-
1
-
-
2542422532
-
-
10.1063/1.118824
-
D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997). 10.1063/1.118824
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.70
, pp. 2230
-
-
Bagnall, D.M.1
Chen, Y.F.2
Zhu, Z.3
Yao, T.4
Koyama, S.5
Shen, M.Y.6
Goto, T.7
-
2
-
-
0001424613
-
-
10.1063/1.121830
-
R. D. Vispute, V. Talyansky, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, M. He, X. Tang, J. B. Halpern, M. G. Spencer, Y. X. Li, L. G. Salamanca-Riba, A. A. Iliadis, and K. A. Jones, Appl. Phys. Lett. 73, 348 (1998). 10.1063/1.121830
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.73
, pp. 348
-
-
Vispute, R.D.1
Talyansky, V.2
Choopun, S.3
Sharma, R.P.4
Venkatesan, T.5
He, M.6
Tang, X.7
Halpern, J.B.8
Spencer, M.G.9
Li, Y.X.10
Salamanca-Riba, L.G.11
Iliadis, A.A.12
Jones, K.A.13
-
3
-
-
33646889389
-
-
10.1063/1.2204655
-
M. C. Jeong, B. Y. Oh, M. H. Ham, and J. M. Myoung, Appl. Phys. Lett. 88, 202105 (2006). 10.1063/1.2204655
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 202105
-
-
Jeong, M.C.1
Oh, B.Y.2
Ham, M.H.3
Myoung, J.M.4
-
4
-
-
1042289088
-
-
10.1002/adma.200305729
-
W. I. Park and G. C. Yi, Adv. Mater. 16 (1), 87-90 (2004). 10.1002/adma.200305729
-
(2004)
Adv. Mater.
, vol.16
, Issue.1
, pp. 87-90
-
-
Park, W.I.1
Yi, G.C.2
-
5
-
-
84860320265
-
-
10.1063/1.4706259
-
J. J. Dong, X. W. Zhang, Z. G. Yin, J. X. Wang, S. G. Zhang, F. T. Si, H. L. Gao, and X. Liu, Appl. Phys. Lett. 100, 171109 (2012). 10.1063/1.4706259
-
(2012)
Appl. Phys. Lett.
, vol.100
, pp. 171109
-
-
Dong, J.J.1
Zhang, X.W.2
Yin, Z.G.3
Wang, J.X.4
Zhang, S.G.5
Si, F.T.6
Gao, H.L.7
Liu, X.8
-
8
-
-
78650626595
-
-
10.1002/adfm.201001678
-
K. W. Min, Y. K. Kim, G. Shin, S. Jang, M. Han, J. Huh, G. T. Kim, and J. S. Ha, Adv. Funct. Mater. 21, 119 (2011). 10.1002/adfm.201001678
-
(2011)
Adv. Funct. Mater.
, vol.21
, pp. 119
-
-
Min, K.W.1
Kim, Y.K.2
Shin, G.3
Jang, S.4
Han, M.5
Huh, J.6
Kim, G.T.7
Ha, J.S.8
-
9
-
-
66149109586
-
-
10.1002/adma.200802907
-
H. Zhu, C. X. Shan, B. Yao, B. H. Li, J. Y. Zhang, Z.-Z. Zhang, D. X. Zhao, D. Z. Shen, X. W. Fan, Y. M. Lu, and Z. K. Tang, Adv. Mater. 21, 1613 (2009). 10.1002/adma.200802907
-
(2009)
Adv. Mater.
, vol.21
, pp. 1613
-
-
Zhu, H.1
Shan, C.X.2
Yao, B.3
Li, B.H.4
Zhang, J.Y.5
Zhang, Z.-Z.6
Zhao, D.X.7
Shen, D.Z.8
Fan, X.W.9
Lu, Y.M.10
Tang, Z.K.11
-
10
-
-
84862124847
-
-
10.1063/1.4724212
-
H. H. Huang, G. J. Fang, Y. Li, S. Z. Li, X. M. Mo, H. Long, H. N. Wang, D. L. Carroll, and X. Z. Zhao, Appl. Phys. Lett. 100, 233502 (2012). 10.1063/1.4724212
-
(2012)
Appl. Phys. Lett.
, vol.100
, pp. 233502
-
-
Huang, H.H.1
Fang, G.J.2
Li, Y.3
Li, S.Z.4
Mo, X.M.5
Long, H.6
Wang, H.N.7
Carroll, D.L.8
Zhao, X.Z.9
-
11
-
-
67649815926
-
-
10.1063/1.3054175
-
C. H. Ahn, Y. Y. Kim, D. C. Kim, S. K. Mohanta, and H. K. Cho, J. Appl. Phys. 105, 013502 (2009). 10.1063/1.3054175
-
(2009)
J. Appl. Phys.
, vol.105
, pp. 013502
-
-
Ahn, C.H.1
Kim, Y.Y.2
Kim, D.C.3
Mohanta, S.K.4
Cho, H.K.5
-
12
-
-
84869066412
-
-
10.1088/0022-3727/45/48/485103
-
L. C. Zhang, Q. S. Li, L. Shang, Z. J. Zhang, R. Z. Huang, and F. Z. Zhao, J. Phys. D: Appl. Phys. 45, 485103 (2012). 10.1088/0022-3727/45/48/485103
-
(2012)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.45
, pp. 485103
-
-
Zhang, L.C.1
Li, Q.S.2
Shang, L.3
Zhang, Z.J.4
Huang, R.Z.5
Zhao, F.Z.6
-
13
-
-
79955991177
-
-
10.1063/1.1447312
-
M. T. Bjork, B. J. Ohlsson, T. Sass, A. I. Persson, C. Thelander, M. H. Magnusson, K. Deppert, L. R. Wallenberg, and L. Samuelson, Appl. Phys. Lett. 80, 1058 (2002). 10.1063/1.1447312
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.80
, pp. 1058
-
-
Bjork, M.T.1
Ohlsson, B.J.2
Sass, T.3
Persson, A.I.4
Thelander, C.5
Magnusson, M.H.6
Deppert, K.7
Wallenberg, L.R.8
Samuelson, L.9
-
14
-
-
3042835508
-
-
10.1021/nl049615a
-
H. M. Kim, Y. H. Cho, H. Lee, S. I. Kim, S. R. Ryu, D. Y. Kim, T. W. Kang, and K. S. Chung, Nano Lett. 4, 1059 (2004). 10.1021/nl049615a
-
(2004)
Nano Lett.
, vol.4
, pp. 1059
-
-
Kim, H.M.1
Cho, Y.H.2
Lee, H.3
Kim, S.I.4
Ryu, S.R.5
Kim, D.Y.6
Kang, T.W.7
Chung, K.S.8
-
15
-
-
84867812844
-
-
10.1063/1.4760271
-
T. Wang, H. Wu, Z. Wang, C. Chen, and C. Liu, Appl. Phys. Lett. 101, 161905 (2012). 10.1063/1.4760271
-
(2012)
Appl. Phys. Lett.
, vol.101
, pp. 161905
-
-
Wang, T.1
Wu, H.2
Wang, Z.3
Chen, C.4
Liu, C.5
-
16
-
-
84864424495
-
-
10.1063/1.4739002
-
G. Y. Zhu, C. X. Xu, Y. Lin, Z. L. Shi, J. T. Li, T. Ding, Z. S. Tian, and G. F. Chen, Appl. Phys. Lett. 101, 041110 (2012). 10.1063/1.4739002
-
(2012)
Appl. Phys. Lett.
, vol.101
, pp. 041110
-
-
Zhu, G.Y.1
Xu, C.X.2
Lin, Y.3
Shi, Z.L.4
Li, J.T.5
Ding, T.6
Tian, Z.S.7
Chen, G.F.8
-
17
-
-
84255214123
-
-
10.1186/1556-276X-6-130
-
N. H. Alvi, K. Ul Hasan, O. Nur, and M. Willander, Nanoscale Res. Lett. 6, 130 (2011). 10.1186/1556-276X-6-130
-
(2011)
Nanoscale Res. Lett.
, vol.6
, pp. 130
-
-
Alvi, N.H.1
Ul Hasan, K.2
Nur, O.3
Willander, M.4
-
18
-
-
84863362567
-
-
10.1063/1.3692584
-
M. Wang, Y. Zhou, Y. Zhang, E. J. Kim, S. H. Hahn, and S. G. Seong, Appl. Phys. Lett. 100, 101906 (2012). 10.1063/1.3692584
-
(2012)
Appl. Phys. Lett.
, vol.100
, pp. 101906
-
-
Wang, M.1
Zhou, Y.2
Zhang, Y.3
Kim, E.J.4
Hahn, S.H.5
Seong, S.G.6
-
19
-
-
84863686447
-
-
10.1063/1.4733298
-
J. S. Liu, C. X. Shan, H. Shen, B. H. Li, Z. Z. Zhang, L. Liu, L. G. Zhang, and D. Z. Shen, Appl. Phys. Lett. 101, 011106 (2012). 10.1063/1.4733298
-
(2012)
Appl. Phys. Lett.
, vol.101
, pp. 011106
-
-
Liu, J.S.1
Shan, C.X.2
Shen, H.3
Li, B.H.4
Zhang, Z.Z.5
Liu, L.6
Zhang, L.G.7
Shen, D.Z.8
|