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Volumn 74, Issue 15, 1999, Pages 2239-2241

Patterning of hydrogen-passivated Si(100) using Ar(3P0,2) metastable atoms

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EID: 0000862738     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.123813     Document Type: Article
Times cited : (28)

References (34)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.