A thin film encapsulation layer fabricated via initiated chemical vapor deposition and atomic layer deposition

Journal of Applied Polymer Science

Volumn 131, Issue 24, 2014, Pages

  Kim, Bong Jun ^a   Kim, Do Heung ^a   Kang, Seung Youl ^b   Ahn, Seong Deok ^b   Im, Sung Gap ^a  

^a Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

^b Next Generation Display Research Department   (South Korea)

Author keywords

Films; Property relations; Radical polymerization; Structure

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ELECTRONIC EQUIPMENT; FILM PREPARATION; FILMS; FREE RADICAL POLYMERIZATION; LIGHT; OPTICAL PROPERTIES; ORGANIC POLYMERS; STRUCTURE (COMPOSITION); THERMOELECTRIC EQUIPMENT;

INITIATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONS; LIGHT TRANSMITTANCE; ORGANIC ELECTRONIC DEVICES; ORGANIC/INORGANIC HYBRIDS; PROPERTY RELATIONS; THIN FILM ENCAPSULATION; VISIBLE LIGHT REGION; WATER VAPOR TRANSMISSION RATE;

THIN FILMS;

EID: 84920265001     PISSN: 00218995     EISSN: 10974628     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/app.40974     Document Type: Article

References (25)

1. Burrows, P. E.; Graff, G. L.; Gross, M. E.; Martin, P. M.; Shi, M. K.; Hall, M.; Mast, E.; Bonham, C.; Bennett, W.; Sullivan, M. B. Displays 2001, 22, 65.
2. Dennler, G.; Lungenschmied, C.; Neugebauer, H.; Sariciftci, N. S.; Latrèche, M.; Czeremuszkin, G., Wertheimer, M. R. Thin Solid Films. 2006, 511-512, 349.
3. Burrows, P. E.; Graff, G. L.; Gross, M. E.; Martin, P. M.; Hall, M.; Mast, E.; Bonham, C.; Bennett, W.; Michalski, L.; Weaver, M.; Brown, J. J.; Fogarty, D.; Sapochak, L. S. Proc. SPIE 2001, 4105, 75.
4. Burrows, P. E.; Bulovic, V.; Forrest, S. R.; Sapochack, L. S.; McCarty, D. M.; Thompson, M. E. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2922.
5. Weaver, M. S.; Michalski, L. A.; Rajan, K.; Rothman, M. A.; Silvernail, J. A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2929.
6. Park, J.; Chae, H.; Chung, H. K.; Lee, S. I. Semicond. Sci. Tech. 2011, 26, 034001.
7. Jung, K. H.; Bae, J.; Park, S. J.; Yoo, S.; Bae, B. J. Mater. Chem. 2011, 21, 1977.
8. Im, S. G.; Gleason, K. K. AlChE J. 2011, 57, 276.
9. Tenhaeff, W. E.; Gleason, K. K. Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 979.
10. Lau, K. K. S.; Gleason, K. K. Macromolecules 2006, 39, 3688.
11. Aresta, G.; Palmans, J.; van de Sanden, M. C. M.; Creatore, M. Micropor. Mesopor. Mat. 2012, 151, 434.
12. Coclite, A. M.; Ozaydin-Ince, G.; Palumbo, F.; Milella, A.; Gleason, K. K. Plasma Process Polym. 2010, 7, 561.
13. Perrotta, A.; van Beekum, E. R. J; Aresta, G.; Jagja, A.; Keuning, W.; van de Sanden, R. M. C. M.; Kessels, E. W. M. M.; Creatore, M. Micropor. Mesopor. Mat. 2014, 188, 163.
14. George, S. M. Chem. Rev. 2010, 110, 111.
15. Clark, M. D.; Jespersen, M. L.; Patel, R. J.; Leever, B. J. Org. Electron. 2014, 15, 1.
16. Affinito, J. D.; Eufinger, S.; Cross, M. E.; Graff, G. L.; Martin, P. M. Thin Solid Films 1997, 308-309, 19.
17. Bertrand, J. A.; George, S. M. J. Vac. Sci. Technol. A 2013, 31, 01A122.
18. Kim, N.; Potscavage, W. J. Jr.; Sundaramoothi, A.; Henderson, C.; Kippelen, B.; Graham, S. Sol. Energ. Mat. Sol. C 2006, 101, 140.
19. Seo, S.; Jung, E.; Chae, H.; Cho, S. M. Org. Electron. 2012, 13, 2436.
20. Seo, S.; Jung, E.; Seo, S. J.; Chae, H.; Chung, H. K.; Cho, S. M. J. Appl. Phys. 2013, 114, 143505.
21. Lewis, J. S.; Weaver, M. S. IEEE J. Sel. Topics Quantum Electron. 2004, 10, 45.
22. Chwang, A. B.; Rothman, M. A.; Mao, S. Y.; Hewitt, R. H.; Weaver, M. S. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 413.
23. Wong, F. L.; Fung, M. K.; Tao, S. L.; Lai, S. L.; Tsang, W. M.; Kong, K. H.; Choy, W. M.; Lee, C. S.; Lee, S. T. J. Appl. Phys. 2008, 104, 104509.
24. Kim, N.; Graham, S. Thin Solid Films 2013, 547, 57.
25. Seo, S.; Chae, H.; Seo, S. J.; Chung, H. K.; Cho, S. M. Appl. Phys. Lett. 2013, 102, 161908.