Low-Temperature Processable High-Performance Electrochemically Deposited p-Type Cuprous Oxides Achieved by Incorporating a Small Amount of Antimony

Advanced Functional Materials

Volumn 25, Issue 32, 2015, Pages 5214-5221

  Baek, Seung Ki ^a   Kwon, Yong Hun ^a   Shin, Jae Hui ^a   Lee, Ho Seong ^b   Cho, Hyung Koun ^a  

^a Sungkyunkwan University   (South Korea)

^b Kyungpook National University   (South Korea)

Author keywords

antimony; crystallinity; cuprous oxide; electrodeposition

Indexed keywords

CONDUCTIVE FILMS; COPPER; DEPOSITION; DIFFRACTION; ELECTRODEPOSITION; ELECTRODES; FILM GROWTH; OXIDE FILMS; SCHOTTKY BARRIER DIODES; SOLAR CONTROL FILMS; TEMPERATURE; THIN FILMS;

BAND-TO-BAND PHOTOLUMINESCENCE; CRYSTALLINITIES; CUPROUS OXIDE; ELECTRICAL CONDUCTIVITY; ELECTROCHEMICAL REACTIONS; ELECTRODEPOSITION PROCESS; PHOTO-ELECTRONIC DEVICES; RECTIFYING CHARACTERISTICS;

ANTIMONY;

EID: 84939864378     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201501323     Document Type: Article

References (33)

1. A. Paracchino, V. Laporte, K. Sivula, M. Grätzel, E. Thimsen, Nature 2011, 10, 456.
2. Z. Zhang, R. Dua, L. Zhang, H. Zhu, H. Zhang, P. Wang, ACS Nano 2013, 7, 1709.
3. Y. S. Lee, M. T. Winkler, S. C. Siah, R. Brandt, T. Buonassisi, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 192115.
4. K. P. Musselman, A. Marin, L. Schmidt-Mende, J. L. MacManus-Driscoll, Adv. Funct. Mater. 2012, 22, 2202.
5. S. K. Baek, K. Y. Lee, H. K. Cho, J. Nanomater. 2013, 421371
6. D. W. Zhao, P. Liu, X. W. Sun, S. T. Tan, L. Ke, A. K. K. Kyaw, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 153304.
7. M. Yu, X. Liu, Y. Wang, Y. Zheng, J. Zhang, M. Li, W. Lan, Q. Su, Appl. Surf. Sci. 2012, 258, 9554.
8. J. H. Lee, Y. H. Kwon, B. H. Kong, J. Y. Lee, H. K. Cho, Cryst. Growth Des. 2012, 12, 2495.
9. Y. Ogo, H. Hiramatsu, K. Nomura, H. Yanagi, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 032113.
10. S. Y. Kim, C. H. Ahn, J. H. Lee, Y. H. Kwon, S. Y. Hwang, J. Y. Lee, H. K. Cho, ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 2417.
11. B. S. Li, K. Akimoto, A. Shen, J. Cryst. Growth 2009, 311, 1102.
12. Y. Y. Kim, W. S. Han, H. K. Cho, Appl. Surf. Sci. 2010, 256, 4438.
13. Y. S. Lee, J. Heo, M. T. Winkler, S. C. Siah, S. B. Kim, R. G. Gordon, T. Buonassisi, J. Mater. Chem. A 2013, 1, 15416.
14. A. Paracchino, J. C. Brauer, J. E. Moser, E. Thimsen, M. Grätzel, J. Phys. Chem. C 2012, 116, 7341.
15. K. Mizuno, M. Izaki, K. Murase, T. Shinagawa, M. Chigane, M. Inaba, A. Tasaka, Y. Awakura, J. Electrochem. Soc. 2005, 152, C179.
16. K. Han, M. Tao, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2009, 93, 153.
17. Y. N. Sandana, J. P. Singh, R. Kumar, Surf. Technol. 1985, 24, 319.
18. G. Leimkuhler, I. Kerkamm, R. Reineke-Koch, J. Electrochem. Soc. 2002, 149, C474.
19. T. T. Ngo, S. Chavhan, I. Kosta, O. Miguel, H. J. Grande, R. Tena-Zera, ACS Appl. Mater. Interfaces 2014, 6, 2836.
20. Y. Zhang, G. Li, Y. Wu, B. Zhang, W. Song, L. Zhang, Adv. Mater. 2002, 14, 1227.
21. H. Majidi, K. T. Van, J. B. Baxter, J. Electrochem. Soc. 2012, 159, D605.
22. H. Cao, D. Lu, J. Lin, Q. Ye, J. Wu, G. Zheng, Electrochim. Acta 2013, 91, 234.
23. X. Yang, J. B. Heroux, M. J. Jurkovic, W. I. Wang, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 7
24. C. M. Mcshane, W. P. Siripala, K. S. Choi, J. Phys. Chem. Lett. 2010, 1, 2666.
25. L. C. Wang, N. R. Tacconi, C. R. Chenthamarakshan, K. Rajeshwar, M. Tao, Thin Solid Films 2007, 515, 3090.
26. M. Paunovic, M. Schlesinger, Fundamental of Electrochemical Deposition, 2nd ed., John Wiley & Sons, Inc., Hoboken, NJ, USA 2006, Ch. 7.
27. C. Ponce-de-Leon, C. T. J. Low, G. Kear, F. C. Walsh, J. Appl. Electrochem. 2007, 37, 1261.
28. W. Zhao, W. Fu, H. Yang, C. Tian, M. Li, Y. Li, L. Zhang, Y. Sui, X. Zhou, H. Chen, G. Zou, CrystEngComm 2011, 13, 2871.
29. H. Solache-Carranco, G. Juarez-Diaz, A. Esparza-Garcia, M. Briseno-Garcia, M. Galvan-Arellano, J. Martinez-Juarez, G. Romero-Paredes, R. Pena-Sierra, J. Lumin. 2009, 129, 1483.
30. S. Y. Lee, W. J. Lee, C. W. Nahm, J. M. Kim, S. J. Byun, T. H. Hwang, B. K. Lee, Y. I. Jang, S. E. Lee, H. M. Lee, B. W. Park, Curr. Appl. Phys. 2013, 13, 775
31. F. Shao, J. Sun, L. Gao, J. Luo, Y. Liu, S. Yang, Adv. Funct. Mater. 2012, 22, 3907.
32. A. K. Ghosh, C. Fishman, T. Feng, J. Appl. Phys. 1980, 51, 446
33. T. Shinagawa, M. Chigane, K. Murase, M. Izaki, J. Phys. Chem. C 2012, 116, 15925.