Defects and interfaces in an epitaxial ZnO/LiTaO3 heterostructure

Journal of Applied Physics

Volumn 88, Issue 9, 2000, Pages 5107-5112

  Lim, S H ^a,b   Shindo, D ^b  

^a LAWRENCE BERKELEY NATIONAL LABORATORY   (United States)

^b TOHOKU UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000927607     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1313777     Document Type: Article

References (33)

1. R. F. Service, Science 276, 895 (1997).
2. G. Galli and J. E. Coker, Appl. Phys. Lett. 16, 439 (1970).
3. C. K. Lau, S. K. Tiku, and K. M. Lakin, J. Electrochem. Soc. 127, 1943 (1980).
4. B. T. Khuri-Yakub, J. G. Smits, and T. Barbee, J. Appl. Phys. 52, 4772 (1981).
5. H. Sankur and J. T. Cheung, J. Vac. Sci. Technol. A 1, 1806 (1983).
6. T. Mitsuyu, S. Ono, and K. Wasa, J. Appl. Phys. 51, 2464 (1980).
7. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997).
8. H.-B. Kang, K. Nakamura, S.-H. Lim, and D. Shindo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 37, 781 (1998).
9. W. Rieger, O. Ambacher, E. Rohrer, H. Angerer, and M. Stutzmann, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 449, 671 (1997).
10. S. J. Rosner, E. C. Carr, M. J. Ludowise, G. Girolami, and H. I. Erikson, Appl. Phys. Lett. 70, 420 (1997).
11. D. C. Look and J. R. Sizelove, Phys. Rev. Lett. 82, 1237 (1999).
12. V. Srikant and D. R. Clarke, J. Appl. Phys. 81, 6357 (1997).
13. V. Srikant, V. Sergo, and D. R. Clarke, J. Am. Ceram. Soc. 78, 1935 (1995).
14. H. Blank, P. Delavignette, and S. Amelinckx, Phys. Status Solidi 7, 747 (1964).
15. C. M. Drum, Philos. Mag. 11, 313 (1965).
16. K. Suzuki, M. Ichihara, and S. Takeuchi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 1114 (1994).
17. J. Narayan, K. Dovidenko, A. K. Sharma, and S. Oktyabrsky, J. Appl. Phys. 84, 2597 (1998).
18. L. Sagalowicz and G. R. Fox, J. Mater. Res. 14, 1876 (1999).
19. S.-H. Lim, D. Shindo, H.-B. Kang, and K. Nakamura, J. Appl. Phys. (submitted).
20. K. Nakamura, M. Kazumi, and H. Shimizu, Proc. IEEE Ultrason. Symp., 819 (1977).
21. K. Nakamura, T. Shoji, and H.-B. Kang, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 39, L534 (2000).
22. MAC TEMPAS software program, available from Total Resolution, 20 Florida Ave., Berkeley, CA 94707.
23. P. W. Tasker, J. Phys. C 12, 4977 (1979).
24. C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).
25. S.-H. Lim, D. Shindo, T. Shoji, K. Nakamura, H.-B. Kang, Z. Liliental-Weber, and J. Washburn (unpublished).
26. P. Lu and F. Cosandey, Acta Metall. Mater. 40, S259 (1992).
27. V. I. Anisimkin and I. M. Kotelyanskii, Sov. Tech. Phys. Lett. 12, 75 (1985).
28. Z. Z. Bandic, T. C. Mcgill, and Z. Ikonic, Phys. Rev. B 56, 3564 (1997).
29. D. Chandrasekhar, D. J. Smith, S. Strite, M. E. Lin, and H. Morkoç, J. Cryst. Growth 152, 135 (1995).
30. X. H. Wu, L. M. Brown, D. Kapolnek, S. Keller, S. P. DenBaars, and J. S. Speck, J. Appl. Phys. 80, 3228 (1996).
31. K. Dovidenko, S. Oktyabrsky, and J. Narayan, J. Appl. Phys. 82, 4296 (1997).
32. L. T. Romano, B. S. Krusor, and R. J. Molnar, Appl. Phys. Lett. 71, 2283 (1997).
33. Z. Liliental-Weber, C. Kisielowski, S. Ruvimov, Y. Chen, J. Washburn, I. Grzegory, M. Bockowski, J. Jun, and S. Porowski, J. Electron. Mater. 25, 1545 (1996).