Preparation of ruthenium dioxide nanorods and their field emission characteristics

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 17, 2004, Pages 3860-3862

  Hsieh, Chih Sung ^a   Tsai, Dah Shyang ^a   Chen, Reul San ^a   Huang, Ying Sheng ^a  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON NANOTUBES; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; COPPER; ELECTRIC POTENTIAL; NANOSTRUCTURED MATERIALS; SILICON COMPOUNDS; SUBSTRATES;

FIELD EMISSIONS; NANORODS; SLENDER RODS; THRESHOLD FIELDS;

RUTHENIUM COMPOUNDS;

EID: 9744258024     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1812373     Document Type: Article

References (35)

1. A. M. Morales and C. M. Lieber, Science 279, 208 (1998).
2. J. D. Holmes, K. P. Johnsten, R. C. Doty, and B. A. Korgel, Science 287, 1471 (2000).
3. W. S. Shi, Y. F. Zheng, N. Wang, C. S. Lee, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 78, 3304 (2001).
4. X. F. Duan and C. M. Lieber, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 298 (2000).
5. H. M. Kim, D. S. Kim, Y. S. Park, D. Y. Kim, T. W. Kang, and K. S. Chung, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 14, 991 (2002).
6. C. C. Chen and C. C. Yeh, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 738 (2000).
7. G. R. Patzke, F. Krumeich, and R. Nesper, Angew. Chem., Int. Ed. 41, 2446 (2002).
8. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
9. M. H. Huang, Y. Wu, H. Feick, N. Tran, E. Weber, and P. Yang, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 13, 113 (2001).
10. Y. Q. Zhu, W. B. Hu, W. K. Hsu, M. Terrones, N. Grobert, J. P. Hare, H. W. Kroto, D. R. M. Walton, and H. Terrones, J. Mater. Chem. 9, 3173 (1999).
11. T. Kasuga, M. Hiramatsu, A. Hoson, T. Sekino, and K. Niihara, Langmuir 14, 3160 (1998).
12. J. H. Jung, H. Kobayashi, K. J. C. Bommel, S. Shinkai, and T. Shimizu, Chem. Mater. 14, 1445 (2002).
13. Z. G. Bai, D. P. Yu, H. Z. Zhang, Y. Ding, Y. P. Wang, X. Z. Gai, Q. L. Hang, G. C. Xiong, and S. Q. Feng, Chem. Phys. Lett. 303, 311 (1999).
14. Y. C. Choi, W. S. Kim, Y. S. Park, S. M. Lee, D. J. Bae, Y. H. Lee, G. S. Park, W. B. Choi, N. S. Lee, and J. M. Kim, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 746 (2000).
15. H. J. Muhr, F. Krumeich, U. P. Schonholzer, F. Bieri, M. Niederberger, L. J. Gauckler, and R. Nesper, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 231 (2000).
16. R. S. Chen, Y. S. Huang, Y. M. Liang, D. S. Tsai, Y. Chi, and J. J. Kai, J. Mater. Chem. 13, 2525 (2003).
17. R. S. Chen, Y. S. Huang, D. S. Tsai, S. Chattopadhyay, C. T. Wu, Z. H. Lan, and K. H. Chen, Chem. Mater. 16, 2457 (2004).
18. A. Dziedzic and L. Golonka, J. Mater. Sci. 23, 3151 (1988).
19. P. K. Khanna, S. K. Bhatnagar, and M. L. Sisodia, J. Phys. D 21, 1796 (1988).
20. S. Ferro and A. de Battisti, J. Phys. Chem. B 106, 2249 (2002).
21. A. T. Kuhn and C. J. Mortimer, J. Electrochem. Soc. 120, 231 (1973).
22. T. Y. Kim, D. Kim, and C. W. Chung, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 6494 (1997).
23. G. R. Bai, I. F. Tsu, A. Wang, C. M. Foster, C. E. Murray, and V. P. Dravid, Appl. Phys. Lett. 72, 1572 (1998).
24. Q. X. Jia and W. A. Anderson, Appl. Phys. Lett. 57, 304 (1990).
25. J. V. Ryan, A. D. Berry, M. L. Anderson, J. W. Long, R. M. Stroud, V. M. Cepak, V. M. Browning, D. R. Rolison, and C. I. Merzbacher, Nature (London) 406, 169 (2000).
26. B. R. Chalamala, Y. Wei, G. Rossi, B. G. Smith, and R. H. Reuss, Appl. Phys. Lett. 77, 3284 (2000).
27. T. H. Yang, C. H. Chen, A. Chatterjee, H. Y. Li, J. T. Lo, C. T. Wu, K. H. Chen, and L. C. Chen, Chem. Phys. Lett. 379, 155 (2003).
28. R. S. Chen, Y. S. Huang, Y. M. Liang, C. S. Hsieh, D. S. Tsai, and K. K. Tiong, Appl. Phys. Lett. 84, 1552 (2004).
29. J. M. Bonard, F. Maier, T. Stockli, A. Chatelain, W. A. de Heer, J. P. Salvetat, and L. Forro, Ultramicroscopy 73, 7 (1998).
30. J. M. Bonard, J. P. Salvetat, T. Stockli, W. A. de Heer, L. Forro, and A. Chatelain, Appl. Phys. Lett. 73, 918 (1998).
31. Z. W. Pan, F. C. K. Au, H. L. Lai, W. Y. Zhou, L. F. Sun, Z. Q. Liu, d. S. Tang, C. S. Lee, S. T. Lee, and S. S. Xie, J. Phys. Chem. B 105, 1519 (2001).
32. K. Okano, S. Koizumi, S. R. P. Silva, and G. A. J. Amaratunga, Nature (London) 381, 140 (1996).
33. D. Temple, Mater. Sci. Eng., R. 24, 185 (1999).
34. B. S. Satyanarayana, A. Hart, W. I. Milne, and J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 71, 1430 (1997).
35. M. Tomkiewicz, Y. S. Huang, and F. H. Pollak, J. Electrochem. Soc. 130, 1514 (1983).