Structural effect of photoacid generators on chemically amplified resist

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 11, Issue 3, 1998, Pages 409-418

  Aoai, Toshiaki ^a   Kodama, Kunihiko ^a   Yamanaka, Tsukasa ^a   Yagihara, Mono ^a  

^a FUJIFILM CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000530910     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.11.409     Document Type: Article

References (28)

1. For example, a) H. Ito, C. G. Willson, Polym. Eng. Sei. , 23 (1983) 1012. ;
2. b) H. Ito, C. G. Willson, ACS Symposium Ser. , 242 (1984) 11. ;
3. R. G. tarascon, E. Reichmanis, F. M. Houlihan, A. Shugard, L. F. thompson, Polym. Eng. Sci. , 29 (1989) 850.
4. For example, a) M. J. O'Brien, J. V. Crivello, Proc. of SPIE, 920 (1988) 42. ;
5. b) D. R. Mckean, S. A. MacDonald, N. J. Clecak, C. G. Willson, Proc. of SPIE, 920 (1988) 60. ;
6. T. Aoai, T. Yamanaka, T. kokubo, Proc. of SPIE, 2195 (1994) 111.
7. a) D. A. Conlon, J. V. Crivello, J. L. Lee, M. J. O'Brien, Macromolecules, 22 (1989) 509. ;
8. b) N. Hayashi, S. M. Hesp, T. Ueno, M. Toriumi, T. Iwayanagi, S. Nonogaki, Polym. Mater. Sei. Eng. , 61 (1989) 417.
9. a) Y. Endo, K. Shudo, T. Okamoto, Chem. Pham. Bull. , 29 (1981) 3753. ;
10. b) J. L. Dektar, N. P. Hacker, J. Chem. Soc. , Chem. Commun. , (1987) 1591. ; c) N. P. Hacker, J. L. Dektar, Polym. Prepr. , 29 (1988) 524.
11. a) J. I. G. Gadogan, A. G. Rowley, J. Chem. Soc. , Perkin Trans. I, 11 (1975) 1069. ;
12. b) T. Aoai, A. Umehara, A. Kamiya, N. Matsuda, Y. Aotani, Polym. Eng. Sei. , 29 (1989) 887.
13. a) F. M. Houlihan, A. Shugard, R. Gooden, E. Reichmanis, Macromolecules, 21 (1988) 2001. ;
14. b) F. M. Houlihan, T. X. Neenan, E. Rechmanis, J. M. Kometani, L. F. Thompson, T. Chin, R. S. Kanga, J. Vac. Sei. Technol. , B 8 (1990) 1461.
15. L. Schlegel, T. Ueno, H. Shirai, N. Hayashi, T. Iwayanagi, Chem. Mater. , 2 (1990) 299.
16. a) T. E. Stevens, J. Org. Chem. , 32 (1967) 670. ;
17. b) G. Berner, W. Rutsch, EP-139609 (1984) to Ciba-Geigy.
18. H. Roeschert, KJ. Przybilla, W. Spiess> H. Wengenroth, G. Pawlowski, Proc. of SPIE, 1672 (1992) 33.
19. a) M. Kobayashi, K. Tanaka, H. Minato, Bull. Chem. Soc. Jpn. , 45 (1972) 2906. ;
20. b) T. Aoai, Y. Aotani, A. Umehara, T. Kokubo, J. Photopolym. Sei. Technol. , 3 (1990) 389.
21. S. A. MacDonald, D. R. McKean, ibid. , 3 (1990) 375.
22. a) R. D. McKean, U. Schaedeli, S. A. MacDonald, ACS Symp. Ser. , 412 (1989) 27. ;
23. b) L. Schiegel, T. Ueno, N. Hayashi, T. Iwayanagi, J. Vac. Sei. Technol. , B 9 (1991) 278. ;
24. J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi, ATanaka, Jpn. J. App. Phys. , 30 (1991) 2619. ;
25. J. Nakamura, H. Ban, ATanaka, J. Pholopolym. Sei. Technol, 4 (1991) 83. ;
26. e) J. Nakamura, H. Ban, A. Tanaka, J. . Photopolym. Sci. Technol. , 6 (1993) 31.
27. a) J. W. Thackeray et al. , J. Photopolym. Sei. Technol. , 7 (1994) 619. ;
28. b) T. Itani, H. Yoshino, M. Fujimoto, K. Kasama, J. Vac. Sei. Technol. , B 13 (1995) 3026.