Efficiency enhancement and anti-Corrosion protection on silicon solar cells by atomic-layer-deposited Al2O3 conformal shell layer on antireflective ZnO nanorod array

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Volumn 3, Issue 11, 2014, Pages Q221-Q226

  Wang, Wei Cheng ^a   Lin, Che Wei ^a   Ko, Chung Ting ^a   Yang, Jason ^b   Tjahjono, Budi ^b   Hsu, Chuck ^c   Chen, Miin Jang ^a,d  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^b Sunrise Global Solar Energy Co Ltd   (Taiwan)

^c Sino American Silicon Productions Inc   (Taiwan)

^d NATIONAL NANO DEVICE LABORATORIES   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 84923762556     PISSN: 21628769     EISSN: 21628777     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.0101411jss     Document Type: Article

References (43)

1. K. Peng, Y. Xu, Y.Wu, Y. Yan, S. T. Lee, and J. Zhu, Small, 1, 1062 (2005)
2. Y. Kanamori, M. Sasaki, and K. Hane, Opt. Lett., 24, 1422 (1999)
3. C. H. Sun, P. Jiang, and B. Jiang, Appl. Phys. Lett., 92, 061112 (2008)
4. P. C. Yu, C. H. Chang, C. H. Chiu, C. S. Yang, J. C. Yu, H. C. Kuo, S. H. Hsu, and Y. C. Chang, Adv. Mater., 21, 1618 (2009)
5. H. M. Branz, V. E. Yost, S. Ward, K. M. Jones, B. To, and P. Stradins, Appl. Phys. Lett., 94, 231121 (2009)
6. S. Chhajed, M. F. Schubert, J. K. Kim, and E. F. Schubert, Appl. Phys. Lett., 93, 251108 (2008)
7. K. Hadobas, S. Kirsch, A. Carl, M. Acet, and E. F. Wassermann, Nanotechnology, 11, 161 (2000)
8. S.Wang, X. Z. Yu, and H. T. Fan, Appl. Phy.s Lett., 91, 061105 (2007)
9. Y. R. Lin, K. Y. Lai, H. P. Wang, and J. H. He, Nanoscale, 2, 2765 (2010)
10. M. Ishimori, Y. Kanamori, M. Sasaki, and K. Hane, Jpn. J. Appl. Phys. 1, 41, 4346 (2002)
11. Y. A. Dai, H. C. Chang, K. Y. Lai, C. A. Lin, R. J. Chung, G. R. Lin, and J. H. He, J. Mater. Chem., 20, 10924 (2010)
12. K. Q. Peng and S. T. Lee, Adv. Mater., 23, 198 (2011)
13. D. Kumar, S. K. Srivastava, P. K. Singh, M. Husain, and V. Kumar, Sol. Energ. Mat. Sol. C, 95, 215 (2011)
14. E. Garnett and P. Yang, Nano. Let.t, 10, 1082 (2010)
15. E. C. Garnett and P. Yang, J. Am. Chem. Soc., 130, 9224 (2008)
16. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Q. Yan, Y. Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. D. Yang, Science, 292, 1897 (2001)
17. M. Law, L. E. Greene, J. C. Johnson, R. Saykally, and P. D. Yang, Nat. Mater., 4, 455 (2005)
18. U. Ozgur, Y. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Dogan, V. Avrutin, S. J. Cho, and H. Morkoc, J. Appl. Phys., 98, 041301 (2005)
19. K. F. Huo, Y. M. Hu, J. J. Fu, X. B. Wang, P. K. Chu, Z. Hu, and Y. Chen, J. Phys. Chem. C, 111, 5876 (2007)
20. J. H. He, J. H. Hsu, C. W. Wang, H. N. Lin, L. J. Chen, and Z. L. Wang, J. Phys. Chem. B, 110, 50 (2006)
21. X. D. Wang, J. H. Song, J. Liu, and Z. L. Wang, Science, 316, 102 (2007)
22. M. Kawakami, A. B. Hartanto, Y. Nakata, and T. Okada, Jpn. J. Appl. Phys. 2, 42, L33 (2003)
23. K. S. Kim and H. W. Kim, Physica. B-Condensed Matter., 328, 368 (2003)
24. R. Liu, A. A. Vertegel, E. W. Bohannan, T. A. Sorenson, and J. A. Switzer, Chem. Mater., 13, 508 (2001)
25. S. J. An, J. H. Chae, G. C. Yi, and G. H. Park, Appl. Phys. Lett., 92, 121108 (2008)
26. M. Riaz, A. Fulati, G. Amin, N. H. Alvi, O. Nur, and M. Willander, J. Appl. Phys., 106, 034309 (2009)
27. Y. Tak and K. J. Yong, J. Phys. Chem. B, 109, 19263 (2005)
28. Z. T. Chen and L. Gao, J. Cryst. Growth, 293, 522 (2006)
29. W. C. Yang, C. W. Wang, J. H. He, Y. C. Chang, J. C. Wang, L. J. Chen, H. Y. Chen, and S. Gwo, Phys. Status Solidi A, 205, 1190 (2008)
30. L. E. Greene, M. Law, D. H. Tan, M. Montano, J. Goldberger, G. Somorjai, and P. D. Yang, Nano. Lett., 5, 1231 (2005)
31. M. Guo, P. Diao, and S. M. Cai, J. Solid State Chem., 178, 1864 (2005)
32. B. Liu and H. C. Zeng, J. Am. Chem. Soc., 125, 4430 (2003)
33. S. M. George, Chem. Rev., 110, 111 (2010)
34. W. C.Wang,C. W. Lin,H. J.Chen, C. W. Chang, J. J. Huang,M. J.Yang, B. Tjahjono, J. J. Huang,W. C. Hsu, and M. J. Chen, ACS Appl. Mater. Interfaces, 5, 9752 (2013)
35. H. C. Chen,M. J. Chen, T. C. Liu, J. R. Yang, andM. Shiojiri, Thin Solid Films, 519, 536 (2010)
36. M. J. Chen, Y. T. Shih,M. K.Wu, and F. Y. Tsai, J. Appl. Phys., 101, 033130 (2007)
37. H. Iwanaga, A. Kunishige, and S. Takeuchi, J. Mater. Sci., 35, 2451 (2000)
38. K. G. Lyon, G. L. Salinger, C. A. Swenson, and G. K. White, J. Appl. Phys., 48, 865 (1977)
39. Y. C. Chao, C. Y. Chen, C. A. Lin, Y. A. Dai, and J. H. He, J. Mater. Chem., 20, 8134 (2010)
40. E. Harkonen, S. E. Potts, W. M. M. Kessels, B. Diaz, A. Seyeux, J. Swiatowska, V. Maurice, P. Marcus, G. Radnoczi, L. Toth,M. Kariniemi, J. Niinisto, and M. Ritala, Thin Solid Films, 534, 384 (2013)
41. B. Diaz, E. Harkonen, J. Swiatowska, V. Maurice, A. Seyeux, P. Marcus, and M. Ritala, Corros. Sci., 53, 2168 (2011)
42. N. Kim, W. J. Potscavage, B. Domercq, B. Kippelen, and S. Graham, Appl. Phys. Lett., 94, 163308 (2009)
43. P. F. Carcia, R. S. McLean,M. D. Groner, A. A. Dameron, and S. M. George, J. Appl. Phys., 106, 023533 (2009).