High-Resolution Contact Printing with Dendrimers

Nano Letters

Volumn 2, Issue 4, 2002, Pages 347-349

  Li, Hongwei ^a   Kang, Dae Joon ^a   Blamire, Mark G ^a   Huck, Wilhelm T S ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001044810     PISSN: 15306984     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl025503c     Document Type: Article

References (26)

1. Kumar, A.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1993, 63(14), 2002.
2. John, P. M. St.; Craighead, H. G. Appl. Phys. Lett. 1996, 68(7), 1022.
3. Xia Y.; Whitesides, G. M. Langmuir 1997, 13(7), 2059.
4. Libioulle, L.; Bietsch, A.; Schmid, H.; Michel, B.; Delamarche, E. Langmuir 1999, 15(2), 300.
5. Lahiri, J.; Ostuni, E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122(26), 6303.
6. Bernard, A.; Delamarche, E.; Schmid, H.; Michel, B.; Bosshard, H. R.; Biebuyck, H. Langmuir 1998, 14(9), 2225.
7. Jeon, N. L.; Choi, I. S.; Whitesides, G. M.; Kim, N. Y.; Laibinis, P. E.; Harada, Y.; Finnie, K. R.; Girolami, G. S.; Nuzzo, R. G. Appl. Phys. Lett. 1999, 76(26), 4201.
8. He, H. X.; Li, Q. G.; Zhou, Z. Y.; Zhang, H.; Li, S. F. Y.; Liu, Z. F. Langmuir 2000, 16(25), 9683.
9. Breen, T. L.; Fryer, P. M.; Nunes, R. W.; Rothwell, M. E. Langmuir 2002, 18(1), 194.
10. Koide, Y.; Wang, Q.; Cui, J.; Benson, D. D.; Marks T. J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122(45), 11 266.
11. Kagan, C. R.; Breen, T. L.; Kosbar, L. L. Appl. Phys. Lett. 2001, 79(21), 3536.
12. Schmid, H.; Michel, B. Macromolecules 2000, 33(8), 3042.
13. Michel, B.; Bernard, A.; Bietsch, A.; Delamarche, E.; Geissler, M.; Juncker, D.; Kind, H.; Renault, J.-P.; Rothuizen, H.; Schmid, H.; Schmidt-Winkel, P.; Stutz, R.; Wolf, H. IBM J. Res. Dev. 2001, 45(5), 697.
14. Xia, Y.; Whitesides, G. M.; Angew. Chem., Int. Ed. Engl. 1998, 37, 550.
15. Xia, Y.; Mrksich, M.; Kim, E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1993, 117, 9576.
16. Lopez, A. G.; Craighead, H. G. Appl. Opt. 2001, 40(13), 2068.
17. Delamarche, E.; Schmid, H.; Bietsch, A.; Larsen, N. B.; Rothuizen, H.; Michel, B.; Biebuyck, H. A. J. Phys. Chem. B 1998, 102(18), 3324.
18. Liebau, M.; Huskens, J.; Reinhoudt, D. N. Adv. Funct. Mater. 2001, 11(2), 147.
19. Kriesel, J. W.; Tilley, T. D. Chem. Mater. 1999, 11, 1(5), 1190.
20. Manna, A.; Imae, T.; Aoi, K.; Okada, M.; Yogo, T. Chem. Mater. 2001, 13(5), 1674.
21. Tully, D. C.; Wilder, K.; Fréchet, J. M. J.; Trimble, A. R.; Quate, C. F. Adv. Mater. 1999, 11(4), 314.
22. Tokuhisa, H.; Zhao, M.; Baker, L. A.; Phan, V. T.; Dermody, D. L.; Garcia, M. E.; Peez, R. F.; Crooks, R. M.; Mayer, T. M. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120(18), 4492.
23. Dickert, F. L.; Thierer, S. Adv. Mater. 1996, 8, 987.
24. Terris, B. D.; Mamin, H. J.; Best, M. E.; Logan, J. A.; Rugar, D.; Rishton, S. A. Appl. Phys. Lett. 1996, 69(27), 4262.
25. Esumi, K.; Goino, M. Langmuir 1998, 14, 4(16), 4466.
26. Duijvenbode, R. C. van; Koper, G. J. M.; Boehmer, M. R. Langmuir 2000, 16(20), 7713.