Atomic force microscope tip-surface behavior under continuous bias or pulsed voltages in noncontact mode

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 8, 2000, Pages 1018-1020

  Legrand, B ^a   Stievenard D ^a  

^a Institut Superieur de l'Electronique et du Numerique   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000518832     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.125925     Document Type: Article

References (24)

1. J. A. Dagata, J. Seneir, H. H. Harary, C. J. Evans, M. T. Postek, and J. Bennett, Appl. Phys. Lett. 56, 2001 (1990).
2. V. A. Burrows, Y. J. Chabal, G. S. Higashi, K. Raghavachari, and S. B. Christman, Appl. Phys. Lett. 53, 998 (1988).
3. D. Gräf, M. Grundner, and R. Schulz, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 808 (1989).
4. Y. J. Chabal, G. S. Higashi, K. Raghavachari, and V. A. Burrows, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 2104 (1989).
5. D. B. Fenner, D. K. Biegelsen, and R. D. Bringans, J. Appl. Phys. 66, 419 (1989).
6. H. C. Day and D. R. Allee, Appl. Phys. Lett. 62, 2691 (1993).
7. H. Sugimura, T. Yamamoto, N. Nakagiri, M. Miyashita, and T. Onuki, Appl. Phys. Lett. 65, 1569 (1994).
8. E. S. Snow and P. M. Campbell, Appl. Phys. Lett. 64, 1932 (1994).
9. T. Teuschler, K. Mahr, S. Miyazaki, M. Hundhausen, and L. Ley, Appl. Phys. Lett. 67, 3144 (1995).
10. A. E. Gordon, R. T. Fayfield, D. D. Litfin, and T. K. Higman, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2805 (1995).
11. F. Pérez-Murano, G. Abadal, N. Barniol, X. Aymerich, J. Servat, P. Gorostiza, and F. Sanz, J. Appl. Phys. 78, 6797 (1995).
12. J. Servat, P. Gorostiza, F. Sanz, F. Pérez-Murano, N. Barniol, G. Abadal, and X. Aymerich, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1 (1996).
13. D. Stiévenard, P. A. Fontaine, and E. Dubois, Appl. Phys. Lett. 70, 3272 (1997).
14. P. Avouris, T. Hertel, and R. Martel, Appl. Phys. Lett. 71, 285 (1997).
15. P. A. Fontaine, E. Dubois, and D. Stiévenard, J. Appl. Phys. 84, 1776 (1998).
16. B. Legrand and D. Stiévenard, Appl. Phys. Lett. 74, 4049 (1999).
17. F. Pérez-Murano, K. Birkelund, K. Morimoto, and J. A. Dagata, Appl. Phys. Lett. 75, 199 (1999).
18. R. Garcia, M. Calleja, and F. Perez-Murano, Appl. Phys. Lett. 72, 2295 (1998).
19. R. Garcia, M. Calleja, and H. Rohrer, Appl. Phys. Lett. 86, 1898 (1999).
20. B. I. Kim, J. W. Hong, S. Yoon, and Z. G. Khim, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process, 66, S95 (1998).
21. H. Dai, N. Franklin, and J. Han, Appl. Phys. Lett. 73, 1508 (1998).
22. 9 V/m.
23. B. Capella and G. Dietler, Surf. Sci. Rep. 34, 1 (1999).
24. 0.