Perfluorinated Ionomer-Modified Hole-Injection Layers: Ultrahigh-Workfunction but Nonohmic Contacts

Advanced Functional Materials

Volumn 25, Issue 34, 2015, Pages 5504-5511

  Belaineh, Dagmawi ^a   Tan, Jun Kai ^a   Png, Rui Qi ^a   Dee, Pei Fang ^a   Lee, Yi Min ^a   Thi, Bao Nguyen Nguyen ^a   Ridzuan, Nur Sabrina ^a   Ho, Peter K H ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

contact resistance; ohmic contact; organic semiconductors; perfluorinated ionomers; workfunction

Indexed keywords

CONTACT RESISTANCE; ELECTRIC CONTACTORS; ELECTRON INJECTION; IONIZATION POTENTIAL; IONOMERS; OHMIC CONTACTS; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; SEMICONDUCTOR DEVICES; WORK FUNCTION;

ENERGY LEVEL ALIGNMENT; HOLE INJECTION BARRIERS; PERFLUORINATED IONOMER; POLY(STYRENE SULFONIC ACID); POLY-3 ,4-ETHYLENEDIOXYTHIOPHENE; POLYMER SEMICONDUCTORS; SEMICONDUCTOR CONTACTS; ULTRAVIOLET PHOTOEMISSION SPECTROSCOPY;

CHARGE INJECTION;

EID: 84941022154     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201500784     Document Type: Article

References (51)

1. G. G. Malliaras, J. C. Scott, J. Appl. Phys. 1998, 83, 5399.
2. Y. Shen, A. R. Hosseini, M. H. Wong, G. G. Malliaras, Chem. Phys. Chem. 2004, 5, 16.
3. H. T. Nicolai, G. A. H. Wetzelaer, M. Kuik, A. J. Kronemeijer, B. de Boer, P. W. M. Blom, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 172107.
4. M. Zhou, R. Q. Png, S. H. Khong, S. Sivaramakrishnan, L. H. Zhao, L. L. Chua, R. H. Friend, P. K. H. Ho, Appl. Phys. Lett. 2012, 101, 013501.
5. S. Braun, W. R. Salaneck, M. Fahlman, Adv. Mater. 2009, 21, 1.
6. J. H. Hwang, A. Wan, A. Kahn, Mater. Sci. Eng. R 2009, 64, 1.
7. L. H. Zhao, R. Q. Png, C. C. H. Chiam, H. Guo, J. M. Zhuo, L. L. Chua, A. T. S. Wee, P. K. H. Ho, Appl. Phys. Lett. 2012, 101, 053304.
8. E. V. Tsiper, Z. G. Soos, W. Gao, A. Kahn, Chem. Phys. Lett. 2002, 360, 47.
9. N. Koch, G. Heimel, J. S. Wu, E. Zojer, R. L. Johnson, J. L. Bredas, K. Mullen, J. P. Rabe, Chem. Phys. Lett. 2005, 413, 390.
10. M. Zhou, L. L. Chua, R. Q. Png, C. K. Yong, S. Sivaramakrishnan, P. J. Chia, A. T. S. Wee, R. H. Friend, P. K. H. Ho, Phys. Rev. Lett. 2009, 103, 0366011.
11. B. K. Crone, P. S. Davids, I. H. Campbell, D. L. Smith, J. Appl. Phys. 1998, 84, 833.
12. M. Zhou, R. Q. Png, S. Sivaramakrishnan, P. J. Chia, C. K. Yong, L. L. Chua, P. K. H. Ho, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 113505.
13. K. A. Mauritz, R. B. Moore, Chem. Rev. 2004, 104, 4535.
14. L. B. Groenendaal, F. Jonas, D. Freitag, H. Pielartzik, J. R. Reynolds, Adv. Mater. 2000, 12, 481.
15. S. Kirchmeyer, K. Reuter, J. Mater. Chem. 2005, 15, 2077.
16. C. T. Brown, V. Seshadri, M. Mathai, B. Woodworth, D. Laird, SID Int. Sym. Dig. Tec. 2010, 41, 461.
17. D. Belaineh, R. Q. Png, C. L. McGuiness, M. Mathai, V. Seshadri, P. K. H. Ho, Chem. Mater. 2014, 26, 4724.
18. C. Tengstedt, W. Osikowicz, W. R. Salaneck, I. D. Parker, C. H. Hsu, M. Fahlman, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 053502.
19. T. W. Lee, O. Kwon, M. G. Kim, S. H. Park, J. Chung, S. Y. Kim, Y. Chung, J. Y. Park, E. Han, D. H. Huh, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 231106.
20. T. W. Lee, Y. Chung, O. Kwon, J. J. Park, Adv. Funct. Mater. 2007, 17, 390.
21. J. Park, Y. Kwon, T. W. Lee, Macromol. Rapid Commun. 2007, 28, 1366.
22. S. A. Mauger, J. Li, O. T. Ozmen, A. Y. Yang, S. Friedrich, M. D. Rail, L. A. Berben, A. J. Moulé, J. Mater. Chem. C 2014, 2, 115.
23. S. Sivaramakrishnan, M. Zhou, A. C. Kumar, Z. L. Chen, R. Q. Png, L. L. Chua, P. K. H. Ho, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 213303.
24. P. K. H. Ho, M. Granström, R. H. Friend, N. C. Greenham, Adv. Mater. 1998, 10, 769.
25. P. K. H. Ho, J. S. Kim, J. H. Burroughes, H. Becker, S. F. Y. Li, T. M. Brown, F. Cacialli, R. H. Friend, Nature 2000, 404, 481.
26. M. L. Sushko, A. L. Shluger, Adv. Mater. 2009, 21, 1111.
27. W. Osikowicz, X. Crispin, C. Tengstedt, L. Lindell, T. Kugler, W. R. Salaneck, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 1616.
28. P. J. Hotchkiss, H. Li, P. B. Paramonov, S. A. Paniagua, S. C. Jones, N. R. Armstrong, J. L. Brédas, S. R. Marder, Adv. Mater. 2009, 21, 4496.
29. Y. Zhou, C. Fuentes-Hernandez, J. Shim, J. Meyer, A. J. Giordano, H. Li, P. Winget, T. Papadopoulos, H. Cheun, J. Kim, M. Fenoll, A. Dindar, W. Haske, E. Najafabadi, T. M. Khan, H. Sojoudi, S. Barlow, S. Graham, J. L. Brédas, S. R. Marder, A. Kahn, B. Kippelen, Science 2012, 336, 327.
30. P. J. Chia, L. L. Chua, S. Sivaramakrishnan, J. M. Zhuo, L. H. Zhao, W. S. Sim, Y. C. Yeo, P. K. H. Ho, Adv. Mater. 2007, 19, 4202.
31. P. J. Chia, S. Sivaramakrishnan, M. Zhou, R. Q. Png, L. L. Chua, R. H. Friend, P. K. H. Ho, Phys. Rev. Lett. 2009, 102, 0966021.
32. M. Lögdlund, R. Lazzaroni, S. Stafström, W. R. Salaneck, J. L. Brédas, Phys. Rev. Lett. 1989, 63, 1841.
33. N. Koch, C. Chan, A. Kahn, J. Schwartz, Phys. Rev. B 2003, 67, 1953301.
34. J. X. Tang, C. S. Lee, S. T. Lee, J. Appl. Phys. 2007, 101, 0645041.
35. T. Hasegawa, T. Shimoaka, N. Shioya, K. Morita, M. Sonoyama, T. Takagi, T. Kanamori, ChemPlusChem 2014, 79, 1421.
36. R. Q. Png, P. J. Chia, S. Sivaramakrishnan, L. Y. Wong, M. Zhou, L. L. Chua, P. K. H. Ho, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 013511.
37. G. Greczynski, T. Kugler, M. Keil, W. Osikowicz, M. Fahlman, W. R. Salaneck, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 2001, 121, 1.
38. P. C. Jukes, S. J. Martin, A. M. Higgins, M. Geoghegan, R. A. L. Jones, S. Langridge, A. Wehrum, S. Kirchmeyer, Adv. Mater. 2004, 16, 807.
39. S. J. Martin, R. A. L. Jones, M. Geoghegan, A. M. Higgins, I. Grizzi, J. J. M. Halls, S. Kirchmeyer, R. M. Dalgliesh, Phys. Rev. B 2005, 71, 081308.
40. X. Crispin, S. Marciniak, W. Osikowicz, G. Zotti, A. W. Denier van der Gon, F. Louwet, M. Fahlman, L. Groenendaal, F. De Schryver, W. R. Salaneck, J. Polym. Sci. B: Polym. Phys. 2003, 41, 2561.
41. A. M. Nardes, M. Kemerink, R. A. J. Janssen, J. A. M. Bastiaansen, N. M. M. Kiggen, B. M. W. Langeveld, A. J. J. M. van Breemen, M. M. de Kok, Adv. Mater. 2007, 19, 1196.
42. I. H. Campbell, M. D. Joswick, I. D. Parker, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 3171.
43. I. H. Campbell, J. P. Ferraris, T. W. Hagler, M. D. Joswick, I. D. Parker, D. L. Smith, Polymer. Adv. Tech. 1997, 8, 417.
44. T. M. Brown, J. S. Kim, R. H. Friend, F. Cacialli, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1679.
45. V. Bodrozic, T. M. Brown, S. Mian, D. Caruana, M. Roberts, N. Phillips, J. J. Halls, I. Grizzi, J. H. Burroughes, F. Cacialli, Adv. Mater. 2008, 20, 2410.
46. B. Liu, R. Q. Png, J. K. Tan, P. K. H. Ho, Adv. Energy Mater. 2014, 4, 1200972.
47. W. F. Pasveer, J. Cottaar, C. Tanase, R. Coehoorn, P. A. Bobbert, P. W. M. Blom, D. M. de Leeuw, M. A. J. Michels, Phys. Rev. Lett. 2005, 94, 206601.
48. P. W. M. Blom, M. C. J. M. Vissenberg, Phys. Rev. Lett. 1998, 80, 3819.
49. C. Tanase, E. J. Meijer, P. W. M. Blom, de D. M. Leeuw, Phys. Rev. Lett. 2003, 91, 216601.
50. J. C. Blakesley, F. A. Castro, W. Kylberg, G. F. A. Dibb, C. Arantes, R. Valaski, M. Cremona, J. S. Kim, J. S. Kim, Org. Electron. 2014, 15, 1263.
51. R. Q. Png, P. J. Chia, J. C. Tang, B. Liu, S. Sivaramakrishnan, M. Zhou, S. H. Khong, H. S. O. Chan, J. H. Burroughes, L. L. Chua, R. H. Friend, P. K. H. Ho, Nature Mater. 2010, 9, 152.