (1969).
2. J C. White, H. G. Craighead, R. E. Howard, L. D. Jackel, R. E. Behringer, R. W. Epworth, D. Henderson, and J. E. Sweeney, Appl. Phys. Lett. 44, 22 (1983).
3. A. Kumar and G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 63, 2002 (1993).
4. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, 3114 (1995).
5. H. Schmid, H. Biebuyck, B. Michel, and O. J. F. Martin, Appl. Phys. Lett. 72, 2379 (1998).
6. M. M. Alkaisi, R. J. Blaikie, and S. J. McNab, J. Vac. Sci. Teehnol. B 16, 3929 (1998); R. J. Blaikie, M. M. Alkaisi, S. J. McNab, D. R. S. Cumming, R. Cheung, and D. G. Hasko, Microelectron. Eng. 46, 85 (1999).
7. M. M. Alkaisi, R. J. Blaikie, and S. J. McNab, J. Vac. Sci. Teehnol. B 16, 3929 (1998); R. J. Blaikie, M. M. Alkaisi, S. J. McNab, D. R. S. Cumming, R. Cheung, and D. G. Hasko, Microelectron. Eng. 46, 85 (1999).
8. S. Brittain, K. Paul, X.-M. Zhao, and G. Whitesides, Phys. World 33(May), 31 (1998).
9. H. A. Biebuyck, N. B. Larsen. E. Delamarche, and B. Michel, IBM J. Res. Dev. 41, 159 (1997).
10. J. A. Rogers, K. E. Paul, and G. M. Whitesides, J. Vac. Sci. Teehnol. B 16, 88 (1998).
11. F. Gottschalch, T. Hoffmann, C. M. Sotomayor Torres, H. Schulz, and H.-C. Scheer, Solid-State Electron. 43, 1079 (1999).
12. The mask substrate is available from Esco Products, Oak Ridge, NJ.
13. Ultem plastic is available from General Electric.
14. J. G. Goodberlet and Bryan L. Dunn, Microelectron. Eng. (to be published).
15. H. Schmid, H. Biebuyck, B. Michel, O. J. F. Martin, and N. B. Piller, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3422 (1998).
16. H. I. Smith, N. Efremow, and P. L. Kelley, J. Electrochem. Soc. 121, 1503 (1974).
17. M. L. Schattenburg, R. J. Aucoin, and R. C. Flemming, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 3007 (1995).
18. J. N. Randall and A. Tritchkov, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3606 (1998).
19. I. P. Kaminow, W. L. Mammel, and H. P. Weber, Appl. Opt. 13, 396 (1974).